公开(公告)号：CN103827750A

公开(公告)日：2014-05-28

申请号：CN201280044672.1

申请日：2012-09-11

申请人： 富士胶片株式会社

发明人： 泷泽裕雄 ,  椿英明 ,  平野修史

IPC分类号： G03F7/038 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0041 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/325 ,  H01J37/3174

摘要： 一种图案形成方法，所述方法以下列顺序包括：步骤(1)：用电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物形成膜，所述电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物含有树脂(A)、化合物(B)和溶剂(C)，所述树脂(A)具有酸分解性重复单元并且能够通过酸的作用降低所述树脂(A)在含有有机溶剂的显影液中的溶解度，所述化合物(B)能够在用电子束或极紫外线辐射照射时产生酸；步骤(2)：用电子束或极紫外线辐射将所述膜曝光；和步骤(4)：在所述膜的曝光之后通过用包含有机溶剂的显影液将所述膜显影而形成阴图型图案，其中基于所述组合物的全部固体含量，所述化合物(B)的含量是21质量％至70质量％。

公开(公告)号：CN102574957B

公开(公告)日：2013-08-07

申请号：CN201080041255.2

申请日：2010-09-10

申请人： 株式会社ADEKA

发明人： 永井优 ,  冈田光裕 ,  滋野浩一

IPC分类号： C08F212/04 ,  C09K11/06 ,  H01L51/50 ,  H05B33/12 ,  C08F8/30

CPC分类号： C08F8/30 ,  C09D125/18 ,  H01L27/322 ,  C08F12/16 ,  C08F12/24

摘要： 本发明提供可在长时期内维持充分的变换光强度的绿色和红色变换膜以及表现出在长时期内稳定的发光特性的多色发光有机EL器件。本发明包含侧基型高分子化合物，其特征在于具有一种以上由通式(1)表示的重复单元以及一种以上由通式(2)、(6)或(7)表示的重复单元，设(1)∶(2)、(6)或(7)的摩尔比为m∶n则n/(m+n)＝1/100～100/100。

公开(公告)号：CN102639577A

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：CN201080051834.5

申请日：2010-11-17

申请人： 佳能株式会社

发明人： 见目敬 ,  板桥仁

IPC分类号： C08F220/58 ,  C08F212/14 ,  C08F228/02 ,  G03G9/08 ,  G03G9/087 ,  G03G9/097

CPC分类号： C08F212/08 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/58 ,  C08G63/918 ,  G03G9/08706 ,  G03G9/08708 ,  G03G9/08722 ,  G03G9/08726

摘要： 获得如下的调色剂用树脂或者调色剂：其在短时间内带电升高至充分带电量的迅速性、从初期延伸至在大量纸张上打印时的带电稳定性和高温高湿环境下的带电稳定性均优异。作为电荷控制树脂，其特征在于，包含具有磺酸或磺酸酯作为取代基的特定单元和具有水杨酸衍生物的特定单元。

公开(公告)号：CN102471410A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080033928.X

申请日：2010-08-04

申请人： 日本曹达株式会社

发明人： 高桥荣治 ,  丸毛伸儿 ,  三岛豪

IPC分类号： C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F297/00

CPC分类号： C08F297/02 ,  C08F2/06 ,  C08F4/48 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F220/18

摘要： 本发明的课题在于提供作为芯片层叠用粘接剂等密合性等特性令人满意的几种固化物用的共聚物。本发明为(1)一种共聚物，其特征在于，含有式(I)、式(II)和式(III)(式中，R1、R2和R3各自独立地表示氢原子或者甲基，R4表示烷基或者环烷基，R5表示氢原子或者C1～C6的烷基，m、n、k表示各重复单元的摩尔比例，m表示0以上且小于1的正数，n和k各自独立地表示正数，满足m+n+k＝1的关系。)表示的重复单元，其重均分子量在50000～200000的范围。

公开(公告)号：CN1111548C

公开(公告)日：2003-06-18

申请号：CN98812234.0

申请日：1998-12-01

申请人： 克拉里安特国际有限公司

发明人： M·D·拉曼 ,  J·索凯提斯 ,  R·E·波特温 ,  M·A·卡迪姆

IPC分类号： C08F8/30 ,  C08F8/28

CPC分类号： C08F8/30 ,  C08F12/24

摘要： 一种制备去离子树脂的方法，它包括：最少具有一个活性羟基和一个活性螯合部位的有机化合物与最少有一个活生羟基或氨基的有机高分子基体反应；产生螯合的聚合物配合物；用水洗涤此聚合物配合物，再用无机酸溶液洗；再用水洗，以此减小钠、铁和铬离子在聚合物配合物中的含量，使之均低于100ppb。

公开(公告)号：CN1253638A

公开(公告)日：2000-05-17

申请号：CN98804588.5

申请日：1998-04-21

申请人： 克拉里安特国际有限公司

发明人： 丁术季 ,  D·N·科汉纳 ,  卢炳宏 ,  单鑑会 ,  R·R·旦莫尔 ,  D·L·杜尔哈姆 ,  M·D·拉赫曼 ,  I·莫克库罗赫

IPC分类号： G03F7/09 ,  C08F8/30

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08F8/00 ,  C08F8/30 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F2810/20 ,  C08F220/14

摘要： 本发明涉及一种在光刻胶中用于吸收反射光、适用作抗反射涂料或用作添加剂的新颖的聚合物。所述新颖的聚合物包含:至少一种含有吸收约180纳米至约450纳米的染料的单元,和至少一种不含芳香官能度的单元。所述聚合物溶于有机溶剂,优选溶于低毒性溶剂,或者可溶于水,所述溶剂另外还可以包含其它与水可混溶的有机溶剂。

公开(公告)号：CN106133886B

公开(公告)日：2019-07-30

申请号：CN201580016286.5

申请日：2015-03-23

申请人： 富士胶片株式会社

发明人： 永田裕三 ,  泷泽裕雄 ,  土村智孝 ,  鹤田拓也

IPC分类号： H01L21/312 ,  C08F212/00 ,  C08F220/10 ,  H01L21/283 ,  H01L29/786 ,  H01L51/05 ,  H01L51/30

CPC分类号： H01L51/004 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F20/28 ,  C08F212/14 ,  C08F2500/02 ,  C08F2800/10 ,  C08F2810/20 ,  H01L21/02118 ,  H01L29/786 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0055 ,  H01L51/0071 ,  H01L51/0094 ,  H01L51/052 ,  H01L51/0545 ,  H01L51/0566 ,  C08F2220/325 ,  C08F212/32 ,  C08F220/36 ,  C08F2220/302 ,  C08F2220/343

摘要： 本发明提供一种半导体元件及绝缘层形成用组成物，所述半导体元件具有半导体层、及与该半导体层相邻的绝缘层，在所述半导体元件中，所述绝缘层由高分子化合物的交联物形成，该高分子化合物具有以下述通式(IA)表示的重复单元(IA)和以下述通式(IB)表示的重复单元(IB)。通式(IA)中，R1a表示氢原子、卤原子或烷基。L1a及L2a分别独立地表示单键或连结基。X表示交联性基。m2a表示1～5的整数，当m2a为2以上时，m2a个X可以彼此相同也可以互不相同。m1a表示1～5的整数，当m1a为2以上时，m1a个(‑L2a‑(X)m2a)可以彼此相同也可以互不相同。通式(IB)中，R1b表示氢原子、卤原子或烷基。L1b表示单键或连结基，Ar1b表示芳香族环。m1b表示1～5的整数。

公开(公告)号：CN103329045B

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201180065257.X

申请日：2011-12-22

申请人： 富士胶片株式会社

发明人： 土村智孝 ,  八尾忠辉

IPC分类号： G03F7/038 ,  C08F12/24 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0382 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F257/00 ,  C08K5/19 ,  C09D125/18 ,  G03F1/20 ,  G03F1/22 ,  G03F1/56 ,  G03F1/76 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2039 ,  C08F212/32 ,  C08L25/18 ,  C08F2220/185 ,  C08F220/42

摘要： 一种化学增幅型光阻组成物、光阻膜、空白光罩、光阻图案形成方法、光罩及聚合化合物，化学增幅型光阻组成物含有：(A)具有酚羟基的氢原子经具有酸不可分解多环脂环族烃结构的基团置换的结构的聚合化合物；以及(B)能够在用光化射线或辐射照射后产生酸的化合物。

公开(公告)号：CN103827750B

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201280044672.1

申请日：2012-09-11

申请人： 富士胶片株式会社

发明人： 泷泽裕雄 ,  椿英明 ,  平野修史

IPC分类号： G03F7/038 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0041 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F212/32 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2059 ,  G03F7/325 ,  H01J37/3174

摘要： 一种图案形成方法，所述方法以下列顺序包括：步骤(1)：用电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物形成膜，所述电子束敏感或极紫外线辐射敏感树脂组合物含有树脂(A)、化合物(B)和溶剂(C)，所述树脂(A)具有酸分解性重复单元并且能够通过酸的作用降低所述树脂(A)在含有有机溶剂的显影液中的溶解度，所述化合物(B)能够在用电子束或极紫外线辐射照射时产生酸；步骤(2)：用电子束或极紫外线辐射将所述膜曝光；和步骤(4)：在所述膜的曝光之后通过用包含有机溶剂的显影液将所述膜显影而形成阴图型图案，其中基于所述组合物的全部固体含量，所述化合物(B)的含量是21质量％至70质量％。

公开(公告)号：CN106133606A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201580015088.7

申请日：2015-02-25

申请人： 日产化学工业株式会社

发明人： 桥本雄人 ,  境田康志 ,  高濑显司 ,  坂本力丸

IPC分类号： G03F7/11 ,  C08F12/22 ,  C08F220/10 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/11 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/382 ,  C09D7/65 ,  C09D125/14 ,  C09D167/02 ,  G03F7/039 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

摘要： 本发明的课题是提供用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含该添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明的解决方法是一种用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含前述添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述添加剂含有具有下述式(1)～式(4)所示的结构单元的共聚物(式中，R1分别独立地表示氢原子或甲基，Ar表示亚芳基，Pr表示保护基或氢原子，X表示直接结合或‑C(＝O)O‑R2‑基，构成该‑C(＝O)O‑R2‑基的R2表示碳原子数为1～3的亚烷基，该亚烷基与硫原子结合，R3表示氢原子、甲基、甲氧基或卤素，R4表示至少1个氢原子被氟取代了的碳原子数为1～3的烷基，Z表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架或降冰片烷骨架的有机基团。)。