一种高电流密度垂直供配电模组及其封装工艺

    公开(公告)号:CN116156752A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202211240175.0

    申请日:2022-10-11

    Abstract: 本发明公开了一种高电流密度垂直供配电模组及其封装工艺,属于微电子封装技术领域,解决了现有技术中供配电模组体积尺寸大、电流密度低、埋入式芯片封装热阻高、散热困难、结温过高的问题。该模组中,底部电极、封装基板、功率器件和顶部电极层叠;集成电路芯片和无源器件埋置于封装基板内部且在垂直方向上叠层。该封装工艺包括将集成电路芯片埋置于第一芯板中,将无源器件埋置于第二芯板中,压合构成封装基板;对封装基板进行钻孔、孔壁金属化和塞孔得到待封装整体;对待封装整体进行灌封、研磨和表面金属化。该模组和封装工艺能够有效提高电流密度。

    一种金属绝缘基板铜线结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN114628354A

    公开(公告)日:2022-06-14

    申请号:CN202210173511.8

    申请日:2022-02-24

    Abstract: 本发明公开了一种金属绝缘基板铜线结构及其制备方法,涉及半导体技术领域,用于提供一种具有具有圆弧边缘和圆弧角的铜线层的金属绝缘基板铜线结构的技术方案。金属绝缘基板厚铜线路结构包括:金属板层、形成在金属板层上的绝缘层,以及形成在绝缘层上的铜线层;其中,铜线层由电火花工艺对铜板层进行处理形成,铜线层具有圆弧边缘和圆弧角。金属绝缘基板铜线结构的制备方法包括以下步骤:提供金属板层,绝缘层以及铜板层层叠形成的第一叠层结构;利用电火花工艺对铜板层的非图形区域进行减薄处理,以将非图像区域的铜板层减薄至第二预设厚度;去除铜板层的非图形区域在电火花工艺中形成的硬化层,得到铜线层;其中,铜线层具有圆弧边缘和圆弧角。

    一种用于PoP封装的散热结构的制作方法

    公开(公告)号:CN103560090B

    公开(公告)日:2016-06-15

    申请号:CN201310533245.6

    申请日:2013-10-31

    Inventor: 侯峰泽 刘丰满

    Abstract: 本发明公开了一种用于PoP封装的散热结构的制作方法,包括:制作上层封装基板,其中上层封装基板内有thermal via,还有若干层大面积铜箔,四周有填充满铜的半过孔;将多个上层封装导热芯片或器件贴在或者焊在上层封装基板中的多个thermal via上,形成上层封装体;制作下层封装体;在上层封装基板背面焊盘上刷锡膏,钢网植BGA球并回流,形成BGA支撑球;在下层封装体基板上表面焊盘上刷焊锡膏,下层封装焊盘与上层封装体BGA支撑球对齐后,回流实现上层封装体与下层封装体互联;在下层封装体基板背面焊盘上刷锡膏,钢网植BGA球,回流实现下层封装体植球;在上层封装体顶部上设置一个散热罩,在上层封装导热芯片或器件与散热罩之间涂一层高导热率热界面材料。

    芯片封装
    10.
    发明公开
    芯片封装 审中-实审

    公开(公告)号:CN118173507A

    公开(公告)日:2024-06-11

    申请号:CN202410302177.0

    申请日:2024-03-15

    Abstract: 本发明公开了一种封装芯片,包括:热沉,热沉适用于对芯片进行热传导;热界面材料层,设置在芯片和热沉之间,适用于将芯片产生的热量通过热界面材料层传导至热沉;框架,框架包覆芯片和热沉,以将芯片和热沉固定在框架中,并且热沉穿过框架与外部冷源相连通;其中,框架内填充有第一填充物,框架和第一填充物适用于对芯片进行热隔绝;框架的热导率小于1W/mK;第一填充物的热导率小于0.5W/mK。

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