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公开(公告)号：CN106206221A
公开(公告)日：2016-12-07
申请号：CN201610203655.8
申请日：2016-04-01
申请人： 住友重机械离子技术有限公司
发明人： 佐藤正辉
IPC分类号： H01J27/02 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/32669 , H01J37/32055 , H01J37/3233 , H01J37/32357 , H01J37/32422 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01J37/32541 , H01J37/3255 , H01J2237/3365 , H01J27/02 , H01J27/022 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/317 , H01J37/3171
摘要： 本发明提供一种提高装置寿命及等离子生成效率的等离子生成装置。等离子生成装置具备：电弧室(12)，内部具有生成等离子的等离子生成区域；磁场发生器(16)，向等离子生成区域施加磁场(B)；以及阴极(30)，在沿着施加到等离子生成区域的磁场(B)的施加方向的轴向上延伸，且在其前端设置有放出热电子的阴极罩。阴极罩具有朝向电弧室(12)的内部在轴向上突出，且随着朝向电弧室(12)的内部，与轴向正交的径向宽度变小的形状。
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公开(公告)号：CN105304440A
公开(公告)日：2016-02-03
申请号：CN201510256446.5
申请日：2015-05-14
申请人： 斯伊恩股份有限公司
发明人： 佐藤正辉
CPC分类号： H01J37/06 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J2237/082
摘要： 本发明提供一种能够减少阴极的维护频率的离子发生装置及热电子放出部。本发明的离子发生装置具备：电弧室(12)；阴极(30)，从电弧室(12)的内部向外轴向延伸，且向电弧室内放出热电子；筒状热反射器(56)，设置于阴极(30)的径向外侧，且沿轴向延伸；及狭小结构(60)，在夹在阴极(30)与热反射器(56)之间的间隙(58)，径向宽度WB在轴向规定位置变小。
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公开(公告)号：CN104885185A
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201380063410.4
申请日：2013-10-11
申请人： 瓦里安半导体设备公司
发明人： 杰弗里·查尔斯·伯拉尼克 , 威廉·T·维弗
IPC分类号： H01J27/04 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/317 , H01J27/02 , H01J37/302
CPC分类号： H01J27/024 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/302 , H01J37/3171 , H01J2237/043 , H01J2237/30472 , H01J2237/3171
摘要： 离子源包括界定电弧室的电弧室外壳，电弧室外壳在固定位置上具有提取板，提取板界定多个提取孔。离子源还包括挡帘组件，挡帘组件安装于电弧室外侧的靠近提取板处。挡帘组件经配置以于一时间间隔期间阻挡所述多个提取孔中的一者的至少一部分。以自离子源提取的离子束处理工件，并结合离子源与所述待处理工件的相对移动，使得仅用一种离子源即能在工件上形成二维离子植入图案。
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公开(公告)号：CN102105966B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN200980129479.6
申请日：2009-06-09
申请人： 瓦里安半导体设备公司
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/08 , H01J27/16 , H01J37/3171 , H01J2237/061 , H01J2237/0817 , H01J2237/082 , H01J2237/0827 , H01J2237/304
摘要： 揭示一种离子植入设备、多模式离子源及多模式中的离子植入方法。在一特定例示性实施例中，可将所述技术实现为离子植入设备，其包括在多种模式下操作的离子源，使得第一模式为弧放电模式，且第二模式为RF模式。
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公开(公告)号：CN102668720A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080059357.7
申请日：2010-10-22
申请人： 伊利诺斯工具制品有限公司
发明人： 彼得·格夫特 , 莱斯利·韦恩·帕奇吉 , 莱尔·德怀特·纳尔森
IPC分类号： H05F3/02
CPC分类号： H01T23/00 , H01J27/022 , H01J27/08 , H01T19/04 , H05F3/06
摘要： 披露用于稳定的产生电气平衡且超纯净的离子化气体流的自我平衡电晕放电。通过促进使自由电子转换成负离子的电子转换，且不添加氧气或其他负电性气体至气体流中，而达到此效果。本发明可被使用于负电性和/或正电性或惰性气体流，且可包含使用闭环电晕放电控制系统。
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公开(公告)号：CN102396048A
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200980158194.5
申请日：2009-08-12
申请人： 先进科技材料公司
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/08 , C23C14/48 , C23C14/54 , C23C14/564 , H01J27/08 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J37/32862 , H01J2237/0209 , H01J2237/022 , H01J2237/082 , H01J2237/22
摘要： 本发明系关于藉由监测阴极偏压功率且取决于比较值采取校正动作而藉由利用能够生长/蚀刻在一离子植入系统之间接加热的阴极中的该阴极的温度及/或反应性清洗试剂来蚀刻或再生长该阴极以清洗一离子植入系统或其部件。
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公开(公告)号：CN1816243B
公开(公告)日：2011-03-09
申请号：CN200510131760.7
申请日：2005-12-16
申请人： 通用电气公司
发明人： J·O·诺尔林 , J·-O·贝里斯特伦
摘要： 本发明涉及一种可改进回旋加速器中的离子源寿命和性能的方法和设备。根据一个实施例，本发明包括用于维持其中的等离子体放电的离子源管道(300)。所述离子源管道(300)包括沿所述离子源管道(300)侧面的狭缝开口(310)，其中所述狭缝开口(310)具有小于0.29毫米的宽度。所述离子源管道(300)还包括所述离子源管道(300)端部中的端部开口(314)。所述端部开口(314)小于所述离子源管道(300)的内径且自所述离子源管道(300)的中心轴线(316)朝向所述狭缝开口(310)移动0-1.5毫米。所述等离子体柱相对于所述狭缝开口(310)移动0.2至0.5毫米。所述离子源管道(300)包括适于所述等离子体放电的空腔(312)。本发明还涉及一种用于制造离子源管道(300)的方法。
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公开(公告)号：CN1983504B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200510120697.7
申请日：2005-12-14
申请人： 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 , 鸿海精密工业股份有限公司
发明人： 陈杰良
CPC分类号： H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/3053 , H01J2237/0455 , H01J2237/061 , H01J2237/0835 , H01J2237/30477 , H01J2237/3151
摘要： 本发明涉及一种离子源及使用所述离子源的模具抛光装置。所述模具抛光装置包括一离子源，所述离子源用于发射进行抛光的离子束，所述离子源包括一腔体及设置于所述腔体中的一阴极灯丝、一阴极、一屏极、一加速极及一可调屏极，所述阴极靠近所述阴极灯丝设置，所述屏极、加速极及可调屏极依次远离所述阴极设置，所述阴极、屏极、加速极及可调屏极上的电位依次降低，所述可调屏极包括一通孔，所述通孔大小及形状可调，从而可利用所述通孔调节射出的离子束截面大小及形状。利用本发明的模具抛光装置，可获得中心线平均表面粗糙度处于0.2～1纳米的平滑表面。
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公开(公告)号：CN100533649C
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200410080877.2
申请日：2004-10-11
申请人： 应用材料有限公司
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J2237/082
摘要： 本发明涉及离子源，其包括适用于离子注入机的阴极和反阴极。本发明提供了一种离子源，包括真空室；其可被操作以产生并容纳等离子体；阴极，其可被操作以沿着电子轨迹将电子射入所述电弧室中；设置在电子轨迹中的反阴极；分别与阴极和反阴极中的每一个单独相连的电连接，该电连接包括分别通向真空室外部的真空通路；以及位于真空室外部的电压电势调节器，该电压电势调节器通过该真空通路至少与反阴极相连接，并可被操作以改变反阴极相对于阴极的电势。
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公开(公告)号：CN101449354A
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200780018052.X
申请日：2007-05-17
申请人： 艾克塞利斯科技公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01J27/02 , H01J37/08 , H01J27/08
CPC分类号： H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/304 , H01J37/32467 , H01J2237/002 , H01J2237/082 , H01J2237/31701
摘要： 本发明公开了一种用于产生离子流的示例性离子源，所述离子源具有至少部分地界定电弧室的离子化区的铝合金电弧室主体。电弧室主体和热丝状体电弧室壳体一起使用，所述热丝状体电弧室壳体或者直接或者间接地将阴极加热到足够的温度，以使电子流动通过电弧室的离子化区。温度传感器监测电弧室内的温度，并提供与感测的温度相关的信号。当传感器进行测量时控制器监测感测的温度，并调节温度以将感测的温度保持在一范围内。
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