永久磁铁透镜阵列
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103748654B

    公开(公告)日:2017-02-15

    申请号:CN201280040633.4

    申请日:2012-06-25

    Abstract: 本发明涉及一种用于带电粒子聚焦的永久磁性透镜阵列,其包含第一软磁性材料薄片,其中所述第一软磁性材料薄片包含布置成阵列图案的多个通气管锥体突出部,其中每一通气管锥体轴向对称且包含从所述第一软磁性材料薄片的第一表面通到软磁性材料的第二表面的开口及多个永久磁性元件,其中每一永久磁性元件轴向对称且与所述第一软磁性材料薄片的通气管锥体同心地布置,其中所述第一软磁性材料薄片的所述通气管锥体及所述多个永久磁性元件经配置以形成多个磁性透镜,其中每一磁性透镜具有磁场,所述磁场具有垂直于所述软磁性材料的所述第一表面定向的轴向分量。

    带电粒子线装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104094373B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201380008021.1

    申请日:2013-02-15

    Abstract: 本发明提供能简单地装拆隔膜(101)且能将试样(6)配置于真空下和高压下的带电粒子线装置(111)。该带电粒子线装置(111)具有:对带电粒子源(110)和电子光学系统(1、2、7)进行保持的镜筒(3);与镜筒(3)连结的第一框体(4);向第一框体(4)的内侧凹陷的第二框体(100);将镜筒(3)内的空间和第一框体(4)内的空间隔离且供带电粒子线透过的第一隔膜(10);将第二框体(100)的凹部(100a)内的空间和第二框体(100)的凹部(100a)外的空间隔离且供带电粒子线透过的第二隔膜(101);与收纳带电粒子源(110)的第三框体(22)连结的管(23),第一隔膜(10)安装于管(23),管(23)和第三框体(22)能沿光轴(30)的方向相对于镜筒(3)装拆。由第一框体(4)和第二框体(100)包围的空间(105)被减压,对配置于凹部(100a)中的试样(6)照射带电粒子线。

    用于改变带状离子束的方法及设备

    公开(公告)号:CN102110570B

    公开(公告)日:2015-07-08

    申请号:CN201010558538.6

    申请日:2010-11-19

    Abstract: 本发明涉及用于改变带状离子束的方法及设备。利用一对相对的铁磁条上的多个线圈结构来改变带状离子束。该线圈结构包括连续绕组,其具有每单位长度匝数沿条的长度的预定变化模式。在示例中,一个线圈结构可沿条具有均匀的每单位长度匝数,由此对线圈结构供电可形成跨着条之间的缝隙延伸的、具有四极强度分布的磁场分量。第二线圈结构可具有变化来产生六极磁场强度分布的每单位长度匝数。还可提供额外的线圈结构以产生八极及十极磁场分布。可对线圈供电以产生与条平行的磁场,该磁场沿条的长度发生变化,从而使带状束扭转或变平。

    用于改变带状离子束的方法及设备

    公开(公告)号:CN102110570A

    公开(公告)日:2011-06-29

    申请号:CN201010558538.6

    申请日:2010-11-19

    Abstract: 本发明涉及用于改变带状离子束的方法及设备。利用一对相对的铁磁条上的多个线圈结构来改变带状离子束。该线圈结构包括连续绕组,其具有每单位长度匝数沿条的长度的预定变化模式。在示例中,一个线圈结构可沿条具有均匀的每单位长度匝数,由此对线圈结构供电可形成跨着条之间的缝隙延伸的、具有四极强度分布的磁场分量。第二线圈结构可具有变化来产生六极磁场强度分布的每单位长度匝数。还可提供额外的线圈结构以产生八极及十极磁场分布。可对线圈供电以产生与条平行的磁场,该磁场沿条的长度发生变化,从而使带状束扭转或变平。

    复合射束装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107818904A

    公开(公告)日:2018-03-20

    申请号:CN201710789226.8

    申请日:2017-09-05

    Inventor: 麻畑达也

    Abstract: 提供复合射束装置,其在利用集束离子束对试样进行截面加工之后利用其他射束对截面进行精加工时,能够抑制来自电子束镜筒的电场或磁场的泄漏所造成的影响或充电所造成的影响的。复合射束装置(100)具有:电子束镜筒(10),其用于对试样(200)照射电子束(10A);集束离子束镜筒(20),其用于对试样照射集束离子束(20A)而形成截面;以及中性粒子束镜筒(30),其加速电压设定得比集束离子束镜筒低,用于对试样照射中性粒子束(30A)而对截面进行精加工,电子束镜筒、集束离子束镜筒以及中性粒子束镜筒配置为各自的各照射束在照射点P上交叉。

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