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    可配置带电粒子装置
    1.
    发明授权
    可配置带电粒子装置 有权

    公开(公告)号：CN103779160B

    公开(公告)日：2017-03-22

    申请号：CN201310497851.7

    申请日：2013-10-22

    申请人： FEI ,  公司

    发明人： L.图马 ,  J.塞斯塔克

    IPC分类号： H01J37/28 ,  H01J37/141

    CPC分类号： G21K5/08 ,  H01J37/1413 ,  H01J37/20 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/1035 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/2802 ,  H01J2237/2813

    摘要： 本发明涉及可配置带电粒子装置。可配置带电粒子装置具有至少第一配置和第二配置，在第一配置中的装置被装配以当样本被安装在第一载物台上时关于光轴来安置样本，在第二配置中的装置具有被安装在第一载物台上的第二透镜极，所述第二透镜极与光轴相交，并且在第二配置中的装置装配有用于在其上安装样本的第二载物台，所述第二载物台被装配以在第一透镜极和第二透镜极之间安置样本，所述第二载物台关于光轴可移动，其结果是磁浸没透镜的光学特性在第一和第二配置中不同，并且在第二配置中可以通过使用第一载物台来安置第二透镜极而被改变，因而改变磁路。

    离子注入装置
    2.
    发明公开
    离子注入装置 有权

    公开(公告)号：CN104681384A

    公开(公告)日：2015-06-03

    申请号：CN201410693818.6

    申请日：2014-11-26

    申请人： 斯伊恩股份有限公司

    发明人： 八木田贵典

    IPC分类号： H01J37/317

    CPC分类号： H01J37/21 ,  H01J37/12 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/30477

    摘要： 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置及离子注入方法。所述离子注入装置的多级四极透镜(900)具备第1四极透镜(904)及第3四极透镜(908)。第1四极透镜(904)的第1孔半径(R1)可以小于第3四极透镜(908)的第3孔半径(R3)。多级四极透镜(900)可以在第1四极透镜(904)与第3四极透镜(908)之间具备第2四极透镜(906)。第2四极透镜(906)的第2孔半径(R2)可以在第1四极透镜(904)的第1孔半径(R1)与第3四极透镜(908)的第3孔半径(R3)之间。

    离子注入装置
    4.
    发明授权
    离子注入装置 有权

    公开(公告)号：CN104681384B

    公开(公告)日：2018-04-03

    申请号：CN201410693818.6

    申请日：2014-11-26

    申请人： 斯伊恩股份有限公司

    发明人： 八木田贵典

    IPC分类号： H01J37/317

    CPC分类号： H01J37/21 ,  H01J37/12 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/30477

    摘要： 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置及离子注入方法。所述离子注入装置的多级四极透镜(900)具备第1四极透镜(904)及第3四极透镜(908)。第1四极透镜(904)的第1孔半径(R1)可以小于第3四极透镜(908)的第3孔半径(R3)。多级四极透镜(900)可以在第1四极透镜(904)与第3四极透镜(908)之间具备第2四极透镜(906)。第2四极透镜(906)的第2孔半径(R2)可以在第1四极透镜(904)的第1孔半径(R1)与第3四极透镜(908)的第3孔半径(R3)之间。

    用于聚焦带电粒子束的磁透镜
    5.
    发明公开
    用于聚焦带电粒子束的磁透镜 有权

    公开(公告)号：CN104299872A

    公开(公告)日：2015-01-21

    申请号：CN201410343248.8

    申请日：2014-07-18

    申请人： FEI公司

    发明人： O.沙内尔

    IPC分类号： H01J37/14

    CPC分类号： G21K1/093 ,  H01F2003/106 ,  H01J37/141 ,  H01J37/26 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/26 ,  Y10T29/4978

    摘要： 本发明涉及用于聚焦带电粒子束的磁透镜。现有技术的带电粒子磁透镜包括轭和空气间隙。该空气间隙限定其中磁场存在于透镜的光轴上的位置。根据本发明，一种用于聚焦沿着光轴行进的带电粒子束的磁透镜包括：轴向孔，布置在所述光轴周围以容纳所述束；磁场生成装置，用于生成磁场；以及磁轭，用以引导和集中所述磁场朝向所述光轴以便形成用于所述束的聚焦区域，其中，所述轭具有复合结构，包括外部主要部分和内部次要部分；所述次要部分被安装为所述主要部分内的单体插件以便被布置在所述聚焦区域周围；所述次要部分包括围绕所述孔并充当磁收缩区的腰部区域，其被配置成使得所述磁场在所述腰部区域中经受饱和，从而使磁通量离开所述腰部区域并且在所述聚焦区域中形成聚焦场。此类腰部区域取代了现有技术透镜中的空气间隙的角色。

    带电粒子束装置的改进和涉及带电粒子束装置的改进
    7.
    发明公开
    带电粒子束装置的改进和涉及带电粒子束装置的改进 有权

    公开(公告)号：CN102456529A

    公开(公告)日：2012-05-16

    申请号：CN201110398803.3

    申请日：2011-10-14

    申请人： 卡尔·蔡司NTS有限公司

    发明人： S·J·比恩

    IPC分类号： H01J37/26 ,  H01J37/141

    CPC分类号： H01J37/28 ,  H01J37/18 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/188 ,  H01J2237/2608

    摘要： 本发明涉及带电粒子束装置的改进和涉及带电粒子束装置的改进。在一种例如电子显微镜的带电粒子束设备中，射束生成装置(101)产生聚焦的带电粒子束e-，该带电粒子束入射在样品室(102)中的样品(104)上，该样品室(102)将该样品保持在气体环境中。压强限制孔(144)提供样品室与射束生成装置的局部气体隔离，并且被设置在后者的透镜(114)中。该设备包括管道，例如在该透镜中的中间室(132)，在使用中，通过该管道，气体被供应以形成从透镜的区域朝向样品的气流，因此防止从样品释放的材料碰撞在压强限制孔上，以防止后者的污染。该设备可被用于用带电粒子束扫描样品的方法中，例如用在电子显微镜检查的方法中。

    带电粒子束装置的改进和涉及带电粒子束装置的改进
    9.
    发明授权
    带电粒子束装置的改进和涉及带电粒子束装置的改进 有权

    公开(公告)号：CN102456529B

    公开(公告)日：2016-08-03

    申请号：CN201110398803.3

    申请日：2011-10-14

    申请人： 卡尔·蔡司显微镜学公司

    发明人： S·J·比恩

    IPC分类号： H01J37/26 ,  H01J37/141

    CPC分类号： H01J37/28 ,  H01J37/18 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/1415 ,  H01J2237/188 ,  H01J2237/2608

    摘要： 本发明涉及带电粒子束装置的改进和涉及带电粒子束装置的改进。在一种例如电子显微镜的带电粒子束设备中，射束生成装置(101)产生聚焦的带电粒子束e?，该带电粒子束入射在样品室(102)中的样品(104)上，该样品室(102)将该样品保持在气体环境中。压强限制孔(144)提供样品室与射束生成装置的局部气体隔离，并且被设置在后者的透镜(114)中。该设备包括管道，例如在该透镜中的中间室(132)，在使用中，通过该管道，气体被供应以形成从透镜的区域朝向样品的气流，因此防止从样品释放的材料碰撞在压强限制孔上，以防止后者的污染。该设备可被用于用带电粒子束扫描样品的方法中，例如用在电子显微镜检查的方法中。