公开(公告)号：CN102386069A

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN201110241085.9

申请日：2011-08-22

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 朴炳建 ,  朴钟力 ,  郑胤谟 ,  李卓泳 ,  徐晋旭 ,  李基龙 ,  郑珉在 ,  孙榕德 ,  苏炳洙 ,  朴承圭 ,  李东炫 ,  李吉远 ,  郑在琓

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L27/32

CPC classification number: H01L27/3244 ,  H01L21/0245 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02667 ,  H01L21/02672 ,  H01L27/1277 ,  H01L27/3262 ,  H01L29/1033 ,  H01L29/66765 ,  H01L29/78609 ,  H01L29/78675 ,  H01L29/78678

Abstract: 一种形成多晶硅层的方法，包括形成第一非晶硅层和形成第二非晶硅层，使得所述第一非晶硅层和所述第二非晶硅层具有彼此不同的膜性质；和用金属催化剂使所述第一非晶硅层和所述第二非晶硅层结晶，以形成第一多晶硅层和第二多晶硅层。一种薄膜晶体管包括由所述方法形成的多晶硅层，和一种有机发光装置包括所述薄膜晶体管。

公开(公告)号：CN1734788B

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN200410103377.6

申请日：2004-12-31

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 李根洙 ,  朴炳建

IPC: H01L29/786 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L21/02672 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02595 ,  H01L21/2022 ,  H01L21/2026 ,  H01L29/4908 ,  H01L29/66757 ,  H01L29/78675

Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管及其制造方法。薄膜晶体管包括：绝缘衬底；和在衬底上形成的半导体层、栅绝缘层、栅电极、层间绝缘体以及源/漏电极，其中栅绝缘层由具有1到20埃厚度的过滤氧化物层和氧化硅层或/和氮化硅层的单层或双层形成。该半导体层由通过超晶粒硅结晶技术结晶的多晶硅层形成，在结晶过程中，由金属催化剂构成的金属催化剂层形成在该过滤氧化物层上，该过滤氧化物层过滤金属催化剂的扩散，以便少量的金属催化剂被扩散。

公开(公告)号：CN101866853A

公开(公告)日：2010-10-20

申请号：CN201010128599.9

申请日：2010-03-03

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 罗兴烈 ,  李基龙 ,  徐晋旭 ,  郑珉在 ,  洪钟元 ,  姜有珍 ,  张锡洛 ,  郑胤谟 ,  梁泰勋 ,  苏炳洙 ,  朴炳建 ,  李东炫 ,  李吉远 ,  朴钟力 ,  崔宝京 ,  伊凡·迈丹丘克 ,  白原奉 ,  郑在琓

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 本发明公开一种基板处理设备，其通过均匀地加热基板，在多个基板上形成薄膜和热处理基板。该基板处理设备包括处理室、其中堆叠基板的船形器皿、位于处理室外部的外部加热器、将船形器皿移进和移出处理室的输送器、位于输送器下方的下部加热器、和位于船形器皿中间的中间加热器。

公开(公告)号：CN101771086A

公开(公告)日：2010-07-07

申请号：CN200910258921.7

申请日：2009-12-30

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 朴炳建 ,  李东炫 ,  李吉远 ,  梁泰勋 ,  徐晋旭 ,  李基龙 ,  安志洙 ,  马克西姆·利萨琴科

IPC: H01L29/786 ,  H01L29/38 ,  H01L21/336 ,  H01L21/332 ,  H01L27/32

CPC classification number: H01L21/02672 ,  H01L21/02488 ,  H01L21/02532 ,  H01L27/1277 ,  H01L27/1281 ,  H01L29/66757 ,  H01L29/66765 ,  H01L29/78696

Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管、制造所述薄膜晶体管的方法和包括所述薄膜晶体管的有机发光二极管(OLED)显示装置，所述薄膜晶体管包括：基板；在所述基板上形成的缓冲层；布置在所述缓冲层上的第一半导体层；布置在所述第一半导体层上的第二半导体层，所述第二半导体层大于所述第一半导体层；与所述第一半导体层和所述第二半导体层绝缘的栅极；使所述栅极与所述第一半导体层和所述第二半导体层绝缘的栅绝缘层；与所述栅极绝缘并与所述第二半导体层连接的源极和漏极；布置在所述源极和漏极上的绝缘层，以及与源极和漏极之一连接的有机发光二极管。

公开(公告)号：CN101556968A

公开(公告)日：2009-10-14

申请号：CN200910134258.X

申请日：2009-04-10

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 朴炳建 ,  徐晋旭 ,  梁泰勋 ,  李吉远 ,  李东炫

IPC: H01L29/786 ,  H01L29/06 ,  H01L29/36 ,  H01L21/336 ,  H01L21/265 ,  H01L21/324 ,  H01L27/32

CPC classification number: H01L29/78615 ,  H01L27/1277 ,  H01L29/4908 ,  H01L29/66757

Abstract: 一种薄膜晶体管和其制造方法以及有机发光二极管显示装置。所述薄膜晶体管包括：基板；布置在所述基板上并且具有沟道区、源区、漏区和体接触区的半导体层；布置在所述半导体层上以暴露所述体接触区的栅绝缘层；布置在所述栅绝缘层上并与被所述栅绝缘层暴露的所述体接触区接触的硅层；布置在所述硅层上的栅电极；布置在所述栅电极上的层间绝缘层；以及布置在所述层间绝缘层上并与所述源区和漏区电连接的源电极和漏电极，其中所述体接触区形成在所述半导体层的边缘区域中。

公开(公告)号：CN100483742C

公开(公告)日：2009-04-29

申请号：CN200410095452.9

申请日：2004-12-31

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 朴炳建 ,  徐晋旭 ,  梁泰勋 ,  李基龙

IPC: H01L29/786 ,  H01L21/336 ,  H01L21/20 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L29/66757 ,  H01L27/1277 ,  H01L27/1281 ,  H01L29/04 ,  H01L29/78675

Abstract: 本发明提供一种薄膜晶体管及其生产方法，其中在衬底上形成非晶硅，在非晶硅层上形成包含有根据其厚度而具有不同浓度的金属催化剂的覆盖层，构图该覆盖层以形成覆盖层图形，并且结晶该非晶硅层，以控制在非晶硅层和覆盖层图形之间的界面形成的籽晶的密度和位置，从而提高颗粒的尺寸和均匀性，并且在其中通过一个结晶工艺，在要求的位置选择性地形成要求的尺寸和均匀性的多晶硅，形成具有卓越的和所要求的特性的薄膜晶体管。

公开(公告)号：CN100477274C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200410094226.9

申请日：2004-12-31

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 徐晋旭 ,  李基龙 ,  梁泰勋 ,  朴炳建

IPC: H01L29/786 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L21/02672 ,  H01L21/2022 ,  H01L29/04 ,  H01L29/66765 ,  H01L29/78609 ,  H01L29/78678 ,  H01L29/78696

Abstract: 本发明公开了一种底栅极薄膜晶体管及其制造方法，该薄膜晶体管具有通过特大晶粒硅(SGS)晶化方法晶化的沟道区，该方法包括：在绝缘基板上形成栅极电极和栅极绝缘层；在栅极绝缘层上形成非晶硅层，继而形成覆盖层和金属催化剂层；进行热处理使非晶硅层晶化成为多晶硅层；以及形成蚀刻停止层、源极和漏极区及源极和漏极电极。该薄膜晶体管包括：绝缘基板；栅极电极，其形成在所述绝缘基板上；栅极绝缘层，形成在所述栅极电极上；多晶硅层，其形成在所述栅极绝缘层上，并且通过特大晶粒硅(SGS)晶化法进行晶化；以及源极和漏极区、源极和漏极电极，它们形成在所述基板的预定区域中。

公开(公告)号：CN101866853B

公开(公告)日：2012-07-18

申请号：CN201010128599.9

申请日：2010-03-03

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 罗兴烈 ,  李基龙 ,  徐晋旭 ,  郑珉在 ,  洪钟元 ,  姜有珍 ,  张锡洛 ,  郑胤谟 ,  梁泰勋 ,  苏炳洙 ,  朴炳建 ,  李东炫 ,  李吉远 ,  朴钟力 ,  崔宝京 ,  伊凡·迈丹丘克 ,  白原奉 ,  郑在琓

IPC: H01L21/324 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 本发明公开一种基板处理设备，其通过均匀地加热基板，在多个基板上形成薄膜和热处理基板。该基板处理设备包括处理室、其中堆叠基板的船形器皿、位于处理室外部的外部加热器、将船形器皿移进和移出处理室的输送器、位于输送器下方的下部加热器、和位于船形器皿中间的中间加热器。

公开(公告)号：CN101165881B

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN200710106343.6

申请日：2007-05-17

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 梁泰勋 ,  李基龙 ,  徐晋旭 ,  朴炳建

IPC: H01L21/84 ,  H01L21/336

CPC classification number: H01L21/02672 ,  H01L21/02488 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/3226 ,  H01L27/1277 ,  H01L27/1288

Abstract: 一种制造CMOS薄膜晶体管的方法，包括：提供衬底；在衬底上形成无定形硅层；在衬底上执行第一退火处理以及使无定形硅层结晶成多晶硅层；形成多晶硅层的图案以形成第一和第二半导体层；把第一杂质植入第一和第二半导体层；把第二杂质植入第一或第二半导体层；以及在半导体层上执行第二退火处理以除去残留在植入有第二杂质的第一或第二半导体层中的金属催化剂，其中按6×1013/cm2到5×1015/cm2的剂量植入第一杂质，并且按1×1011/cm2到3×1015/cm2的剂量植入第二杂质。

公开(公告)号：CN102386070A

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN201110259627.5

申请日：2011-08-31

Applicant: 三星移动显示器株式会社

Inventor： 郑胤谋 ,  李基龙 ,  徐晋旭 ,  郑珉在 ,  朴承圭 ,  孙榕德 ,  苏炳洙 ,  朴炳建 ,  李吉远 ,  李东炫 ,  李卓泳 ,  朴种力

IPC: H01L21/20 ,  H01L21/336 ,  H01L29/786 ,  H01L27/32

CPC classification number: H01L29/66757 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02488 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02672 ,  H01L27/1218 ,  H01L27/1277 ,  H01L27/3262 ,  H01L29/78603

Abstract: 本发明公开了一种形成多晶硅层的方法、一种形成薄膜晶体管的方法、一种薄膜晶体管和一种有机发光显示装置。形成多晶硅层的方法包括：在基底上形成缓冲层；利用氢等离子体处理所述缓冲层；在所述缓冲层上形成非晶硅层；在所述非晶硅层上形成用于使所述非晶硅层晶化的金属催化剂层；以及对所述非晶硅层热处理以形成多晶硅层。