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公开(公告)号：CN1179541C
公开(公告)日：2004-12-08
申请号：CN98109272.1
申请日：1996-05-21
申请人： 索尼公司
CPC分类号： H04N1/32128 , G03B1/50 , G03B17/24 , G03B17/245 , G03B17/48 , G03B27/462 , G03B27/52 , G03B27/6285 , G03B2206/004 , G03B2206/006 , G03B2217/243 , G03B2217/244 , G03B2217/246 , G03B2217/247 , G03B2217/248 , H04N1/00127 , H04N1/00129 , H04N1/00143 , H04N1/00249 , H04N1/00265 , H04N1/00267 , H04N1/0027 , H04N1/00326 , H04N1/00962 , H04N1/0402 , H04N1/0405 , H04N1/0432 , H04N1/0458 , H04N1/1017 , H04N1/193 , H04N1/195 , H04N1/32133 , H04N2201/0055 , H04N2201/0075 , H04N2201/0404 , H04N2201/0408 , H04N2201/3225 , H04N2201/3226 , H04N2201/3242 , H04N2201/3243 , H04N2201/3254 , H04N2201/3277
摘要： 一种摄影和视频系统，该系统包括摄影印像机机身，用于馈送照相胶卷的胶卷馈送装置，用于将摄影图像转变成视频信号的图像转变装置，用于检测位置标志的检测装置，该标志是孔或是以光或磁的方式记录在摄影胶卷上的，检测装置还用于检测记录在胶卷上的宽长比信息，以及位于印像机机身上的胶卷馈送控制装置，用于根据由检测装置检测的帧位置标志控制摄影胶卷的馈送，并根据检测装置检测的宽长比信息控制图像转变装置。
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公开(公告)号：CN1530753A
公开(公告)日：2004-09-22
申请号：CN200410028478.1
申请日：2004-03-12
申请人： 佳能株式会社
发明人： 冈田芳幸
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70883 , G03B27/52 , G03F7/70258 , G03F7/70516 , G03F7/70575
摘要： 一种曝光装置，具有检测气压的气压计、驱动投影光学系统的透镜的透镜驱动单元、改变曝光光源的波长的光源波长驱动单元、和可以在光轴方向上驱动晶片台的晶片台驱动单元，可以通过透镜驱动单元、光源波长驱动单元和晶片台驱动单元校正由于气压变动产生的象差。这里，在该曝光装置的拍摄曝光中用透镜驱动单元和/或晶片台驱动单元校正象差，在非曝光时(拍摄之间)用光源波长驱动单元和/或透镜驱动单元和晶片台驱动单元校正象差。
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公开(公告)号：CN106324972A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201510337634.0
申请日：2015-06-17
申请人： 中兴通讯股份有限公司
IPC分类号： G03B27/52
CPC分类号： G03B27/52
摘要： 本发明提供一种图片打印装置，包括壳体，用于容纳相纸的纸盒装置和用于显示和曝光图片的显示屏，所述纸盒装置和显示屏收容于壳体内并且两者之间具有密闭的黑暗空间，所述打印装置还包括用于驱动所述相纸运动并且将图片成形在所述相纸上的辊轴装置，及与所述显示屏和辊轴装置连接的电路板；本发明的打印装置能够迅速取照片的功能并且便于随身携带。
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公开(公告)号：CN105446068A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201510999892.5
申请日：2015-12-24
摘要： 本发明提供一种蓝图制图设备及蓝图制图方法，所述设备包括、图像曝光装置、纸张搬运装置及控制装置，通过控制装置控制图像曝光装置曝光，控制纸张搬运装置移动光敏感光纸；利用液晶显示层显示待曝光的电子图档图像，并将该电子图档图像曝光在光敏感光纸上，然后对曝光后的光敏感光纸进行晒图得到蓝图。本发明省略了打印硫酸图的步骤，节省了人力物力财力，提高了蓝图制备效率。
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公开(公告)号：CN102749811B
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201210222498.7
申请日：2005-06-03
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/52 , G03F7/70333
摘要： 本发明公开一种以倾斜掩膜板或晶片进行多焦点扫描的方法，于光刻步进及扫描投影系统中实现于两或多个失焦位置之两或多个失焦晶片图像之分离重叠的方法。该方法包含使掩膜板及晶片中之一个相对于扫描方向倾斜，以及将光束分开于位于该掩膜板之不同失焦区中之至少两个发光区域。
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公开(公告)号：CN102650834B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201210048047.6
申请日：2012-02-28
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： F·J·J·范鲍克斯台尔 , P·达姆波沃尔 , A·A·H·范德斯泰恩 , R·B·J·科尔德维基
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/52 , G03F7/70891
摘要： 本发明公开了一种气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法。所述气体歧管用以在光刻设备的光学部件的两个平行板之间引导气流，所述气体歧管包括：入口，用以提供气流至气体歧管；格构件，包括用以使所述气流均匀化的多个通孔；位于所述格构件下游的收缩装置，用以减小气流流过的横截面面积；和位于收缩装置下游的出口，用以提供气流至所述两个平行板。
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公开(公告)号：CN102193342B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201110039003.2
申请日：2011-02-15
申请人： 东京毅力科创株式会社
CPC分类号： G03B27/52 , G03F7/3021 , H01L21/6715 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67745 , H01L21/67748 , H01L21/68742 , H01L21/68785
摘要： 本发明提供一种在基板整个表面形成均匀性高的显影液的液膜并且得到高的生产率的涂覆-显影装置和显影方法。涂覆-显影装置包括：显影组件；清洗组件；向上述清洗组件输送由上述显影组件进行了显影的基板的输送机构，上述显影组件包括：形成处理气氛的气密的处理容器；设于该处理容器内、用于载置并冷却基板的调温板；向上述处理容器内供给含有显影液的雾的气氛气体的蒸气供给部；用于将上述调温板调整成上述蒸气在基板上结露的温度的温度调整部。因为显影组件和清洗组件能并行地进行处理，所以得到高的生产率。
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公开(公告)号：CN101750863B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200810207354.8
申请日：2008-12-19
申请人： 上海普利生机电科技有限公司
发明人： 侯锋
摘要： 本发明涉及一种双面扩印方法和装置，该方法包括如下步骤。首先，使相纸进入一曝光台并以第一表面面向曝光器，进行第一次曝光；然后，将所述相纸由所述曝光台传送至一翻面机构；当检测到所述相纸的前端到达所述翻面机构时，翻转所述翻面机构而使所述相纸的第二表面面向所述曝光器；之后，将所述相纸由所述翻面机构传送至所述曝光台，进行第二次曝光。
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公开(公告)号：CN102298943A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN201110038765.0
申请日：2011-02-16
申请人： 索尼公司 , 索尼信息技术股份有限公司
CPC分类号： G03B27/52 , G11B7/1267 , G11B7/261 , G11B7/263
摘要： 一种曝光装置包括：曝光单元，其利用通过透镜系统聚焦的第一激光束，在包括扫描方向上安排的凹坑和平台的图案中，选择性地对抗蚀层执行曝光；检测单元，其检测通过透镜系统施加到选择性地曝光给第一激光束的抗蚀层的第二激光束的反射，通过改变透镜系统的焦距产生所述第二激光束，使得防止抗蚀层对第二激光束产生响应；计算单元，其从检测结果计算表示分别从具有最小宽度和较大宽度的图案的第一部分和第二部分反射的束的信号波形的中心轴之间的位移；设置单元，其设置透镜系统的焦距为这样的值，使得该位移最大；以及控制单元，其控制曝光单元以将抗蚀层曝光给利用由设置单元设置的焦距聚焦的第一激光束。
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公开(公告)号：CN100578364C
公开(公告)日：2010-01-06
申请号：CN200710110599.4
申请日：2007-06-04
申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03B27/52 , G03F7/70341 , G03F7/70925
摘要： 本发明公开了一种适用于浸润式微影制程的方法与系统。此方法包括：供应浸润流体给位于影像透镜和欲进行图案化的基材两者之间的空间。在位于此空间的浸润流体中产生电场。其中电场会促使微粒离开基材表面。藉由浸润流体体将微粒从基材表面移除。之后补充空间之中的浸润流体，并在基材表面进行微影曝光制程。本发明还公开了浸润式微影系统。本发明可以在不影响微影扫瞄器运作的前提下，轻易移除基材表面上的微粒。
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