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    图案形成方法及电子元件的制造方法
    1.
    发明授权
    图案形成方法及电子元件的制造方法 有权

    公开(公告)号：CN107340684B

    公开(公告)日：2020-10-27

    申请号：CN201710541009.7

    申请日：2014-03-24

    申请人： 富士胶片株式会社

    发明人： 山中司 ,  川本崇司 ,  井口直也

    IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/32 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C29/76 ,  C07C67/56 ,  C07C45/78

    摘要： 本发明提供一种尤其在使用有机系显影液形成微细化(例如，30nm节点以下)图案的负型图案形成技术中，可减少粒子的产生的图案形成方法及电子元件的制造方法，此方法包括：用化学增幅型抗蚀剂组合物来形成膜、对膜进行曝光、以及用有机系显影液对经曝光的膜进行显影的步骤。有机系显影液的制造方法包括：使含有有机溶剂的液体在具有液体入口部、液体出口部、及设置在将液体入口部与液体出口部加以连接的流路内的过滤膜的过滤装置中通过的步骤。液体入口部处的液体的温度(TI)与液体出口部处的液体的温度(To)的差的绝对值(|TI‑To|)为3℃以下，过滤装置中的液体的过滤速度为0.5L/min/m2以上，过滤装置中的液体的过滤压力为0.1MPa以下。

    图案形成方法、蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件
    6.
    发明公开
    图案形成方法、蚀刻方法、电子元件的制造方法及电子元件 无效

    公开(公告)号：CN105980936A

    公开(公告)日：2016-09-28

    申请号：CN201580007419.2

    申请日：2015-02-04

    申请人： 富士胶片株式会社

    发明人： 上羽亮介 ,  井口直也 ,  山中司 ,  丹吴直纮 ,  白川三千纮 ,  加藤启太

    IPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

    CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2053 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/31144

    摘要： 一种图案形成方法包括：(i)在基板上依次进行下述步骤(i-1)、下述步骤(i-2)及下述步骤(i-3)，而形成第1负型图案的步骤，(i-1)在基板上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)来形成第1膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(1)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂、(i-2)对第1膜进行曝光的步骤、(i-3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第1膜进行显影，而形成第1负型图案的步骤；(iii)至少在第1负型图案上，使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物(2)来形成第2膜的步骤，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物(2)含有因酸的作用而导致极性增大、且对于包含有机溶剂的显影液的溶解性减少的树脂；(v)对第2膜进行曝光的步骤；以及(vi)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的第2膜进行显影，至少在第1负型图案上形成第2负型图案的步骤。