公开(公告)号：CN102656728B

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201080054253.7

申请日：2010-11-30

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： 格林·J·雷诺兹 ,  小罗伯特·马马扎

IPC分类号： H01M4/66 ,  H01M6/40 ,  H01M10/04 ,  H01M10/0562 ,  H01M10/052 ,  H01M10/0585 ,  H01M4/13 ,  H01M4/139 ,  H01M4/04

CPC分类号： H01M10/052 ,  H01M4/0402 ,  H01M4/0404 ,  H01M4/0407 ,  H01M4/0409 ,  H01M4/0414 ,  H01M4/0419 ,  H01M4/0421 ,  H01M4/0426 ,  H01M4/13 ,  H01M4/139 ,  H01M4/661 ,  H01M6/40 ,  H01M10/0436 ,  H01M10/0525 ,  H01M10/0562 ,  H01M10/0585 ,  H01M2300/0022 ,  Y02E60/122 ,  Y02P70/54 ,  Y02T10/7011 ,  Y10T29/4911 ,  Y10T29/49115

摘要： 本发明提供了包含与阳极接触的阳极集流器的电化电池。阴极集流器与阴极接触。固体电解质薄膜将所述阳极和所述阴极分离。

公开(公告)号：CN104091777A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：CN201410361067.8

申请日：2010-11-17

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： 沃尔夫冈·里茨勒 ,  巴特·裘特凡梅斯特

IPC分类号： H01L21/67 ,  H01L23/14 ,  H01L23/538 ,  H01L21/56 ,  H01L23/31

CPC分类号： H01L24/96 ,  C23C14/22 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/32 ,  H01L21/561 ,  H01L21/568 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67236 ,  H01L21/6835 ,  H01L23/147 ,  H01L23/293 ,  H01L23/3114 ,  H01L23/3128 ,  H01L23/5389 ,  H01L24/19 ,  H01L24/97 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/04105 ,  H01L2224/12105 ,  H01L2224/20 ,  H01L2224/92 ,  H01L2224/97 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/12041 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/18162 ,  H01L2924/3025 ,  H01L2924/3511 ,  H01L2924/3641 ,  H01L2224/96 ,  H01L2224/82 ,  H01L2924/00 ,  H01L2924/01002

摘要： 本发明公开了一种用于处理基材(1)的设备，该设备包含至少两个除气单元和至少一个处理单元，其中，一个第一除气单元包含具有加热所述基材(1)的装置的气锁器及处理监测传感器，所述气锁器连接于排空系统，一个第二除气单元包含用以加热所述基材的装置、用以吹气至所述基材之背面的气体供应器、处理监测传感器，所述第二除气单元连接于排空系统，至少一个后续处理单元包含用以主动冷却所述基材(1)的装置。

公开(公告)号：CN102725433B

公开(公告)日：2014-07-02

申请号：CN201180006772.0

申请日：2011-01-19

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： 奧利佛·雷敦德 ,  史蒂芬·伯瑟

IPC分类号： C23C14/00 ,  C23C14/06 ,  H01L31/0216

CPC分类号： C23C14/0652 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/0094 ,  C23C14/3492 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/028 ,  H01L31/03682 ,  H01L31/03762 ,  H01L31/1868 ,  Y02E10/546 ,  Y02E10/547 ,  Y02E10/548 ,  Y02P70/521

摘要： 本发明涉及一种用以沉积一防反射层(6)于一基材(1)上的方法，包括下列步骤。提供具有多个太阳能电池结构(2)的基材(1)，并将该基材布置于一真空腔室(11)内，该真空腔室具有一含硅固体(13)。在该固体(13)与接地电位(14)之间断开电压期间，将一含氮反应气体(20)在该真空腔室(11)内的一流量调节至一第一值，将该含氮反应气体(20)之流量提高至一第二值并在该固体(13)与接地电位(14)间施加一电压，其中，以该含氮反应气体(20)高于该第一值之流量将一由硅及氮构成之层(6)沉积于该基材(1)上。

公开(公告)号：CN103392226A

公开(公告)日：2013-11-13

申请号：CN201180063536.2

申请日：2011-12-27

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： B.肖特马斯特 ,  W.里伊茨勒 ,  R.洛德 ,  R.巴滋伦 ,  D.罗雷尔

IPC分类号： H01L21/677 ,  H01L21/67

CPC分类号： C23C16/458 ,  C23C14/50 ,  C23C14/541 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/52 ,  F04B45/02 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/3321 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67703 ,  H01L21/67739 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67751 ,  H01L21/6776

摘要： 为了缩短由运输腔室(1)中的运输布置(5)所服务的真空处理腔室(13)的抽吸时间，真空处理腔室（13）分成工件处理隔室（13T）和抽吸隔室（13P），工件处理隔室（13T）和抽吸隔室（13P）彼此自由流动连通、并且布置成相对于服务真空处理腔室（13）的运输布置（5）的移动路径（S）而彼此相对布置。抽吸隔室（13P）允许提供可独立于处理隔室（13T）的几何形状而自由选择流动横截面积的抽吸端口（18）。

公开(公告)号：CN103261477A

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：CN201180059377.9

申请日：2011-12-07

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： 斯文·尤韦·瑞斯奇尔 ,  穆罕默德·艾尔格哈查理 ,  尤尔根·韦查德

IPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/46 ,  C23C14/50 ,  H01L21/768 ,  H01L21/687

摘要： 用于在处理气体中在基底（2）上沉积层（37、38、39）的设备（1、26）包括：夹盘（3），包括用于支撑基底（2）的第一表面（14）；夹具（4），用于将基底（2）固定到夹盘（3）的第一表面（14）；抽空的封闭箱（5），封闭夹盘（3）和夹具（4），并包括进口，处理气体能够通过进口进入封闭箱（5）中；以及控制装置（19）。控制装置（19）适于将夹盘（3）和夹具（4）中的至少一个相对于彼此且独立于彼此移动，从而在单个沉积工艺期间在保持处理气体的流动以及封闭箱（5）内的压力小于大气压的同时调节夹盘（3）和夹具（4）之间的间隔。

公开(公告)号：CN103189957A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201180048699.3

申请日：2011-10-03

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： 朱尔根·韦查特

IPC分类号： H01J37/32

CPC分类号： C23F4/00 ,  C23C14/50 ,  C23C14/541 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45517 ,  C23C16/463 ,  H01J37/32522 ,  H01J37/32871

摘要： 装配有主动冷却元件的蚀刻室。所述主动冷却元件优先吸附在蚀刻过程中从晶片的聚合物层释放的挥发性化合物，如果所述化合物再沉积在晶片上，则它们将起到污染物的作用，例如，在暴露的金属接触部分它们可能干扰金属接触层的后续沉积。在期望的实施方式中，还提供了在所述蚀刻室中作为吸气材料源的吸气剂升华泵。还公开了在这种室中的蚀刻方法。

公开(公告)号：CN102985591A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201180027646.3

申请日：2011-05-28

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： R.巴兹伦

IPC分类号： C23C16/44

CPC分类号： C23C16/52 ,  C23C16/4409 ,  C23C16/4412

摘要： 将包含在真空室（11）中的加工室（12）的排气开口通过包括波纹管（03）的连接器连接到排气管道（13）上，上述波纹管（03）用其连接到排气管道（13）上的一端固定到外壳上，而其相对端包含用于连接到环绕排气开口的连接环（01）上的连接管（02），连接管（02）弹性地偏向排气开口。连接管（02）能在它处于与连接环（01）接触的连接状态和通过促动器在垂直于排气开口的轴向方向上可往复运动的分开状态之间移动。为了实现与加工室（12）的气密式连接，连接管（02）具有侧向活动这样以便当在连接状态下连接管（02）的锥形表面接触连接环（01）上的互补式锥形表面时它能与连接环（01）对准。促动器包括两个杆（04），该两个杆（04）贯穿连接管（02）的向外延伸的夹持环（05）的钻孔延伸并这样与连接管（02）相互作用以便将连接管（02）的侧向位置固定处于分开状态。

公开(公告)号：CN102725843A

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN201080052142.2

申请日：2010-11-17

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： 沃尔夫冈·里茨勒 ,  巴特·裘特凡梅斯特

IPC分类号： H01L23/14 ,  H01L23/538 ,  H01L21/56 ,  H01L23/31

CPC分类号： H01L24/96 ,  C23C14/22 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3244 ,  H01J2237/32 ,  H01L21/561 ,  H01L21/568 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67167 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67236 ,  H01L21/6835 ,  H01L23/147 ,  H01L23/293 ,  H01L23/3114 ,  H01L23/3128 ,  H01L23/5389 ,  H01L24/19 ,  H01L24/97 ,  H01L2224/0401 ,  H01L2224/04105 ,  H01L2224/12105 ,  H01L2224/20 ,  H01L2224/92 ,  H01L2224/97 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01047 ,  H01L2924/01075 ,  H01L2924/01082 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/10253 ,  H01L2924/12041 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/15311 ,  H01L2924/181 ,  H01L2924/18162 ,  H01L2924/3025 ,  H01L2924/3511 ,  H01L2924/3641 ,  H01L2224/96 ,  H01L2224/82 ,  H01L2924/00

摘要： 一种用于处理基材(1)的方法，基材放置于真空环境中时呈除气状态。此方法包括：置放此基材于真空中：通过加热此基材(1)至温度T1，并移除由此基材(1)所发出的气体污染物来进行除气处理，直到除气率被基材之污染物的扩散所决定，因而建立一实质稳态。然后，当基材之污染物的扩散率低于在温度T1的扩散率时，将温度降低至温度T2。在温度T2，基材(1)被进一步进行处理，直到基材(1)被含金属的薄膜(16)所覆盖。

公开(公告)号：CN101589451B

公开(公告)日：2012-03-07

申请号：CN200780046153.8

申请日：2007-12-12

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： J·韦查特 ,  S·卡德莱克

IPC分类号： H01J37/34

CPC分类号： C23C14/3485 ,  C23C14/35 ,  H01J37/32944 ,  H01J37/3408 ,  H01J37/3444 ,  H01J37/3467

摘要： 本发明提供了一种用于以磁控管阴极上的0.1与10A/cm2之间的电流密度产生靶溅射以在衬底上生成涂层的设备。所述设备包括可操作地连接到磁控管的电源以及可操作地连接到电源的至少一个电容器。还提供了第一开关。第一开关可操作地将电源连接到磁控管以对磁控管进行充电，并且第一开关被配置为根据第一脉冲来对磁控管进行充电。电偏压装置可操作地连接到衬底并被配置为施加衬底偏压。

公开(公告)号：CN101310377B

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN200680042607.X

申请日：2006-09-15

申请人： OC欧瑞康巴尔斯公司

发明人： B·肖尔特范马斯特 ,  H·克里斯特

IPC分类号： H01L21/687 ,  H01L21/677

CPC分类号： H01L21/67766 ,  H01L21/68707

摘要： 用于盘形的工件(2、3、4、5、7)的输送装置，包括可水平运动的输送臂和卡式盒(20)，其中所述输送臂具有两个布置在其上面的细长的用于接纳工件的支撑元件(26、27)，所述卡式盒(20)在两个对置的侧面上接纳工件(7)，其中构造所述支撑元件(26、27)及所述梳形结构(18)，使得这些支撑元件(26、27)能够在不与可能放置在梳形结构(18)中的工件相接触的情况下插入到两个相邻的梳齿(19)之间，用于垂直抬起或放下工件(7)，其中布置所述支撑元件(26、27)，使得这些支撑元件(26、27)在卡式盒啮合时基本上分别相邻地平行于所述梳形结构(18)沿梳齿定位并且在这个区域中设置了用于对工件(7)及其位置进行探测的扫描射线(35)，并且所述扫描射线(35)可相对于所述卡式盒(20)在高度上进行定位，其中按照相对于水平的工件平面倾斜一个小的角度(34)的方式来导引所述扫描射线(35)。