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公开(公告)号：CN103897470B
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：CN201310728112.4
申请日：2013-12-25
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明提供了一种附有硬质涂膜的基材，该硬质涂膜具有防粘连性、同时翘曲得以抑制。本发明所涉及的附有硬质涂膜的基材的特征在于，由基材和形成于该基材上的硬质涂膜构成，该硬质涂膜由（i）金属氧化物微粒（A）簇（CL）、（ii）基质成分和（iii）簇形成剂构成，至少一部分簇（CL）以在硬质涂膜表面形成凸部的形式存在，该硬质涂膜具有15～200nm的高度范围内的凸部（H凸）。此外，本发明所涉及的硬质涂膜形成用涂布液的特征在于，包含金属氧化物微粒（A）、基质形成成分、簇形成剂和分散介质，且所述金属氧化物微粒（A）浓度（CA）以固体成分计在0.025～48重量份的范围内，所述基质形成成分的浓度（CM）以固体成分计在1～59.7重量份的范围内，所述簇形成剂的浓度（CCL）以固体成分计在0.0005～6重量％的范围内，总固体成分浓度在1～60重量％的范围内，金属氧化物微粒（A）形成簇（CLP）。
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公开(公告)号：CN103666007B
公开(公告)日：2017-08-15
申请号：CN201310428948.2
申请日：2013-09-18
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D7/12
Abstract: 本发明提供一种透明被膜形成用涂布液，该透明被膜形成用涂布液用于形成折射率从下层往上层逐渐降低、光透射率、透明性优异、具有防静电·防反射性能的透明被膜。该透明被膜形成用涂布液由表面处理二氧化硅类微粒(A)、表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)、基质形成成分、溶剂构成；表面处理二氧化硅类微粒(A)的平均粒径(DA)在10～200nm的范围内；表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)是2～30个平均粒径(DB)在5～20nm的范围内的金属氧化物粒子连结成链状、该金属氧化物粒子的体积电阻值在10‑2～100Ω·cm的范围内的链状导电性粒子，表面处理二氧化硅类微粒(A)的浓度以固体成分计在0.05～35重量％的范围内；表面处理链状导电性金属氧化物粒子(B)的浓度以固体成分计在0.025～25重量％的范围内；基质形成成分的浓度以固体成分计在0.1～42.5重量％的范围内；总固体成分浓度在0.5～50重量％的范围内。
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公开(公告)号：CN106497400A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201610799355.0
申请日：2016-08-31
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D183/04 , C08G77/08
Abstract: 本发明涉及覆膜形成用涂布液、覆膜形成用涂布液的制造方法、及带覆膜的基材。本发明的覆膜形成用涂布液的特征在于，其是在包含水和有机溶剂的混合溶剂中溶解或分散有能够与金属醇盐形成螯合物的有机化合物(A成分)、下述式(2)所示的6官能硅烷化合物及其水解缩合物中的至少任一者(B成分)和下述式(3)所示的金属醇盐及其水解缩合物中的至少任一者(C成分)而成的，A成分的摩尔数(M1)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M1/M3)处于0.25以上且小于2的范围，B成分的摩尔数(M2)与C成分的摩尔数(M3)的摩尔比(M2/M3)处于0.5以上且8以下的范围。M(OR10)n (3)。
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公开(公告)号：CN106164190A
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201580017788.X
申请日：2015-03-30
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09D201/00 , B32B27/20 , B32B27/30 , C08F290/06 , C08J7/04 , C09D4/00 , C09D7/12
Abstract: 本发明提供一种即使基材是树脂基材也硬度高、即使为厚膜也膜收缩小、且没有裂纹、翘曲受到抑制、硬度高的透明被膜。本发明的透明被膜形成用的涂布液是含有平均粒径在5～300nm范围内的金属氧化物粒子和基质形成成分的透明被膜形成用的涂布液，基质形成成分由具有2个以下官能团的第一有机树脂和具有3个以上官能团的第二有机树脂构成，金属氧化物粒子的浓度(CP)以固体成分计为45～90重量％，基质形成成分的浓度(CR)以固体成分计为10～50重量％，总固体成分浓度(CT)在60重量％以上，浓度(CR)与浓度(CP)之比(CR/CP)在0.11～1.0的范围内。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105408252A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：CN201480042492.9
申请日：2014-08-01
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/12
CPC classification number: C01B33/18
Abstract: 向通过导入碎解用容器内的气体而产生的旋流中供给煅烧工序中经煅烧的二氧化硅粒子，进行碎解。由此，实现可容易地碎解、兼顾低吸湿性和高树脂分散性的碎解二氧化硅粒子。另外，如果碎解时导入除湿空气(气体)，则吸湿性低，在树脂中的分散性大幅提高。另外，如果碎解后再次进行加热处理(煅烧)，碎解二氧化硅粒子的表面被改性，吸湿性和在树脂中的分散性大幅提高。包含由此而得的碎解二氧化硅粒子的树脂组合物在用于半导体的底部填充材料、液晶显示装置的面内用间隔物或密封用间隔物时的注入性、过滤性良好。
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公开(公告)号：CN104870183A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201380067551.3
申请日：2013-12-24
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
CPC classification number: C09K3/18 , B05D7/50 , B32B3/30 , B32B9/00 , B32B2307/412 , B32B2307/73 , B32B2605/00 , C03C17/3411 , C03C2217/42 , C03C2217/76 , Y10T428/24364
Abstract: 本发明提供拒水性高、与基材的密合性、耐磨损性、耐擦伤性等提高了的拒水性透明被膜。一种带有拒水性透明被膜的基材，其特征是，由基材、和该基材表面的拒水性透明被膜构成，上述拒水性透明被膜由包含无机氧化物微粒的无机氧化物微粒层、和该无机氧化物微粒层上的保护涂层构成，拒水性透明被膜表面具有凹凸结构，该凸部的平均高度(TF)在30～500nm的范围，平均凸部间距离(间距宽度)(WF)在50～1000nm的范围，与水的接触角在130～180°的范围。上述平均高度(TF)和上述平均凸部间距离(WF)的比值(TF)/(WF)在0.1～10的范围。上述凹凸结构的凸部的表面还具有微细凹凸，该微细凸部的平均高度(TFF)在3～50nm的范围，平均凸部间距离(WFF)比上述凸部的平均凸部间距离(WF)小，且在3～50nm的范围。
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公开(公告)号：CN102666383A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080051797.8
申请日：2010-11-15
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C01B33/149 , B32B9/00 , B32B27/00 , B32B27/30 , C09C1/00 , C09C3/12 , C09D4/02 , C09D7/12 , C09D183/04 , C09D183/07 , C09D201/00
CPC classification number: C09J4/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C01B32/174 , C01P2002/50 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K9/06 , C09C1/0081 , C09C1/3081 , C09D7/62 , C09D7/67 , C09D183/04
Abstract: 本发明提供一种即使在高浓度下也稳定的、在基质成分中的分散性良好的硅铝溶胶及其制造方法。除去硅铝溶胶中存在的来自制造原料的阳离子(碱金属离子)，同时减少夹杂离子，将表面负电荷量调节在规定范围内，使用由此得到的二氧化硅·氧化铝粒子，使有机硅化合物预先吸附在粒子表面之后进行水解，从而进行表面处理。
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公开(公告)号：CN101089056B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200710109844.X
申请日：2007-05-31
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
Abstract: 本发明提供一种透明被膜形成涂料，该透明被膜形成涂料可以涂布1种涂料一次，形成具有至少2种以上功能的透明被膜。该透明被膜形成涂料是含有以下成分的透明被膜形成涂料，(A)金属氧化物微粒(A)，该微粒的表面用有机硅化合物及/或具有疏水性官能基的多官能丙烯酸酯树脂进行了表面处理，且表面电荷量(QA)在5～80μeq/g的范围内；(B)基质形成成分，该成分含有疏水性基质形成成分，该疏水性基质形成`成分包括有机硅化合物或其水解物、水解缩聚物，及/或具有疏水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂；(C)极性溶剂。其中，金属氧化物微粒(A)的作为固形成分的浓度(CPA)在0.1～20重量％的范围内，基质形成成分(C)的作为固形成分的浓度(CM)在1～50重量％的范围。
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公开(公告)号：CN1626584B
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：CN200410090548.6
申请日：2004-11-08
Applicant: 日挥触媒化成株式会社
IPC: C09C3/10 , C09C1/28 , C09D133/00
CPC classification number: C01G30/005 , B82Y30/00 , C01B33/146 , C01F7/02 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/40 , H01C17/06533
Abstract: 本发明提供了一种链氧化锑细颗粒团，它包含平均粒径为5-50nm、以链的形式连接并且平均连接数为2-30的氧化锑细颗粒。较佳地，所述细颗粒团用于形成硬涂膜。所述细颗粒团可通过以下方法制备：用阳离子交换树脂处理碱金属锑酸盐水溶液以制备锑酸(凝胶)分散液，然后用阴离子交换树脂处理所述分散液，和/或向所述分散液中加入碱。本发明还提供了一种具有膜的基材，它包含基材和硬涂膜，所述硬涂膜包含链无机氧化物细颗粒团和基质，其中，平均有2-30个无机氧化物细颗粒以链的形式连接。作为无机氧化物颗粒，优选二氧化硅颗粒或二氧化硅-氧化铝颗粒，更优选多孔颗粒和/或内部具有空穴的空心颗粒。通过形成该硬涂膜，可以得到具有硬涂膜的基材，它改善了膜对基材的粘着性和抗划伤性，防止了灰尘的附着，并且不会使产率下降。
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