公开(公告)号：CN105206619A

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201510536802.9

申请日：2015-08-27

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 张颖 ,  侯智 ,  吴代吾 ,  杨子衡 ,  王轶南 ,  丁欣 ,  陈甫 ,  刘建辉 ,  沈镕

IPC分类号： H01L27/12

CPC分类号： G02F1/1368 ,  G02F1/134363 ,  G02F1/13439 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/136227 ,  G02F2001/136222 ,  G02F2201/121 ,  G02F2201/123 ,  G02F2201/124

摘要： 本发明公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以解决现技术制备的阵列基板中，平行于衬底基板的半透明金属膜层构成的像素电极和公共电极使背光透过率降低，影响TFT–LCD的亮度的问题。所述阵列基板，包括衬底基板，设置于所述衬底基板的上表面的若干像素单元，所述像素单元呈阵列排布于所述衬底基板上；所述衬底基板上形成有对应每一所述像素单元的第一电极槽和第二电极槽，所述第一电极槽和所述第二电极槽由所述上表面向所述衬底基板的下表面延伸；所述像素单元包括像素电极和公共电极，所述像素电极形成于所述第一电极槽内，所述公共电极形成于所述第二电极槽内。

公开(公告)号：CN103691715B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201310752372.5

申请日：2013-12-30

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 刘建辉 ,  丁欣 ,  陈甫 ,  张亮 ,  袁涛 ,  刘祖宏 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： B08B11/04 ,  H01L21/66

摘要： 本发明公开了一种基板清洗设备，包括机架、用于盛放玻璃基板的载台、安装有超声波发射器的清洗头本体、至少一个激光位移传感器、以及信号处理器；其中，载台固定于机架；清洗头本体位于载台上方，且可滑动地安装于机架；激光位移传感器安装于清洗头本体、且通过向玻璃基板表面发射激光探测射线来测量激光位移传感器与玻璃基板表面之间的距离信息；信号处理器与激光位移传感器信号连接、且用于当激光位移传感器与玻璃基板表面之间的距离信息出现异常时判断玻璃基板破损。本发明提供的基板清洗设备能够准确地检测出被测玻璃基板是否有破损，且能够避免漏检的情况出现，提高了破损玻璃基板的检出率。

公开(公告)号：CN103708225B

公开(公告)日：2015-10-21

申请号：CN201310722204.1

申请日：2013-12-24

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 谢少华 ,  黄二元 ,  魏亚恒 ,  吴兆甑 ,  许明 ,  杨子衡 ,  侯智 ,  吴代吾

IPC分类号： B65G49/06 ,  H01L21/677 ,  H01L21/68

摘要： 本发明公开了一种传送装置，涉及运输领域，为能够保证其中同一列的导向轮处于一条直线上而设计。所述传送装置包括支架，所述支架上设有用于承载并传送被传送物的多个滚轮、和位于所述被传送物两侧且垂直于传送面设置的两列位置可调的导向轮轴，所述导向轮轴上设有导向轮，其特征在于，每个所述导向轮轴的相同位置处均固定设置有激光器，所述激光器向相反的两个方向发出同线的光束。本发明可用于物体的传送。

公开(公告)号：CN104393053A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201410796010.0

申请日：2014-12-19

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 周庆高 ,  李鹏 ,  冯忠 ,  孟盼盼 ,  刘祖宏 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： H01L29/786 ,  H01L27/02 ,  H01L21/336 ,  G02F1/1333

CPC分类号： H01L29/786 ,  H01L27/02 ,  H01L27/124 ,  H01L29/41733 ,  H01L29/4232 ,  H01L29/42384 ,  H01L29/66742 ,  G02F1/136 ,  H01L27/1214

摘要： 薄膜晶体管及其制作方法，薄膜晶体管组件、阵列基板及显示装置，一种薄膜晶体管，包括：基板；设置在基板上的栅极、栅极绝缘部、半导体部、源极和漏极，半导体部与栅极之间利用栅极绝缘部隔开，源极和漏极与半导体部连接，其中：栅极和半导体部在基板上的投影彼此不重叠。栅极、栅极绝缘部、半导体部、源极和漏极可同层布置。或者，栅极绝缘部的一部分设置在半导体部和源、漏极所在层与基板之间；且栅极直接设置在基板上。或者，半导体部和源、漏极同层直接布置在基板上；且栅极绝缘部的一部分设置在栅极所在层与基板之间。

公开(公告)号：CN102645799B

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201110076578.1

申请日：2011-03-29

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 訾玉宝 ,  郑载润 ,  王世凯 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： G02F1/1362 ,  G02F1/1368 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  H01L27/12 ,  H01L21/77

CPC分类号： H01L27/1288 ,  G02F1/136209 ,  H01L29/78633

摘要： 本发明公开了一种液晶显示器件、阵列基板和彩膜基板及其制造方法，可提高液晶显示器件的开口率。本发明实施例的液晶显示器件包括：下基板；黑矩阵，形成在所述下基板之上；顶栅型TFT器件，形成在所述黑矩阵之上；上基板；像素层，形成在所述上基板上；彩膜ITO电极，形成在所述像素层之上；液晶分子层，形成在所述上基板和下基板之间。本发明通过直接将黑矩阵集成于玻璃基板上，因而可在基板上集成顶栅型TFT器件，使TFT-LCD的开口率进一步提高；且由于使用了顶栅型TFT器件，使工艺更加简单，进一步降低生产成本。

公开(公告)号：CN103728996A

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201310726431.1

申请日：2013-12-25

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 李鹏 ,  冯忠 ,  周庆高 ,  孟盼盼 ,  刘祖宏 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： G05D16/20

摘要： 本发明提供一种压力控制器及其开口度调节方法，属于真空设备气体压力控制技术领域，其可解决现有的APC调节真空腔室气体压力不够精确的问题。本发明的压力控制器连接在真空泵与真空腔室之间，且在所述压力控制器与真空泵连接的开口处设有摆动板，所述摆动板用于控制所述开口的开口度，其中，所述压力控制器包括光栅尺，所述光栅尺用于读取莫尔条纹图案以确定所述摆动板的位置。其开口度调节方法包括用光栅尺读取莫尔条纹图案以确定所述摆动板的位置，并根据所述摆动板的位置将摆动板调节到与真空腔室内所需气体压力对应的位置。本发明对真空腔室气体压力的调节更为精确。

公开(公告)号：CN103715113A

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201310688786.6

申请日：2013-12-13

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 刘轩 ,  丁欣 ,  张巍 ,  韩勉 ,  钟亮 ,  刘祖宏 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： H01L21/66 ,  H01J37/244

CPC分类号： H01L22/26 ,  H01L21/67253

摘要： 本发明公开了一种刻蚀速率均一度的监测方法和装置，以实现实时对腔体内等离子体刻蚀速率均一度的监测。所述方法包括：在刻蚀过程中，实时采集刻蚀的反应腔体内反应物或生成物的光谱信号的强度值；根据所述光谱信号的强度值，确定所述反应物或生成物光谱信号的强度值变化阶段对应的起始时间和终止时间；根据所述起始时间、终止时间以及预设的被刻蚀膜层的厚度，确定刻蚀速率的最大值和最小值；根据所述刻蚀速率的最大值和最小值确定刻蚀速率的均一度。

公开(公告)号：CN103560100A

公开(公告)日：2014-02-05

申请号：CN201310502972.6

申请日：2013-10-23

申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 ,  京东方科技集团股份有限公司

发明人： 杨庆峰 ,  吕艳明 ,  房毛毛 ,  闫方亮 ,  袁涛 ,  刘祖宏 ,  侯智 ,  吴代吾

IPC分类号： H01L21/67 ,  B01D46/00

CPC分类号： H01L21/67005 ,  B01D46/0047

摘要： 本发明公开了一种空气净化系统和洁净室，涉及空气净化技术领域，能够避免风机的气流在产品上形成紊流而对产品品质造成不良影响。该空气净化系统，包括设置有出风口的风机、设置于所述出风口下方的过滤器以及设置于所述过滤器下方的产品传输区域，还包括：设置在所述风机和过滤器之间的遮挡机构，所述遮挡机构包括可收展的挡风部和连接于所述挡风部的收展控制部。

公开(公告)号：CN105629616B

公开(公告)日：2019-06-07

申请号：CN201610204186.1

申请日：2016-04-01

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 周庆高 ,  孟盼盼 ,  冯忠 ,  李鹏 ,  杨子衡 ,  吴代吾 ,  侯智

IPC分类号： G02F1/1362 ,  G02F1/1335

摘要： 本发明提供一种显示面板及显示器件。所述显示面板包括阵列基板，位于阵列基板出光侧的滤色层；所述滤色层包括多个与阵列基板上的各像素单元一一对应设置的微镜单元，一个像素单元包括三个亚像素单元；所述微镜单元用于对经过阵列基板的白光进行过滤、分离，得到分别与所述三个亚像素一一对应的三基色光。

公开(公告)号：CN105486239B

公开(公告)日：2018-07-10

申请号：CN201610004799.0

申请日：2016-01-04

申请人： 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥京东方光电科技有限公司

发明人： 谢少华 ,  刘祖宏 ,  訾玉宝 ,  侯智 ,  叶成枝

IPC分类号： G01B11/02

摘要： 本发明公开了一种基板测试设备，以减小基板上图形线宽的测试误差，进而提高基板的产品品质。基板检测设备包括用于承载基板的支撑平台；用于采集基板上待测线宽图形位置信息的对位装置；朝向支撑平台设置的光强检测装置；控制装置，分别与对位装置和光强检测装置信号连接，用于根据待测线宽图形位置信息，控制光强检测装置移动经过待测线宽图形的上方；根据光强检测装置的检测数据，确定光强检测装置经过待测线宽图形的时间；根据经过待测线宽图形的时间，确定待测线宽图形的线宽。相比现有技术，本发明实施例大大减小了基板上图形线宽的测试误差，进而提高了基板的产品品质。