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公开(公告)号：CN103608958A
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201280028183.7
申请日：2012-06-04
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 秉-圣·郭 , 斯蒂芬·班格特 , 迪特尔·哈斯 , 奥姆卡尔姆·纳兰姆苏
IPC: H01M10/04 , H01M10/0585 , H01M6/40
CPC classification number: H01M10/0436 , H01M4/0423 , H01M4/0426 , H01M4/134 , H01M4/1395 , H01M4/382 , H01M6/188 , H01M6/40 , H01M6/50 , H01M10/0404 , H01M10/052 , Y02E60/122 , Y02P70/54
Abstract: 本发明描述用于制造薄膜电池的方法与混合型工厂。方法包括用于制造薄膜电池的操作。混合型工厂包括用于制造薄膜电池的一个或多个工具组。在实例中，用于制造锂基薄膜电池的混合工厂架构包括用于沉积有源层的处理工具。处理工具包括用于沉积有源层的群集工具。混合工厂架构还包括用于沉积有源层的内嵌工具和锂蒸镀工具，所述锂蒸镀工具具有将锂蒸镀工具耦接至群集工具和内嵌工具的一个或多个手套箱。
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公开(公告)号：CN119585462A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202280098362.1
申请日：2022-07-26
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 描述了一种用于处理柔性基板（10）的处理装置（100）。该处理装置（100）包括真空处理腔室（110），该真空处理腔室包括至少一个用于在柔性基板（10）上沉积材料层的沉积源（111）。进一步，该处理装置（100）包括后处理腔室（120），该后处理腔室包括后处理辊（130）和气体供应器（140）。该后处理辊（130）具有面向基板的表面（131），该面向基板的表面包括多个气体出口（132）。该气体供应器（140）连接至该后处理辊（130）以通过该多个气体出口（132）将气体提供到在该柔性基板与该面向基板的表面（131）之间的间隙中。
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公开(公告)号：CN118160127A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280068857.X
申请日：2022-09-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 类维生 , G·K·戈帕拉克里希南·奈尔 , 赵·K·秋静 , 丹尼尔·斯托克 , 托比亚斯·斯托利 , 托马斯·德皮施 , 简·德尔马斯 , 肯尼斯·S·勒德福 , 苏布拉曼亚·P·赫尔勒 , 基兰·瓦查尼 , 马亨德兰·奇丹巴拉姆 , 罗兰·特拉斯尔 , 尼尔·莫里森 , 弗兰克·施纳朋伯杰 , 凯文·劳顿·坎宁安 , 斯蒂芬·班格特 , 詹姆斯·库辛 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
IPC: H01M10/058 , H01M10/052 , B23K26/36 , B23K26/352
Abstract: 提供用于借由具有宽工艺窗、高效率及低成本的激光源来处理锂电池的方法及设备。激光源被调适以实现皮秒脉冲的高平均功率及高频率。激光源可在固定位置或以扫描模式产生线形光束。系统可在干燥室或真空环境中操作。系统可包括对处理位点的碎屑移除机制(例如，惰性气体流)以移除在图案化工艺期间产生的碎屑。
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公开(公告)号：CN116324011A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202080106409.5
申请日：2020-10-19
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/24
Abstract: 描述了一种用于在真空处理系统中向可移动装置(10)进行供应的供应布置(100)。所述供应布置(100)包括关节臂馈通系统(105)，所述关节臂馈通系统用于向所述可移动装置(10)提供供应线。附加地，所述供应布置(100)包括力补偿单元(140)，所述力补偿单元用于补偿绕设置在所述关节臂馈通系统(105)的第一端(101)处的第一接头(131)的第一旋转轴线(R1)的力矩(M)。所述力矩(M)由所述关节臂馈通系统(105)的重力引起。另外，描述了一种真空处理系统和一种在真空处理系统中向可移动装置进行供应的方法。
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公开(公告)号：CN109477204B
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201680082636.2
申请日：2016-05-10
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 , 斯蒂芬·班格特 , 德烈亚斯·勒普 , 哈拉尔德·沃斯特 , 迪特尔·哈斯
Abstract: 提供了一种操作沉积设备之方法。所述方法包括：通过从蒸发源(20)的一个或多个出口(22)导引蒸发的源材料朝向基板(10)而在基板(10)上沉积蒸发的源材料，其中部分的蒸发的源材料由屏蔽装置(30)阻挡并且附接于所述屏蔽装置，所述屏蔽装置布置在一个或多个出口(22)和基板(10)之间；接着通过至少局部地加热屏蔽装置(30)来清洁屏蔽装置(30)，以用于从屏蔽装置(30)释放至少部分的附接的源材料。根据另一方面，提供沉积设备，所述沉积设备可根据所述的方法操作。
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公开(公告)号：CN107078215B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201480083222.2
申请日：2014-11-07
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 斯蒂芬·班格特 , 乌韦·许斯勒 , 安德烈亚斯·勒普 , 乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波
IPC: H01L51/00 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C16/455
Abstract: 描述了一种用于在真空腔室(110)中在基板(121)上沉积蒸发的材料的线性分布管(106)。线性分布管(106)包括沿着第一方向(136)延伸的分布管壳体(116)，其中第一方向提供线性分布管的线性延伸，且其中分布管壳体包括第一壳体材料。线性分布管(106)进一步包括位于分布管壳体(116)中的沿着线性分布管的线性延伸而分布的多个开孔。另外，线性分布管壳体(116)包括经构造以引导真空腔室(110)中的蒸发的材料的多个喷嘴(712)。这些喷嘴(712)包括第一喷嘴材料，第一喷嘴材料具有大于第一壳体材料和/或大于21W/mk的热传导率。
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公开(公告)号：CN110573646A
公开(公告)日：2019-12-13
申请号：CN201880010796.5
申请日：2018-04-03
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/04 , C23C14/56 , C23C16/04 , H01L21/677 , H01L21/68 , C23C16/458 , H01L21/687
Abstract: 描述了一种用于在真空腔室(101)中的载体对准的设备(100)。此设备包括支撑件(110)，在真空腔室(101)中于第一方向(X)中延伸；磁性悬浮系统(120)，装配以在真空腔室(101)内于第一方向(X)中传送第一载体(10)，磁性悬浮系统包括至少一个磁铁单元(121)，以及对准系统(130)，对准系统(130)用以对准第一载体(10)。此至少一个磁铁单元(121)及对准系统刚性地固定于支撑件(110)。再者，描述了一种对准载体的真空系统及方法。
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