半导体元件的制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118263112A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202311797544.0

    申请日:2023-12-25

    Abstract: 本发明提供一种可靠性高的半导体元件的制造方法。半导体元件的制造方法包括如下的工序:准备具有半导体结构体、树脂部件和第一绝缘膜的结构体;在位于第一面之上的第一绝缘膜之上和位于树脂部件表面之上的第一绝缘膜之上连续形成覆盖部件;在覆盖部件之上形成抗蚀剂膜,将覆盖部件中位于树脂部件表面之上的覆盖部件除去,由此在位于第一面之上的第一绝缘膜之上残留覆盖部件;利用将覆盖部件用于掩模的蚀刻,将在俯视时位于不与覆盖部件重叠的区域的第一绝缘膜及树脂部件除去;将覆盖部件除去,将第一绝缘膜及树脂部件除去的工序中的对覆盖部件的蚀刻速率比将第一绝缘膜及树脂部件除去的工序中的对抗蚀剂膜的蚀刻速率低。

    发光装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101290928A

    公开(公告)日:2008-10-22

    申请号:CN200810091998.5

    申请日:2008-04-15

    Abstract: 本发明提供一种发光装置,包括:半导体发光元件,其在透光性基板上依次设置第一导电型的第一半导体层和第二导电型的第二半导体层,在第一半导体层的露出部设置有第一电极,在第二半导体层设置有第二电极;和支撑基板,其载置半导体发光元件;半导体发光元件俯视下为矩形,至少具有第一边和与第一边不同的第二边,从第一边侧的元件端面射出的光比从第二边侧的元件端面射出的光更强,两个以上的半导体发光元件按照第一边相互大致平行且相对的方式以列状被倒装片安装在支撑基板上。由此,能有效地对从半导体发光元件的端面射出的光进行反射,提高发光装置的光取出效率。

    发光装置
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101290928B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200810091998.5

    申请日:2008-04-15

    Abstract: 本发明提供一种发光装置,包括:半导体发光元件,其在透光性基板上依次设置第一导电型的第一半导体层和第二导电型的第二半导体层,在第一半导体层的露出部设置有第一电极,在第二半导体层设置有第二电极;和支撑基板,其载置半导体发光元件;半导体发光元件俯视下为矩形,至少具有第一边和与第一边不同的第二边,从第一边侧的元件端面射出的光比从第二边侧的元件端面射出的光更强,两个以上的半导体发光元件按照第一边相互大致平行且相对的方式以列状被倒装片安装在支撑基板上。由此,能有效地对从半导体发光元件的端面射出的光进行反射,提高发光装置的光取出效率。

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