公开(公告)号：CN107533291A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680020125.8

申请日：2016-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  佐藤隆 ,  清水洋子

IPC: G03F7/004 ,  C07D311/78 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/039 ,  C07D311/78 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/30

Abstract: 本发明的抗蚀剂组合物含有选自特定式子所示的化合物以及将它们作为单体而得到的树脂中的1种以上。

公开(公告)号：CN107430338A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680020529.7

申请日：2016-03-02

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  樋田匠 ,  佐藤隆

IPC: G03F7/022 ,  C08G8/04

Abstract: 本发明是一种辐射敏感组合物，其含有(A)抗蚀基材、(B)重氮萘醌光活性化合物以及(C)溶剂，该组合物中，固体成分的含量为1～80质量％的范围，溶剂的含量为20～99质量％的范围，该(A)抗蚀基材为特定式所示的化合物。

公开(公告)号：CN107428646A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680018256.2

申请日：2016-03-17

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  越后雅敏 ,  牧野嶋高史

IPC: C07C39/367 ,  C07C37/72 ,  C07C41/38 ,  C07C43/23 ,  C08G8/20 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R1表示碳数1～30的2n价基团，R2～R5各自独立地表示碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基。其中，选自R1～R5中的至少一个表示包含碘原子的基团，R4中的至少一个和/或R5中的至少一个表示选自由羟基和巯基组成的组中的1种以上。m2和m3各自独立地表示0～8的整数，m4和m5各自独立地表示0～9的整数。其中，m4和m5不同时表示0。n表示1～4的整数，p2～p5各自独立地表示0～2的整数。)

公开(公告)号：CN106462072A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580024203.7

申请日：2015-05-08

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 牧野岛高史 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的光刻用膜形成材料，其含有下述式有氧原子的一价基团、含有硫原子的一价基团、含有氮原子的一价基团、烃基或卤原子，p各自独立地是0～4的整数。)(1)所示的化合物。(式(1)中，R0各自独立地是含

公开(公告)号：CN106133604A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201580013887.0

申请日：2015-03-13

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/038 ,  C07C39/15 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的保护剂组合物包含特定的式子所表示的化合物。上述化合物尽管是低分子量，由于其高芳香族性骨架而具有高的耐热性，从而也可在高温烘焙条件下使用。由于如上述那样的构成，本发明的保护剂组合物的耐热性优异、对于安全溶剂的溶解性高、高灵敏度且能够赋予良好的保护剂图案形状。即，本发明的保护剂组合物作为酸扩增型非高分子系保护剂材料是有用的。

公开(公告)号：CN106094440A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201610562638.3

申请日：2012-08-09

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  东原豪 ,  内山直哉

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027

Abstract: 提供碳浓度高、氧浓度低、耐热性较高、溶剂溶解性也比较高、能够适用湿式工艺的新型光刻用下层膜形成材料、光刻用下层膜及图案形成方法。一种下述通式(1)所示的化合物作为光刻用下层膜的应用，式(1)中，X各自独立地是氧原子或硫原子，R1各自独立地是单键或碳原子数为1～30的2n价的烃基，该烃基任选具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6～30的芳香族基团，R2各自独立地是碳原子数为1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳原子数为6～10的芳基、碳原子数为2～10的链烯基或羟基，其中，R2的至少一个是羟基，m各自独立地是1～6的整数，n是1～4的整数。

公开(公告)号：CN103946204B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201280056230.9

申请日：2012-11-14

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  山川雅子

IPC: C07C43/215 ,  C07C37/20 ,  C07C41/16 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/027 ,  C07C39/17 ,  C07C43/215 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/92 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0755

Abstract: 本发明的环状化合物为分子量500～5000的式(1)所示的环状化合物。

公开(公告)号：CN103102251B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201210519762.3

申请日：2007-11-01

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  小黑大

IPC: C07C39/17 ,  C07C37/20 ,  C07C39/42 ,  C07C59/70 ,  C07C65/105 ,  C07C69/736 ,  C08G8/04 ,  C08G8/08 ,  C08G8/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C07C37/20 ,  C07C39/12 ,  C07C39/17 ,  C07C39/42 ,  C07C45/49 ,  C07C59/70 ,  C07C65/105 ,  C07C69/736 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07C2603/92 ,  C07D307/33 ,  C08G8/04 ,  C08G8/08 ,  C08G8/20 ,  G03F7/022 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/109 ,  C07C47/546

Abstract: 本发明提供了含有高灵敏度、高分辨力、高耐蚀刻性、低逸气量、以及得到的抗蚀图形的形状良好的抗蚀剂化合物的放射线敏感性组合物；以及使用该放射线敏感性组合物的抗蚀图形的形成方法；以及光学特性和耐蚀刻性良好的、而且实质上无升华物的用于形成新的光刻胶下层膜的组合物及由其形成的下层膜。该放射线敏感性组合物含有具有特定结构的环状化合物和溶剂，所述环状化合物为通过醛类化合物A1和酚类化合物A2的缩合反应而合成的分子量为700-5000的环状化合物A，其中所述醛类化合物A1为碳原子数为2-59且具有1-4个甲酰基的化合物，所述酚类化合物A2为碳原子数为6-15且具有1-3个酚羟基的化合物。还提供了用于该组合物的环状化合物。

公开(公告)号：CN104969127A

公开(公告)日：2015-10-07

申请号：CN201480007892.6

申请日：2014-02-04

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  牧野岛高史 ,  内山直哉

IPC: G03F7/11 ,  C07D493/04 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的光刻用下层膜形成材料，其含有具有下述通式(1)所示结构的化合物。式(1)中，X各自独立地是氧原子或硫原子，R1是单键或碳原子数为1～30的2n价的烃基，该烃基可以具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6～30的芳香族基团，R2是碳原子数为1～10的直链状、支链状或环状的烷基，碳原子数为6～10的芳基，碳原子数为2～10的烯基或羟基，m是0～3的整数，n是1～4的整数，p是0或1，q是1～100的整数。

公开(公告)号：CN104395370A

公开(公告)日：2015-03-04

申请号：CN201380032495.X

申请日：2013-06-07

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 越后雅敏 ,  内山直哉

IPC: C08G59/20 ,  B32B15/08 ,  B32B15/092 ,  C08G8/28 ,  H01L23/29 ,  H01L23/31 ,  H05K1/03

CPC classification number: C09J163/00 ,  B32B5/26 ,  B32B15/14 ,  B32B15/20 ,  B32B2260/023 ,  B32B2260/046 ,  B32B2262/101 ,  B32B2307/306 ,  B32B2457/00 ,  C08G10/04 ,  C08G59/063 ,  C08G59/1494 ,  C08G59/245 ,  C08G59/4021 ,  C08G59/686 ,  C08L61/12 ,  C08L63/00 ,  H01L23/293 ,  H01L2924/0002 ,  H05K1/0326 ,  H05K1/09 ,  H05K3/386 ,  H05K3/4626 ,  Y10T428/31529 ,  H01L2924/00

Abstract: 经由以下工序(a)～(d)得到的环氧树脂。工序(a)：在催化剂的存在下，使式(1)和/或(2)所示的化合物与甲醛反应，由此得到芳香族烃甲醛树脂；工序(b)：使用酸性催化剂和水，对工序(a)中得到的芳香族烃甲醛树脂进行处理，由此得到经过酸性处理的树脂；工序(c)：使用酸性催化剂和式(3)所示的化合物，对工序(b)中得到的经过酸性处理的树脂进行处理，由此得到改性树脂；工序(d)：使工序(c)中得到的改性树脂与环氧卤丙烷反应，由此得到环氧树脂。