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    受控剂量离子注入
    43.
    发明授权
    受控剂量离子注入 失效

    公开(公告)号：CN100583377C

    公开(公告)日：2010-01-20

    申请号：CN200580038756.4

    申请日：2005-09-08

    申请人： 艾克塞利斯技术公司

    发明人： A·阿加华尔 ,  R·拉斯梅尔 ,  D·侯格路德

    IPC分类号： H01J37/317 ,  H01J37/304

    CPC分类号： H01J37/304 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/30472

    摘要： 一种离子注入机，用于产生扁带或带状束，其具有一种扫描装置，该扫描装置对由一源所发射的离子进行横向扫描，以提供移动至一注入室内的薄离子束。一工件支撑件将工件定位于注入室之内，且一驱动器使得该工件支撑件垂直于该扁带的平面而上下移动，以通过该薄的带状离子束，以实现对工件的受控束处理。一控制器包括：第一控制输出，其耦合至扫描装置，将对该离子束的横向扫描范围限制成小于一最大量，并由此将对该工件的离子处理限制到该工件的一指定区域；及第二控制输出，其耦合至该驱动器，同时将该工件的上下移动范围限制成小于一最大量，且使得离子束冲击工件的受控部分。

    超高真空聚焦离子束微研磨及其制品
    46.
    发明公开
    超高真空聚焦离子束微研磨及其制品 失效

    公开(公告)号：CN1148436A

    公开(公告)日：1997-04-23

    申请号：CN96190157.8

    申请日：1996-02-01

    申请人： 加里福尼亚大学董事会

    发明人： 布鲁斯·C·拉马丁 ,  罗杰·A·斯塔兹

    IPC分类号： G06F19/00 ,  H01J37/304 ,  B23K26/00

    CPC分类号： H01J37/3056 ,  H01J2237/30411

    摘要： 本发明公开了一种可以在没有化学辅助的环境下取得高值高宽比的超高真空聚焦离子束微研磨设备及其工艺。一个超高真空腔(10)包括多个通口，用于观察目标衬底，对目标衬底进行镀膜，插入或者操作目标衬底，以及对目标衬底进行各种分析。通口(12)可以是一个具有用于摄影通口的通口(14)。此外，本发明公开了一种采用微研磨工艺制作的耐久的数据存储介质，该耐久的数据存储介质可以存储诸如数字字符或字母字符以及图形形体或图形字符。

    使用聚焦粒子束修复样品的缺陷的方法与装置
    47.
    发明公开
    使用聚焦粒子束修复样品的缺陷的方法与装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN117980820A

    公开(公告)日：2024-05-03

    申请号：CN202280061098.4

    申请日：2022-09-08

    申请人： 卡尔蔡司SMT有限责任公司

    发明人： N·奥思 ,  D·里诺 ,  R·费蒂格

    IPC分类号： G03F1/74 ,  H01J37/304 ,  H01J37/305

    摘要： 本发明有关于一种使用聚焦粒子束(227)修复样品(205、300、1500)的至少一个缺陷(320)的方法，包括以下步骤：(a)产生(1850)至少一个第一局部导电牺牲层(400、500)于该样品(205、300、1500)上，其中该第一局部导电牺牲层(400、500)具有第一部分(410、510)和至少一个第二部分(420、530、540、550、560)，其中该第一部分(410、510)与该至少一个缺陷(320)相邻，且其中该第一部分(410、510)和该至少一个第二部分(420、530、540、550、560)导电连接彼此(570、580)；以及(b)产生(1860)至少一个第一参考标记(425、435、445、455、535、545、555、565)于该第一局部导电牺牲层(400、500)的该至少一个第二部分(420、530、540、550、560)上，以用于在该至少一个缺陷(320)被修复时校正该聚焦粒子束(227)相对于该至少一个缺陷(320)的漂移。

    带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置
    49.
    发明授权
    带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置 有权

    公开(公告)号：CN111624857B

    公开(公告)日：2024-04-02

    申请号：CN202010118952.9

    申请日：2020-02-26

    申请人： 纽富来科技股份有限公司

    发明人： 松井秀树

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F9/00 ,  H01J37/304 ,  H01J37/317

    摘要： 一种带电粒子束描绘方法以及带电粒子束描绘装置，实施方式所涉及的带电粒子束描绘方法一边使基板移动一边对其照射带电粒子束，对将上述基板的描绘区域以宽度W分割而成的多个条带的每个依次描绘图案。在该方法中，将针对每个条带一边以设定的条带偏移量在上述条带的宽度方向上使上述条带的基准点偏移并且切换上述基板的移动方向、一边以多重度2n描绘上述多个条带的处理设为1次行程，进行S次上述行程的描绘处理，在上述行程的每个，以设定的行程偏移量在上述条带的宽度方向上使上述行程中的上述条带的基准点偏移而进行描绘，其中，n为1以上的整数，S为2以上的整数。

    离子束电流测定装置及计算方法、试样制成装置
    50.
    发明授权
    离子束电流测定装置及计算方法、试样制成装置 有权

    公开(公告)号：CN111564352B

    公开(公告)日：2024-02-06

    申请号：CN202010088500.0

    申请日：2020-02-12

    申请人： 日本电子株式会社

    发明人： 小塚心寻

    IPC分类号： H01J37/244 ,  H01J37/248 ,  H01J37/30 ,  H01J37/304 ,  G01R19/00

    摘要： 本发明提供一种离子束电流测定装置及计算方法、试样制成装置。不扰乱离子源内的离子化状态地计算出离子束电流值。本发明的一个方式具备：高压施加电路，其基于电压条件，向离子源的阳极与阴极之间施加电压来向阳极供给输出电流；气体流量调整机构，其调整向离子源内导入的成为离子材料的气体的流量；存储器，其记录有表示气体的流量与向引出电极流动的引出电流的值之间的关系的信息；以及运算处理部，其基于存储器中记录的信息来求出与气体的流量对应的引出电流，从由高压施加电路向阳极供给的输出电流的值减去引出电流的值，来计算离子束的电流值。