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公开(公告)号：CN106169406A
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201610324843.6
申请日：2016-05-17
申请人： FEI公司
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/18 , H01J37/22 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/182 , H01J2237/2448 , H01J2237/2605 , H01J2237/2608 , H01J2237/2801 , H01J2237/2806
摘要： 本发明利用用改良的成像气体的气体放大提供带电粒子束成像和检测系统。系统包括用于引导带电荷粒子束到工件的带电粒子束源、用于带电粒子聚焦到工件上的聚焦透镜和用于加速通过带电粒子束或另一种气体级联检测方案从工件照射产生的二次电子的电极。气体成像在用于封闭包含CH3CH2OH(乙醇)蒸气的改良成像气体的高压扫描电子显微镜(HPSEM)室中进行。电极通过CH3CH2OH加速二次电子，以通过电离级联电离CH3CH2OH，增大用于检测的二次电子的数目。为使用改良成像气体提供最优结构，并提供技术进行有机液体和溶剂及其它基于CH3CH2OH的方法的成像研究。
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公开(公告)号：CN102149510B
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN200980135212.8
申请日：2009-07-09
申请人： FEI公司
IPC分类号： B23K26/36 , B23K26/362 , B23K26/60 , G01N23/225 , G01N23/00
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/0622 , B23K26/0853 , B23K26/14 , B23K26/1423 , B23K26/348 , H01J2237/2813
摘要： 带电粒子束和激光束被一起用于对基底进行微加工。第一射束改变工件的区域的状态，并且第二射束去除状态被改变的材料。在一个实施例中，离子束可以产生光子吸收缺陷以降低局部烧蚀阈值，从而允许激光束去除由离子束限定的区域中的材料。激光束和带电粒子束的组合允许以由于由激光束提供的增加的能量而比带电粒子处理更大的铣削速率产生在尺寸上与带电粒子束斑点尺寸相似的特征。
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公开(公告)号：CN102618844B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201210020804.9
申请日：2012-01-30
申请人： FEI 公司
发明人： A.P.J.M.博特曼 , S.兰多夫 , M.托思
CPC分类号： C23C16/0263 , C23C16/10 , C23C16/14 , C23C16/4488 , C23C16/48 , C23C16/486 , C23C16/52
摘要： 改进的沉积低电阻率金属的束沉积方法。本发明的优选实施方案使用新型聚焦离子束诱导沉积前体来沉积低电阻率金属材料，如锡。申请人已经发现，通过使用甲基化或乙基化金属，如六甲基二锡作为前体，可以沉积电阻率低至40µΩ∙cm的材料。
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公开(公告)号：CN103066012A
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：CN201210345182.7
申请日：2012-09-18
申请人： FEI公司
发明人： A.P.J.M.博曼 , M.托思 , S.兰多夫 , D.H.纳鲁姆
IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/3213
CPC分类号： H01J37/20 , C25D5/003 , C25D5/02 , C25D5/026 , C25D5/04 , C25D17/005 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D21/04 , C25D21/12 , H01J37/18 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/182 , H01J2237/2003 , H01J2237/202 , H01J2237/2801
摘要： 本发明涉及小结构的局部真空中修改。使用一种电荷转移机制来针对小结构来局部淀积或去除材料。创建局部电化学电池而不必将整个工件浸入浴中。电荷转移机制可以与荷电粒子束或激光系统一起使用以修改小结构，诸如集成电路或微机电系统。电荷转移工艺可以在空气中执行，在一些实施例中可以在真空室中执行。
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公开(公告)号：CN102543639A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201110349835.4
申请日：2011-11-08
申请人： FEI公司
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/244 , H01J37/02
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/244 , H01J2237/024 , H01J2237/2001 , H01J2237/2003 , H01J2237/2445
摘要： 本发明涉及用于带电粒子束系统的环境单元。一种用于带电粒子束系统的环境单元允许安装在X-Y镜台上的单元与聚焦镜筒的光轴之间的相对运动，从而消除了对单元内的子镜台的需要。诸如可缩回盖的柔性单元配置允许多种过程，包括束致和热致过程。在带电粒子束系统中且使用光电子的气体级联放大执行的光子产额光谱术允许分析单元中的材料并监视单元中的处理。还可以使用可缩回反射镜来执行发光分析。
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公开(公告)号：CN103066012B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201210345182.7
申请日：2012-09-18
申请人： FEI 公司
发明人： A.P.J.M.博曼 , M.托思 , S.兰多夫 , D.H.纳鲁姆
IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/3213
CPC分类号： H01J37/20 , C25D5/003 , C25D5/02 , C25D5/026 , C25D5/04 , C25D17/005 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D21/04 , C25D21/12 , H01J37/18 , H01J37/222 , H01J37/28 , H01J2237/182 , H01J2237/2003 , H01J2237/202 , H01J2237/2801
摘要： 本发明涉及小结构的局部真空中修改。使用一种电荷转移机制来针对小结构来局部淀积或去除材料。创建局部电化学电池而不必将整个工件浸入浴中。电荷转移机制可以与荷电粒子束或激光系统一起使用以修改小结构，诸如集成电路或微机电系统。电荷转移工艺可以在空气中执行，在一些实施例中可以在真空室中执行。
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公开(公告)号：CN102149510A
公开(公告)日：2011-08-10
申请号：CN200980135212.8
申请日：2009-07-09
申请人： FEI公司
IPC分类号： B23K26/36 , B23K26/42 , G01N23/225 , G01N23/00
CPC分类号： B23K26/03 , B23K26/0622 , B23K26/0853 , B23K26/14 , B23K26/1423 , B23K26/348 , H01J2237/2813
摘要： 带电粒子束和激光束被一起用于对基底进行微加工。第一射束改变工件的区域的状态，并且第二射束去除状态被改变的材料。在一个实施例中，离子束可以产生光子吸收缺陷以降低局部烧蚀阈值，从而允许激光束去除由离子束限定的区域中的材料。激光束和带电粒子束的组合允许以由于由激光束提供的增加的能量而比带电粒子处理更大的铣削速率产生在尺寸上与带电粒子束斑点尺寸相似的特征。
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公开(公告)号：CN109243953B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN201810744936.3
申请日：2018-07-09
申请人： FEI 公司
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/305
摘要： 公开了一种用于观测和对准带电粒子束（CPB）系统（诸如电子显微镜或聚焦粒子束系统）的样本腔室中的光束的方法和系统。该方法包括在样本腔室内部提供具有校准表面的成像辅助设备，该校准表面被配置成使得当利用光照亮，并且同时被CPB照亮时，在也被光照亮的区中通过CPB引起的二次辐射的强度相对于具有较低光照明水平的区中通过CPB引起的二次辐射的强度是不同的，由此在校准表面上提供光束的图像。该光束的图像可以被用来使光束与带电粒子束对准。
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公开(公告)号：CN102618844A
公开(公告)日：2012-08-01
申请号：CN201210020804.9
申请日：2012-01-30
申请人： FEI公司
发明人： A.P.J.M.博特曼 , S.兰多夫 , M.托思
CPC分类号： C23C16/0263 , C23C16/10 , C23C16/14 , C23C16/4488 , C23C16/48 , C23C16/486 , C23C16/52
摘要： 改进的沉积低电阻率金属的束沉积方法。本发明的优选实施方案使用新型聚焦离子束诱导沉积前体来沉积低电阻率金属材料，如锡。申请人已经发现，通过使用甲基化或乙基化金属，如六甲基二锡作为前体，可以沉积电阻率低至40µΩ·cm的材料。
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