修正装置
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104425199A

    公开(公告)日:2015-03-18

    申请号:CN201410418547.3

    申请日:2014-08-22

    IPC分类号: H01J37/21

    摘要: 本发明公开一种修正装置,其对于试样的损伤较小,在长时间内稳定且效率良好地进行掩膜等的细微部位的修正。修正装置(10)至少具备:气体电场电离离子源,其具有锐化的针尖;冷却单元,其冷却针尖;离子束镜筒(11),其使在气体电场电离离子源产生的气体的离子集束,形成集束离子束;试样工作台(15),其设置经通过离子束镜筒(11)形成的集束离子束照射的试样,并能够移动;试样室(13),其内置试样工作台(15);以及控制部(20),其通过集束离子束修正作为试样的掩膜(14)或纳米压印光刻的模具。气体电场电离离子源以氮作为离子,并具备通过铱单晶构成的针尖,该铱单晶具有能够产生离子的单一的顶点。

    离子束装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103733296A

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201280040502.6

    申请日:2012-05-28

    摘要: 在现有的气体离子化室中,存在为了避免辉光放电,只使气压下降,无法通过提高气体导入压力,增大离子电流之类的课题。本发明的目的在于通过提高气体导入压力,增大离子电流,并且防止由离子化引起的离子束散乱。通过从GND电位的结构体供给气体,不在气压更高的离子化气体的导入口附近施加高电压。另外,通过从构成加速集束透镜的透镜电极的透镜开口部进行差压排气,优先减少位于离子束通过的区域的离子化气体。