全补偿合成反铁磁的铁电性应用

    公开(公告)号:CN105229811A

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:CN201480028752.7

    申请日:2014-04-14

    发明人: 诺真·杰 童儒颖

    摘要: 本发明公开了一种合成反铁磁、一种磁性隧穿接合元件以及一种层状结构的制造方法,其中,合成反铁磁可作为磁性隧穿接合的参考层,其包含有x+1层的磁性子层以及x个与其交错配置的非磁性空间隔层,且层状堆栈最上方和最下方皆为磁性子层,每一个非磁性空间隔层具有上表面与下表面,以与相邻的磁性子层形成界面并建立反铁磁耦合,垂直磁性非等向性会受到导引而穿过空间隔层的界面来进入每一个磁性子层,因而施加于自由层的偶极场相对于由现有的合成反铁磁参考层所产生的偶极场会明显降低,其中当非磁性空间隔层为钌、铑或铱时,磁性子层以钴为佳。

    具有反转结构的基于钴和铂的多层薄膜及其制造方法

    公开(公告)号:CN104471419A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201280073290.1

    申请日:2012-06-26

    IPC分类号: G01R33/05

    摘要: 本发明涉及一种具有新颖结构和垂直磁各向异性的基于钴(Co)和铂(Pt)的多层薄膜及其制造方法。更具体地,本发明涉及一种具有垂直磁各向异性(PMA)的基于钴和铂的多层薄膜及其制造方法,其包括在衬底之上交替地沉积的薄钴层和薄铂层,并且具有薄钴层的厚度比薄铂层的厚度大的反转结构。基于钴和铂的多层薄膜具有磁性薄层的厚度比非磁性薄层的厚度大的新结构。多层薄膜可以通过根据层的厚度比控制垂直磁各向异性能量,来容易地应用以作为磁隧道结中的自由层和固定层。此外,多层薄膜具有优良的热稳定性,因而即使在经受热处理工艺之后也能保持其PMA能量密度。另外,它使得微量的平面内磁各向异性能够通过热处理形成,以便降低磁化翻转所需的临界电流密度。因此,它可以有利地用于高性能和高密度的MRAM。