电路结构
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106356349B

    公开(公告)日:2019-07-30

    申请号:CN201510524918.0

    申请日:2015-08-25

    发明人: 吴仕先

    IPC分类号: H01L23/48 H01L21/768

    摘要: 本发明公开一种电路结构,包括一环形导体、一导体柱及至少一导电延伸件。环形导体沿一方向延伸。导体柱沿此方向延伸且位于环形导体内。至少一导电延伸件连接于环形导体的至少一端缘且朝向导体柱延伸。

    孔柱分割式连通孔结构与其制造方法

    公开(公告)号:CN100463584C

    公开(公告)日:2009-02-18

    申请号:CN200410092229.9

    申请日:2004-11-05

    发明人: 吴仕先

    IPC分类号: H05K1/11 H05K1/16 H05K3/40

    摘要: 本发明提供一种孔柱分割式连通孔结构与制造方法。此孔柱分割式连通孔结构是将电气连接至一承载体,主要包含至少二个分离式导体。该至少二个分离式导体组成一中空孔柱状结构或一实心孔柱状结构,并在纵切或斜切方向上形成至少一个间隙。本发明还包含一填充层,为一填充材料填充于各导体之间。依填充材料的不同,此孔柱分割式连通孔结构可作为电容组件或电阻组件,或是具有信号屏蔽效果。此外,由于本发明是在传统无屏蔽效果的连通孔完成之后,再进行后加工所形成,更具备了低成本与可调整电气特性的优点。

    具有多层结构之埋入式电容核

    公开(公告)号:CN101035406A

    公开(公告)日:2007-09-12

    申请号:CN200610127270.4

    申请日:2006-09-19

    IPC分类号: H05K1/02 H05K1/16 H05K3/00

    摘要: 本发明揭示一种埋入式电容核,其包括第一组电容、第二组电容、及该第一组电容与该第二组电容之间一层间介电膜。该第一组电容包括:第一导电图案,其包含至少两个导电电极;以及第二导电图案,其包含至少两个导电电极,其对应于该第一导电图案之两个导电电极;以及第一介电膜,其位于该第一导电图案及该第二导电图案之间的第一介电膜。该第二组电容包括:第三导电图案,其包含至少两个导电电极;第四导电图案,其包含对应于该第四导电图案之两个导电电极之至少两个导电电极;以及位于该第三导电图案及该第四导电图案之间的第二介电膜。

    一种具内藏电容的基板结构

    公开(公告)号:CN1317923C

    公开(公告)日:2007-05-23

    申请号:CN03134767.3

    申请日:2003-09-29

    IPC分类号: H05K1/16 H05K3/00 H01G4/00

    摘要: 本发明公开了一种具内藏电容的基板结构,该基板结构是由单层或是数层内藏电容基板所组成,而每一层内藏电容基板包含有多个电容单元,可借助该基板结构上下方的线路连接层任意将连接至各个电容单元的导线进行并联或是串联,组合成各种具有不同电容值与不同频宽之电容,以适用于不同电路的需求;且每个电容单元亦可依不同的电路设计而具有用以进行该基板结构上方与下方之电子组件的电气讯号传递的信号传输线,因此,可利用简单的电路设置来实现电气讯号连接的目的。