具有含源-漏扩展反掺杂的P-MOS晶体管的半导体器件

    公开(公告)号:CN101501860A

    公开(公告)日:2009-08-05

    申请号:CN200680032757.2

    申请日:2006-08-29

    CPC classification number: H01L21/823814

    Abstract: 一种形成半导体器件的方法。该方法包括形成n型阱区域(14)。该方法进一步包括形成与n型阱(14)区域顶部上的半导体器件对应的栅极(20)。该方法进一步包括利用p型掺杂在栅极(20)的每个侧面上形成在源-漏扩展区(28)。该方法进一步包括利用n型掺杂(32)在n型阱区域内的每个侧面上的源-漏扩展区进行掺杂,使得n型掺杂(32)基本上被包含在源-漏扩展区内。该方法进一步包括形成与半导体器件对应的源(40)和漏(42)。

    半导体器件的单粒子闭锁预防技术

    公开(公告)号:CN103632711A

    公开(公告)日:2014-03-12

    申请号:CN201310320678.3

    申请日:2013-07-26

    CPC classification number: H01L27/06 H01L27/0921

    Abstract: 本发明涉及半导体器件的单粒子闭锁预防技术。处理半导体器件中的单粒子闭锁(SEL)的技术包括确定寄生硅控整流器(SCR)(500)在半导体器件的集成电路设计中的位置。在这种情况下,寄生SCR(500)包括寄生pnp双极结晶体管(BJT)和寄生npn BJT。该技术也包括将位于第一电源节点(VDD)和寄生pnp BJT的发射极之间的第一晶体管合并到集成电路设计中。第一晶体管(502)包括耦合到第一电源节点(VDD)的第一端子,耦合到寄生pnp BJT的发射极的第二端子,以及控制端子。第一晶体管(502)不位于pnp BJT的基极和第一电源节点之间。第一晶体管限定在SEL之后由寄生pnp BJT传导的电流。

    具有改善的写入操作的二端口SRAM

    公开(公告)号:CN101529521B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200780039169.6

    申请日:2007-09-27

    CPC classification number: G11C8/16 G11C11/419

    Abstract: 一种二端口SRAM存储器单元(20)包括耦合到存储节点的一对交叉耦合的反相器(40)。存取晶体管(54)耦合在每个存储节点(SN,SNB)和写入位线(WWB0)之间,并且由写入字线(WWL0)控制。写入字线也耦合到该对交叉耦合的反相器(40)的电源端。在写入操作期间,该写入字线被断言。在交叉耦合的反相器(40)的电源端处的电压跟随写入字线电压,由此使得在存储节点处的逻辑状态在必要时更容易改变。在写入操作结尾,写入字线被去断言,允许交叉耦合的反相器(40)正常工作并且保持存储节点(SN)的逻辑状态。耦合交叉耦合的反相器的电源节点允许更快的写入操作而不损害单元稳定性。

    用于数据存储电路的非对称性晶体管

    公开(公告)号:CN101490836B

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN200780026669.6

    申请日:2007-05-03

    CPC classification number: H01L21/823835 H01L21/823814 H01L27/0922

    Abstract: 本发明公开一种具有电阻比其漏极更高的源极的晶体管(22),该晶体管在静态随机存取存储器电路(10)中作为负载晶体管(20)是最优的。该晶体管具有源区,该源区带有具有源极电阻(24)的源极注入(38)。栅电极(50)邻接于源区以控制晶体管的电传导。漏区邻接于栅电极区且与源区相对。漏区具有能够被硅化且具有漏极电阻的源极注入(40、58)。源极电阻大于漏极电阻,因为源区具有与漏区不同的物理特性。该不同的物理特性能够产生,通过:只使漏区或源区中的一个硅化,在注入源/漏区时使用不同的掺杂浓度以及/或者能量,使源区和漏区具有不同的尺寸,将源区布置得比漏区离栅电极区更远,给源区和漏区使用不同的掺杂物,或者除去源极注入区的一部分并且替换以原位掺杂的半导体材料,例如磷化铝、磷化镓及硫化锌。

    具有改善的写入操作的二端口SRAM

    公开(公告)号:CN101529521A

    公开(公告)日:2009-09-09

    申请号:CN200780039169.6

    申请日:2007-09-27

    CPC classification number: G11C8/16 G11C11/419

    Abstract: 一种二端口SRAM存储器单元(20)包括耦合到存储节点的一对交叉耦合的反相器(40)。存取晶体管(54)耦合在每个存储节点(SN,SNB)和写入位线(WWB0)之间,并且由写入字线(WWL0)控制。写入字线也耦合到该对交叉耦合的反相器(40)的电源端。在写入操作期间,该写入字线被断言。在交叉耦合的反相器(40)的电源端处的电压跟随写入字线电压,由此使得在存储节点处的逻辑状态在必要时更容易改变。在写入操作结尾,写入字线被去断言,允许交叉耦合的反相器(40)正常工作并且保持存储节点(SN)的逻辑状态。耦合交叉耦合的反相器的电源节点允许更快的写入操作而不损害单元稳定性。

Patent Agency Ranking