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公开(公告)号：CN103034066A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201210357911.0
申请日：2012-09-24
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： 简·伯纳德·普莱彻尔墨斯·范斯库特 , 亨瑞克斯·罗伯特斯·玛丽·范格瑞文波奥克 , V·V·伊万诺夫 , A·M·雅库尼恩 , H·J·M·柯鲁维尔
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70558 , G03F7/70033 , G03F7/70041
摘要： 本发明公开了用于控制EUV曝光剂量的方法和EUV光刻方法及使用这样的方法的设备。光刻设备中的EUV曝光剂量通过改变转换效率而被从脉冲至脉冲控制，以该转换效率通过对应的激励激光辐射脉冲激励燃料材料产生EUV辐射脉冲。转换效率可以以几种不同的方式改变，通过改变与激光束相交的燃料材料的比例，和/或通过改变相互作用的品质。改变转换效率的机制可以基于激光脉冲时序的变化、预先脉冲能量的变化、和/或在一个或更多的方向上的主激光束的可变化的位移。可以包括保持所产生的EUV辐射的对称性的步骤。
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公开(公告)号：CN101785368B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200880103732.6
申请日：2008-08-20
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 一种辐射源，包括腔和用于产生等离子体的物质的供给装置，所述源具有相互作用点，在该相互作用点处，被引入到所述腔中的所述用于产生等离子体的物质可以与激光束相互作用，并且因此产生辐射发射等离子体，其中所述源进一步包括被布置以将缓冲气体传递到所述腔中的导管，所述导管具有邻近所述相互作用点处的出口。
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公开(公告)号：CN101569243B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200780046938.5
申请日：2007-12-19
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： H05G2/001 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70916
摘要： 本发明提供一种减少等离子体辐射源中的快离子的方法。本发明公开一种具有阳极和阴极的辐射源以在阳极和阴极之间的放电空间内产生放电。在辐射源中形成等离子体，这产生例如EUV辐射的电磁辐射。辐射源包括第一激活源以将第一能量脉冲引导到放电空间附近的辐射源中的第一点上，以产生触发放电的主等离子体通道。辐射源还具有第二激活源以将第二能量脉冲引导到放电空间附近的辐射源中的第二点上，以便产生附加的等离子体通道。通过在同一的放电期间引导第二能量脉冲，实现主等离子体电流的短接，这又会减小快离子产生的量。
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公开(公告)号：CN102016723A
公开(公告)日：2011-04-13
申请号：CN200980114405.5
申请日：2009-04-16
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： L·斯卡克卡巴拉兹 , V·V·伊万诺夫 , K·N·克什烈夫 , J·H·J·莫尔斯 , L·H·J·斯蒂文斯 , P·S·安提斯弗诺夫 , V·M·克里夫特逊 , L·A·多若克林 , M·范卡朋
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： 一种光刻设备，包括被配置以调节辐射束的照射系统和被配置以支撑图案形成装置的支撑结构。图案形成装置被配置以将图案赋予辐射束。所述设备包括图案形成装置清洁系统，所述图案形成装置清洁系统被配置以提供静电力至污染物颗粒，所述污染物颗粒位于图案形成装置上且通过辐射束被施以电荷，以便从图案形成装置移除污染物颗粒。
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公开(公告)号：CN101785369A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880103760.8
申请日：2008-08-25
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： T·A·R·范因佩尔 , V·Y·班宁 , V·V·伊万诺夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·B·P·范斯库特 , Y·J·G·范德维杰威 , G·H·P·M·斯温克尔斯 , H·G·诗密尔 , D·莱伯斯克依 , J·H·J·摩尔斯
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , G03F7/70175 , G03F7/70916 , G03F7/70983 , H05G2/005 , H05G2/008
摘要： 一种用于产生极紫外辐射的模块(1)包括：供给装置，该供给装置被配置以将点燃材料的液滴供给到预定目标点燃位置上；激光器(6)，该激光器被布置以聚焦到该预定目标点燃位置上并通过撞击位于预定目标点燃位置处的这样的液滴(4)来产生等离子体，以便将液滴变成用于产生极紫外辐射的等离子体。另外，模块包括收集反射镜(12)，该收集反射镜具有反射镜表面(14)，该反射镜表面被构造和布置以反射辐射，以便将辐射聚焦到焦点(FP)上。流体供给装置(2)被构造和布置以在横向于反射镜表面的方向上形成远离反射镜表面流动的气流(GF)，以便减缓由等离子体产生的颗粒碎片。
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公开(公告)号：CN101785368A
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：CN200880103732.6
申请日：2008-08-20
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H05G2/00
摘要： 一种辐射源，包括腔和用于产生等离子体的物质的供给装置，所述源具有相互作用点，在该相互作用点处，被引入到所述腔中的所述用于产生等离子体的物质可以与激光束相互作用，并且因此产生辐射发射等离子体，其中所述源进一步包括被布置以将缓冲气体传递到所述腔中的导管，所述导管具有邻近所述相互作用点处的出口。
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公开(公告)号：CN101690419A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200880024087.9
申请日：2008-07-28
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： H05G2/00
CPC分类号： H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/005
摘要： 本发明公开了配置以产生用于光刻设备的辐射的源。所述源包括阳极和阴极。阴极和阳极被配置以在阳极和阴极之间的放电空间中的燃料中产生放电，以便产生等离子体，阴极和阳极彼此相对地定位，使得在使用中在阳极和阴极之间延伸的电流线大致弯曲，以便产生大致径向地压缩仅在阴极或阳极的上表面附近的区域中的等离子体的力。
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公开(公告)号：CN101569243A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：CN200780046938.5
申请日：2007-12-19
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： H05G2/001 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/70916
摘要： 本发明提供一种减少等离子体辐射源中的快离子的方法。本发明公开一种具有阳极和阴极的辐射源以在阳极和阴极之间的放电空间内产生放电。在辐射源中形成等离子体，这产生例如EUV辐射的电磁辐射。辐射源包括第一激活源以将第一能量脉冲引导到放电空间附近的辐射源中的第一点上，以产生触发放电的主等离子体通道。辐射源还具有第二激活源以将第二能量脉冲引导到放电空间附近的辐射源中的第二点上，以便产生附加的等离子体通道。通过在同一的放电期间引导第二能量脉冲，实现主等离子体电流的短接，这又会减小快离子产生的量。
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公开(公告)号：CN101438631A
公开(公告)日：2009-05-20
申请号：CN200780016104.X
申请日：2007-04-27
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H05G2/005
摘要： 本发明公开了一种通过电操作放电产生辐射的设备，所述设备具有第一电极(喷嘴21a产生)、第二电极和电容器组(24)。该电极被彼此间隔一定距离配置以便允许等离子体激发。该电容器组的第一终端(A)电连接到该第一电极而第二终端(B)电连接到该第二电极，并被配置成存储放电能量。该电极和电容器组组成电路。至少该第一电极通过经由第一馈送管线(45)提供的电传导流体形成。该设备还具有充电器(51)和第一高电感单元(50)。该充电器连接到所述终端中的至少一个。该第一高电感单元被设置在该第一馈送管线中的该第一终端上游以电解耦该电路。
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