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公开(公告)号：CN107980070A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201580077519.2
申请日：2015-07-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·凯勒 , 诺伯特·施帕茨
Abstract: 描述一种用于金属或金属合金的蒸发源(100)。蒸发源包括：蒸发坩锅(104)，其中蒸发坩锅配置为蒸发金属或金属合金；分布管(106)，具有一或多个出口(712)，沿着分布管的长度提供，其中分布管流体连通于蒸发坩锅，其中分布管进一步包括第一外部管(234)和第一内部管(232)，以及其中分布管和蒸发坩锅提供成单一件。
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公开(公告)号：CN107078215A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201480083222.2
申请日：2014-11-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 乌韦·许斯勒 , 安德烈亚斯·勒普 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
IPC: H01L51/00 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C16/455
Abstract: 描述了一种用于在真空腔室(110)中在基板(121)上沉积蒸发的材料的线性分布管(106)。线性分布管(106)包括沿着第一方向(136)延伸的分布管壳体(116)，其中第一方向提供线性分布管的线性延伸，且其中分布管壳体包括第一壳体材料。线性分布管(106)进一步包括位于分布管壳体(116)中的多个开孔，其中这些开孔沿着线性分布管的线性延伸而分布。另外，线性分布管壳体(116)包括用于线性分布管(106)的多个喷嘴(712)，其中这些喷嘴(712)经构造以引导真空腔室(110)中的蒸发的材料。这些喷嘴(712)包括第一喷嘴材料，第一喷嘴材料具有大于第一壳体材料和/或大于21W/mk的热传导率。
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公开(公告)号：CN103608958B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201280028183.7
申请日：2012-06-04
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 秉-圣·郭 , 斯蒂芬·班格特 , 迪特尔·哈斯 , 奥姆卡尔姆·纳兰姆苏
IPC: H01M10/04 , H01M10/0585 , H01M6/40
CPC classification number: H01M10/0436 , H01M4/0423 , H01M4/0426 , H01M4/134 , H01M4/1395 , H01M4/382 , H01M6/188 , H01M6/40 , H01M6/50 , H01M10/0404 , H01M10/052 , Y02E60/122 , Y02P70/54
Abstract: 本文描述用于制造薄膜电池的方法与混合型工厂。方法包括用于制造薄膜电池的操作。混合型工厂包括用于制造薄膜电池的一个或多个工具组。在实例中，用于制造锂基薄膜电池的混合工厂架构包括用于沉积有源层的处理工具。处理工具包括用于沉积有源层的群集工具。混合工厂架构还包括用于沉积有源层的内嵌工具和锂蒸镀工具，所述锂蒸镀工具具有将锂蒸镀工具耦接至群集工具和内嵌工具的一个或多个手套箱。
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公开(公告)号：CN102668215B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201080051599.1
申请日：2010-10-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01M10/04 , H01M10/0562 , H01M6/18 , H01G9/025
CPC classification number: H01M6/40 , C23C14/042 , H01M4/02 , H01M4/13 , H01M4/139 , H01M4/5825 , H01M4/621 , H01M4/623 , H01M4/663 , H01M2004/028 , Y02E60/122 , Y10T29/49002 , Y10T29/5313
Abstract: 一种用于基板的薄膜处理的磁性处理组件，一种用于组装和拆卸阴影掩膜以覆盖工件的顶部以暴露于处理条件的系统和方法。所述组件可包括：磁性处理载体以及阴影掩膜，所述阴影掩膜设置于所述磁性处理载体上方并磁性耦合至所述磁性处理载体，以覆盖当暴露于处理条件时将被设置在所述阴影掩膜和所述磁性处理载体之间的工件。一种系统包括：第一腔室，所述第一腔室具有保持所述阴影掩膜的第一支架；保持处理载体的第二支架；以及对准阴影掩膜和将被设置在载体和所述阴影掩膜之间的工件的对准系统。所述第一支架和所述第二支架可相对于彼此移动。
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公开(公告)号：CN110494587B
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN201880003483.7
申请日：2018-03-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 托马索·维尔切斯 , 斯蒂芬·班格特
Abstract: 本公开内容提供了一种处理基板的方法。所述方法包括：将具有多个沉积开口(21)的掩模运输到处理腔室中；将具有背面图案(11)的基板运输到所述处理腔室中；使所述基板(10)相对于所述掩模(20)对准(780)；和用光学检查装置(440)来至少局部地检查(790)所述多个沉积开口(21)与所述背面图案(11)之间的偏移。
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公开(公告)号：CN107002219B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN201480084006.X
申请日：2014-12-10
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/04 , C23C16/04 , C23C16/458
Abstract: 提供一种用于在处理腔室中掩蔽基板(10)的掩模布置(100)。掩模布置(100)包括：掩模框架(110)，所述掩模框架具有一个或多个框架元件(112、114、116、118)并且被配置为支撑掩模器件(120)，其中掩模器件(120)可连接到掩模框架(110)；以及至少一个致动器(130)，所述至少一个致动器可连接到一个或多个框架元件(112、114、116、118)中的至少一个框架元件(112)，其中至少一个致动器(130)被配置为向所述至少一个框架元件(112)施加力。
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公开(公告)号：CN112534564A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201880096334.X
申请日：2018-08-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 于尔根·亨里奇 , 安德里亚斯·索尔 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧
IPC: H01L21/677 , H01L51/00
Abstract: 说明了一种用以在真空腔室中沉积材料于基板上的材料沉积设备。这种材料沉积设备包括掩模传送轨道，掩模传送轨道的至少一部份设置于真空腔室中，掩模传送轨道经装配以支撑掩模载体来支承掩模组件，掩模组件具有掩模框架及掩模；掩模平台，经装配以支撑掩模组件；以及支承装置，耦接于掩模平台，及经装配以用于基本上垂直定向的掩模组件的移交或传送。
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公开(公告)号：CN108966659B
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201780007161.5
申请日：2017-04-12
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了一种用于沉积已蒸发材料于基板上的沉积系统(100)。沉积系统(100)包括蒸汽源(120)，具有一个或多个蒸汽出口(125)；屏蔽物(110)；和冷却装置(112)，用于冷却屏蔽物，其中蒸汽源(120)可移动至空载位置(I)，一个或多个蒸汽出口(125)在空载位置中被导引朝向屏蔽物(110)。此外，描述了一种具有沉积系统(100)的沉积设备(1000)和一种操作沉积系统的方法。
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