一种任意路由射频开关矩阵

    公开(公告)号:CN114070286B

    公开(公告)日:2023-05-26

    申请号:CN202111237938.1

    申请日:2021-10-25

    IPC分类号: H03K17/62

    摘要: 本发明提供了一种任意路由射频开关矩阵,由N*N个2态开关IP单元以矩阵形式构成,每个2态开关IP单元具有上下左右四个端口,矩阵形式内的2态开关IP单元通过相邻端口连接形成开关矩阵,开关矩阵上下左右均N个端口用于对外连接;所述2态开关IP单元具有1态和0态两种状态,处于1态时,上端口与左端口连通;处于0态时,左端口与右端口连通,上端口与下端口连通。本发明提出的方案可以实现毫米尺度的平面结构射频开关矩阵,能够方便的进行系统封装集成。

    一种射频电路三维堆叠结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN115064503A

    公开(公告)日:2022-09-16

    申请号:CN202210649622.1

    申请日:2022-05-19

    摘要: 本发明提供一种射频电路三维堆叠结构及其制造方法,所述制造方法包括:将低介电常数陶瓷与高介电常数陶瓷叠层烧结,形成多层共烧陶瓷基板;在多层共烧陶瓷基板上加工多个不同深度的腔槽;在第三腔槽底部加工金属焊盘;提供转接板和芯片;在转接板下表面焊接芯片;在转接板下表面植微球;在第三腔槽中焊接芯片;将转接板通过微球焊接到多层共烧陶瓷基板上表面;在转接板的上表面焊接芯片。本发明的芯片可通过倒装或信号孔正贴的方式,集成在高密度转接板的两面以及多层共烧陶瓷基板的腔槽中,实现2‑3层芯片堆叠,能够更好的适应射频电路对高密度集成、高质量信号传输以及低剖面厚度的需求。

    一种大功率射频芯片三维堆叠集成结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN114759015A

    公开(公告)日:2022-07-15

    申请号:CN202210201064.2

    申请日:2022-03-02

    摘要: 本发明公开了一种大功率射频芯片三维堆叠集成结构及其制备方法,包括从下至上依次设置的多层电路基板、大功率射频芯片、低K值转接板,所述低K值转接板倒装在大功率射频芯片的上表面,在大功率射频芯片上形成多个独立的电磁隔离结构,所述低K值转接板上设有其它芯片或元件,所述其它芯片或元件与低K值转接板互连,所述低K值转接板与大功率射频芯片实现电气连接。本发明三维堆叠结构与传统的混合集成工艺兼容,可使用主流的热沉散热技术,避免了硅基通孔散热或微流道散热结构,提高了可靠性,减少了加工周期,降低了加工成本。

    一种芯片倒装结构及制作方法

    公开(公告)号:CN113224032A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110434189.5

    申请日:2021-04-22

    摘要: 本发明具体公开了一种芯片倒装结构及制作方法包括设置有有源区的芯片、多层电路基板、设置在芯片与多层电路基板之间堆叠焊球结构,以及芯片电容;多层电路基板包括位于有源区正下方的表层介质层、位于表层介质层远离有源区一侧的金属层、表层焊盘、互连孔;有源区与金属层之间形成高度在200μm以上的介质腔。制备方法为芯片加工;堆叠焊球结构安装;用热压焊接工艺将芯片焊接在多层电路基板上;将芯片电容安装在接地焊盘上,通过引线与该侧的安装信号焊盘互连。保证了保证化合物半导体芯片的宽带射频性能,同时与化合物半导体芯片加工工艺和微组装工艺兼容,工艺流程短、灵活性好;通过将芯片电容集成在芯片背面的方式提高系统集成密度。