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公开(公告)号：CN118648082A
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN202380020221.2
申请日：2023-01-20
申请人： 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司
IPC分类号： H01J37/22
摘要： 一种多束带电粒子显微镜(1)，包含：至少一个第一聚束式光栅扫描仪(110)，用于在多个J个图像子场(31.mn)上方聚束式扫描多个J个一次带电粒子小射束(3)；检测单元(200)，包含检测器，用于检测多个J个二次电子小射束(9)，每一个二次电子小射束对应于J个图像子场(31.mn)中的一个；以及控制器(800、820)，其包含：扫描控制单元(930)，其连接到该第一聚束式光栅扫描仪(110)，并配置为在使用期间控制使用该第一聚束式光栅扫描仪(110)的多个J个一次带电粒子小射束(3)的光栅扫描操作；内核产生单元(812)，其配置为在使用期间产生用于图像子场(31.mn)的空间变化失真校正的空间变化滤波器内核(910)；以及图像数据采集单元(810)，其操作与该检测器、该扫描控制单元(930)和该内核产生单元的操作同步，其中该图像数据采集单元(110)对于所述J个图像子场中每一者包含：模拟对数字转换器(811)，用于在使用期间将从该检测器接收的模拟数据串流转换成描述所述图像子场(31.mn)的数字数据串流；硬件滤波器单元(813)，其配置成接收该数字数据串流并在使用期间执行所述图像子场(31.mn)的片段(32)与该空间变化滤波器内核(910)的卷积，从而产生失真校正的数据串流；以及图像存储器(814)，其配置成将该失真校正的数据串流储存为所述图像子场(31.mn)的2D呈现。
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公开(公告)号：CN118476004A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202280087220.5
申请日：2022-01-27
申请人： 株式会社日立高新技术
IPC分类号： H01J37/22
摘要： 本发明提供一种能够使用通过模拟结果的机器学习求出的图像预测模型来导出最佳观察条件的带电粒子束检查系统。具备：带电粒子束照射装置，其取得试样的图像；以及观察条件搜索装置，其搜索所述带电粒子束照射装置的观察条件，并控制由所述带电粒子束照射装置进行的图像取得，所述观察条件搜索装置取得包含实施了使用训练数据的学习的学习器的模块，所述训练数据包括通过将包含多个第一装置条件和多个第一试样条件的第一图像生成条件输入到模拟器而得到的多个模拟图像和所述第一图像生成条件，通过对图像生成工具设定多个第二装置条件，取得从所述图像生成工具输出的多个输出图像，将通过对所述学习器输入所述第一试样条件和所述第二装置条件而得到的图像与所述多个输出图像进行对照，基于该对照结果来生成第二试样条件。
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公开(公告)号：CN118318285A
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202280073723.7
申请日：2022-11-01
申请人： 耶达研究与发展有限公司
摘要： 一种用于电子束成像或电子束光谱学的系统和方法。该系统包括：具有后焦平面的透射电子显微镜(TEM)；一个或更多个基于激光的设备，该基于激光的设备被配置成将电子波的预定部分偏移到与TEM的电子源原始提供的能量不同的能量；以及电子能量过滤器，该电子能量过滤器被配置成接受处于由TEM的电子源提供的能量的电子波，并且还被配置成拒绝被激光设备偏移到不同能量的电子波。
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公开(公告)号：CN118299241A
公开(公告)日：2024-07-05
申请号：CN202310081068.6
申请日：2023-01-19
申请人： 力晶积成电子制造股份有限公司
发明人： 陈苡谚
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/31 , H01J37/304
摘要： 本发明公开一种电子装置及其使用方法，其中该电子装置包括离子源、光源、影像传感器以及控制器。离子源用以产生聚焦离子束，且适于沿多个铣削线依序铣削样品。光源用以产生照明光束。影像传感器用以接收照明光束被样品反射后的影像光束。控制器电连接至离子源、光源及影像传感器。在聚焦离子束沿铣削线的其中之一铣削线铣削样品后，控制器根据影像光束沿该其中之一铣削线的光强度相对于位置的曲线图，调整下一条铣削线的方向及位置。
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公开(公告)号：CN111968902B
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202010829477.6
申请日：2017-04-27
申请人： 学校法人关西学院
摘要： 本发明提供一种具有偏角的六方晶系的SiC基板的评价方法，其特征在于：包括：使用扫描型电子显微镜，基于以相对于作为所述SiC基板的表面的(0001)面的垂线倾斜的入射电子角对该SiC基板的表面入射电子束而获得的影像，来评价所述SiC基板的质量的步骤，所述SiC基板以支撑于倾斜支撑台的状态被照射电子束，所述倾斜支撑台的支撑面具有与所述SiC基板的偏角相同的倾斜角。
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公开(公告)号：CN110310877B
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN201910212432.1
申请日：2019-03-20
发明人： 乔恩·卡尔·韦斯 , 斯坦尼斯拉夫·彼得拉斯 , 博胡米拉·伦佐娃 , 格德·路德维希·本纳
IPC分类号： H01J37/256 , H01J37/28 , H01J37/295 , H01J37/22 , H01J37/05 , G01N23/2251 , G01N23/20058
摘要： 公开了一种用于自动对准扫描透射电子显微镜以便旋进电子衍射映射数据的方法。
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公开(公告)号：CN117981039A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202280060369.4
申请日：2022-09-05
申请人： 日商光电魂股份有限公司
发明人： 西谷智博
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/073 , H01J37/244 , H01J37/252 , H01J37/28
摘要： 提供一种电子射线应用装置，使得即使检测器的检测灵敏度的动态范围较小，也可获得照射区域的检测数据。电子射线应用装置包括光源(2)、光电阴极(3)、检测器(5)以及控制部(6)，控制部(6)进行控制，将由光电阴极(3)射出的电子束(B)向照射对象(S)的照射区域(R)照射，使检测器(5)产生与通过电子束(B)的照射而从照射对象(R)射出的射出量对应的检测信号，调整从光源(2)到达光电阴极(3)的光量，以使所述检测信号的信号强度成为预先设定的值，将所述信号强度成为预先设定的值的光量调整数据作为照射区域(R)的检测数据。
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公开(公告)号：CN117894657A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202311206290.0
申请日：2023-09-18
申请人： ICT集成电路测试股份有限公司
摘要： 描述了一种确定在带电粒子束成像装置(100)中由聚焦透镜(120)朝样品(10)聚焦的带电粒子束(11)的亮度(Br)的方法。所述方法包括：(a)用所述带电粒子束成像装置拍摄所述样品的一个或多个图像(hf,1...N)；(b)从所述一个或多个图像检索所述带电粒子束的一个或多个束轮廓(gf,1...N)；以及(c)至少基于所述一个或多个束轮廓(gf,1...N)、所述带电粒子束的探针电流(IP)和所述带电粒子束的着陆电势(LE)来确定所述带电粒子束(11)的所述亮度(Br)。任选地，如上确定的所述亮度(Br)可用于确定所述带电粒子束(11)的源(105)的尺寸(Dvirt)。另外，提供了一种被配置用于本文所述的方法中的任一者的带电粒子束成像装置(100)。
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公开(公告)号：CN117813669A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202280056336.2
申请日：2022-06-17
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： E·斯洛特 , M·J·B·奥斯特伯格
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/28 , H01J37/317
摘要： 一种带电粒子装置，被配置为将带电粒子多射束朝向样品投射，包括：带电粒子源，其被配置为发射带电粒子射束；光源，被配置为发射光；以及带电粒子光学设备，其被配置为向样品投射从带电粒子射束导出的带电粒子多射束的子射束；其中，光源被布置为使得光沿着子射束的路径投射穿过带电粒子光学设备，以便照射样品的至少一部分。
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公开(公告)号：CN117650033A
公开(公告)日：2024-03-05
申请号：CN202410100772.6
申请日：2024-01-25
申请人： 苏州矽视科技有限公司
摘要： 本发明涉及光学检测技术领域，具体涉及一种扫描电子显微镜自适应对焦控制系统及控制方法，包括由电子源、电磁透镜、电磁探测器、电子光学控制及成像单元构成的第一闭环控制系统；由发射光路、接收光路、工作台微动机构、高差分析及控制单元构成的第二闭环控制系统；第一闭环控制系统和第二闭环控制系统由双闭环对焦控制单元进行联动控制，本发明通过两级对焦闭环控制系统的联动设计，满足高精度稳定对焦要求，提升效率和精确度。
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