四象限三端双向可控硅开关

    公开(公告)号:CN102569375B

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201110415436.3

    申请日:2011-12-08

    IPC分类号: H01L29/747 H01L29/06

    CPC分类号: H01L29/747 H01L29/74

    摘要: 本发明涉及四象限三端双向可控硅开关。提供一种竖直四象限三端双向可控硅开关,其中布置在前表面侧上的栅极区域包括第一导电类型的U形区域,该U形的底部抵靠该结构的一边,第二导电类型的主前表面区域在所述栅极区域的前面延伸并且被第一导电类型的所述主前表面区域的部分包围。

    分立半导体器件和形成密封沟槽结终端的方法

    公开(公告)号:CN102171826B

    公开(公告)日:2015-04-29

    申请号:CN200980138445.3

    申请日:2009-07-24

    发明人: R·R·鲍曼

    IPC分类号: H01L29/00

    摘要: 一种分立半导体器件具有基板,其具有第一导电类型的半导体材料。第一半导体层在该基板上形成。该第一半导体层具有第一导电类型的半导体材料。第二半导体层在第一半导体层上。该第二半导体层具有第二导电类型的半导体材料。沟槽穿过该第二半导体层形成且延伸到该第二半导体层中。沟槽具有圆形或多边形形状以及垂直侧壁。沟槽衬有绝缘层且填充有绝缘材料。该第一和第二半导体层之间的边界形成p-n结。该沟槽环绕该p-n结以终止在该第二半导体层上强加的电压的电场。该分立半导体器件还可以是晶体管、晶闸管、三端双向可控硅开关元件或瞬时电压抑制器。

    精密收发器的低电压保护设备及其形成方法

    公开(公告)号:CN103456731A

    公开(公告)日:2013-12-18

    申请号:CN201310210755.X

    申请日:2013-05-31

    发明人: J·A·萨塞多

    IPC分类号: H01L27/02 H01L21/822

    摘要: 本发明涉及精密收发器的低电压保护设备及其形成方法。提供了一种双向保护设备包括双向NPN双极晶体管,其包括由第一n阱区形成的发射极/集电极、由p阱区形成的基极,以及由第二n阱区形成的集电极/发射极。P型有源区形成在第一n阱区和第二n阱区中以形成PNPNP结构,使用由n型盆和p型盆组成的双盆隔离使PNPNP结构与衬底隔离。所述双盆隔离通过防止与PNPNP结构相关联的阱将载流子注入到衬底中而防止在集成电路供电的应力状态期间引起的闭锁。选择有源区和与PNPNP结构相关联的阱的大小、间距和掺杂浓度以提供触发电压和保持电压特性的微调控制,从而使能够在使用低电压精密接口信号的高电压应用中实施双向保护设备。

    具有Q1和Q4控制的双向开关
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104040723B

    公开(公告)日:2017-08-04

    申请号:CN201180076227.9

    申请日:2011-04-22

    发明人: S·梅纳尔

    IPC分类号: H01L29/747

    CPC分类号: H01L29/747

    摘要: 本发明涉及一种参考后表面的控制类型的垂直双向开关,包括在其后表面上的第一主电极(A1)、在其前表面上的第二主电极(A2)以及栅极电极(G)。所述开关能够由栅极电极与第一电极之间的正电压控制。在所述开关中,栅极电极(G)被布置在穿过其中形成开关的芯片的过孔的前表面上。