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公开(公告)号：CN107002221B
公开(公告)日：2020-03-03
申请号：CN201480083241.5
申请日：2014-11-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 安德烈亚斯·勒普 , 托马斯·格比利 , 乌韦·许斯勒 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
IPC: C23C14/12 , C23C14/24 , C23C16/455 , C23C14/04 , H05B33/10
Abstract: 描述一种用于在真空腔室(110)中将已蒸发的材料沉积在基板(121)上的材料沉积布置(100)。所述材料沉积布置包括两个材料沉积源(100a、100b)，它们各自具有分配管道(106a、106b)和一或多个喷嘴(712)。另外，描述一种包括材料沉积布置的真空沉积腔室、以及一种用于在真空沉积腔室中将已蒸发的材料沉积在基板上的方法。
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公开(公告)号：CN110494586A
公开(公告)日：2019-11-22
申请号：CN201880003425.4
申请日：2018-03-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 托马索·维斯特 , 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧 , 马蒂亚斯·赫曼尼斯
Abstract: 提供了一种用于掩模布置的光学检查的方法。所述方法包括将掩模布置接收在设有参考基板的检查腔室中。此外，所述方法包括将所述掩模布置相对于所述参考基板对准。另外，所述方法包括用光学检查装置检查所述掩模布置的至少一部分与所述参考基板的至少一部分之间的相对定位，以获得关于所述掩模布置的信息数据。
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公开(公告)号：CN109154066B
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201680085495.X
申请日：2016-05-18
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供一种用于非接触式运输沉积源的设备。设备包括沉积源组件。沉积源组件包括沉积源。沉积源组件包括第一主动磁性单元。设备包括在源运输方向上延伸的引导结构。沉积源组件沿引导结构是可移动的。第一主动磁性单元与引导结构经构造以用于提供第一磁浮力以悬浮沉积源组件。
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公开(公告)号：CN108966659A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201780007161.5
申请日：2017-04-12
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了一种用于沉积已蒸发材料于基板上的沉积系统(100)。沉积系统(100)包括蒸汽源(120)，具有一个或多个蒸汽出口(125)；屏蔽物(110)；和冷却装置(112)，用于冷却屏蔽物，其中蒸汽源(120)可移动至空载位置(I)，一个或多个蒸汽出口(125)在空载位置中被导引朝向屏蔽物(110)。此外，描述了一种具有沉积系统(100)的沉积设备(1000)和一种操作沉积系统的方法。
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公开(公告)号：CN104838467B
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201380063812.4
申请日：2013-12-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·凯勒 , 斯蒂芬·班格特 , 里奥·库韦克·比安-孙
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/0676 , C23C14/246 , C23C14/30 , C23C14/32 , C23C14/50 , H01J37/32091 , H01J37/32357 , H01J37/3244 , H01M4/0428 , H01M4/1391 , H01M10/052 , H01M10/0562
Abstract: 描述用于蒸发介电材料至基板上的沉积装置。沉积装置包括：蒸汽分配喷头；保持器，所述保持器用于提供介电材料于蒸汽分配喷头中，其中保持器具有进给单元，用于进给介电材料至蒸汽分配喷头；能源，所述能源配置成用于熔化及蒸发蒸汽分配喷头中的介电材料或使蒸汽分配喷头中的介电材料升华，其中蒸汽分配喷头具有一或更多出口，用于将蒸发的介电材料导向基板。装置进一步包括等离子体源，等离子体源配置成用于在蒸汽分配喷头与基板之间提供等离子体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107002232A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201480083694.8
申请日：2014-11-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乌韦·许斯勒 , 斯蒂芬·班格特 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 安德烈亚斯·勒普
CPC classification number: C23C14/243 , C23C14/12 , C23C14/542 , F27D5/0037
Abstract: 一般来说，本公开内容涉及用于沉积材料的系统、设备和方法。特别是，本公开内容涉及用于蒸发源材料的坩锅。所述坩锅具有壁，所述壁具有内表面，所述内表面围绕内部容积，所述内部容积用于容纳源材料和一个或多个热传输元件，所述一个或多个热传输元件布置在坩锅的内部容积中。
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公开(公告)号：CN104852090B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201510223656.4
申请日：2010-09-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 秉-圣·郭 , 斯蒂芬·班格特 , 迪特尔·哈斯 , 奥姆卡拉姆·诺拉马苏
IPC: H01M10/058 , H01M10/0525
Abstract: 本文描述用于制造薄膜电池的方法与工厂。方法包括用于制造薄膜电池的操作。工厂包括用于制造薄膜电池的一个或更多个工具组。
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公开(公告)号：CN104852090A
公开(公告)日：2015-08-19
申请号：CN201510223656.4
申请日：2010-09-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 秉-圣·郭 , 斯蒂芬·班格特 , 迪特尔·哈斯 , 奥姆卡拉姆·诺拉马苏
IPC: H01M10/058 , H01M10/0525
Abstract: 本文描述用于制造薄膜电池的方法与工厂。方法包括用于制造薄膜电池的操作。工厂包括用于制造薄膜电池的一个或更多个工具组。
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公开(公告)号：CN102576899B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201080047312.8
申请日：2010-09-20
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 秉-圣·郭 , 斯蒂芬·班格特 , 迪特尔·哈斯 , 奥姆卡拉姆·诺拉马苏
IPC: H01M10/04 , H01M10/0525
Abstract: 本文描述用于制造薄膜电池的方法与工厂。方法包括用于制造薄膜电池的操作。工厂包括用于制造薄膜电池的一个或更多个工具组。
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公开(公告)号：CN104630702A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201410802196.6
申请日：2010-10-18
Applicant: 应用材料公司
CPC classification number: H01M6/40 , C23C14/042 , H01M4/02 , H01M4/13 , H01M4/139 , H01M4/5825 , H01M4/621 , H01M4/623 , H01M4/663 , H01M2004/028 , Y02E60/122 , Y10T29/49002 , Y10T29/5313
Abstract: 一种用于基板的薄膜处理的磁性处理组件，一种用于组装和拆卸阴影掩膜以覆盖工件的顶部以暴露于处理条件的系统和方法。所述组件可包括：磁性处理载体以及阴影掩膜，所述阴影掩膜设置于所述磁性处理载体上方并磁性耦合至所述磁性处理载体，以覆盖当暴露于处理条件时将被设置在所述阴影掩膜和所述磁性处理载体之间的工件。一种系统包括：第一腔室，所述第一腔室具有保持所述阴影掩膜的第一支架；保持处理载体的第二支架；以及对准阴影掩膜和将被设置在载体和所述阴影掩膜之间的工件的对准系统。所述第一支架和所述第二支架可相对于彼此移动。
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