氧化锌在氮化镓上的多步沉积

    公开(公告)号:CN108028297A

    公开(公告)日:2018-05-11

    申请号:CN201680053755.5

    申请日:2016-09-15

    Abstract: 一种在半导体材料上制造氧化锌ZnO导电薄膜的方法,包括在二极管上沉积掺杂的ZnO晶种层,其中所述ZnO晶种层形成与所述二极管的电触点;和在所述ZnO晶种层上沉积ZnO层,其中所述ZnO晶种层和所述ZnO层各自具有厚度、晶体质量以及掺杂级,使得(1)包括III族氮化物材料的二极管以施加在所述ZnO层和所述二极管两端的2.75伏或更小的导通电压导通,并且(2)包括所述ZnO层和所述二极管的结构的接触电阻与包括直接在没有所述ZnO晶种层的二极管上的所述ZnO层的结构的接触电阻相比较低。

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