图像传感器及其制造方法

    公开(公告)号:CN101266988A

    公开(公告)日:2008-09-17

    申请号:CN200710161864.1

    申请日:2007-09-24

    发明人: 李玟炯

    IPC分类号: H01L27/146 H01L21/82

    摘要: 本发明公开了一种图像传感器及其制造方法,该图像传感器包括具有晶体管电路和多个下部互连件的衬底。多个第一互连件在衬底上彼此隔开的形成,并通过所述多个下部互连件电连接到CMOS电路。在所述多个第一互连件之间形成多个平坦化的绝缘层以隔开各个单元像素。在包括所述多个绝缘层的衬底上形成本征层,以及在所述本征层上形成第二导电层。所述多个第一互连件、所述本征层和所述第二导电层提供了用于所述图像传感器的光电二极管。根据本发明的图像传感器及其制造方法,能够提高分辨率和灵敏度。

    图像传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN101325206A

    公开(公告)日:2008-12-17

    申请号:CN200710308341.5

    申请日:2007-12-29

    发明人: 李玟炯

    IPC分类号: H01L27/146 H01L21/822

    摘要: 本发明涉及一种图像传感器及其制造方法。一种图像传感器,包括:具有像素区和外围电路区的半导体衬底;具有形成在半导体衬底上的金属引线和焊盘的层间介电层;选择性地形成在金属引线上的下电极;形成在像素区的层间介电层上的光电二极管;以及形成在光电二极管上的上电极。因此,本发明能够提供晶体管和光电二管的填充因子接近100%的垂直集成方法,提供比现有技术更高的灵敏度,在不降低各单位像素的灵敏度的情况下实现更复杂的电路,通过防止像素之间的串扰等提高图像传感器的可靠性,通过增加在单位像素中的光电二极管的表面面积而提高光灵敏性的光学特性。

    图像传感器及其制造方法

    公开(公告)号:CN101271910A

    公开(公告)日:2008-09-24

    申请号:CN200710153488.1

    申请日:2007-09-20

    发明人: 李玟炯

    IPC分类号: H01L27/146 H01L21/822

    摘要: 公开了一种图像传感器,其包括形成于层间介电层的对应金属互连件上的多个像素图案和形成于多个像素图案中的相邻像素图案之间的虚拟像素图案。虚拟像素图案不形成为连接到金属互连件。虚拟像素图案与多个像素图案之间可形成一定的间隔,使得在本征层中虚拟像素图案与像素图案之间形成气隙,其中本征层形成于虚拟像素图案和多个像素图案上。本发明能够抑制像素之间的串扰和噪声。

    图像传感器及其制备方法

    公开(公告)号:CN101325206B

    公开(公告)日:2011-04-06

    申请号:CN200710308341.5

    申请日:2007-12-29

    发明人: 李玟炯

    IPC分类号: H01L27/146 H01L21/822

    摘要: 本发明涉及一种图像传感器及其制造方法。一种图像传感器,包括:具有像素区和外围电路区的半导体衬底;具有形成在半导体衬底上的金属引线和焊盘的层间介电层;选择性地形成在金属引线上的下电极;形成在像素区的层间介电层上的光电二极管;以及形成在光电二极管上的上电极。因此,本发明能够提供晶体管和光电二管的填充因子接近100%的垂直集成方法,提供比现有技术更高的灵敏度,在不降低各单位像素的灵敏度的情况下实现更复杂的电路,通过防止像素之间的串扰等提高图像传感器的可靠性,通过增加在单位像素中的光电二极管的表面面积而提高光灵敏性的光学特性。

    图像传感器及其制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101271910B

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200710153488.1

    申请日:2007-09-20

    发明人: 李玟炯

    IPC分类号: H01L27/146 H01L21/822

    摘要: 公开了一种图像传感器,其包括形成于层间介电层的对应金属互连件上的多个像素图案和形成于多个像素图案中的相邻像素图案之间的虚拟像素图案。虚拟像素图案不形成为连接到金属互连件。虚拟像素图案与多个像素图案之间可形成一定的间隔,使得在本征层中虚拟像素图案与像素图案之间形成气隙,其中本征层形成于虚拟像素图案和多个像素图案上。本发明能够抑制像素之间的串扰和噪声。