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    Optisches Abbildungssystem
    11.
    发明公开
    Optisches Abbildungssystem 审中-公开
    Optisches Abbildungsystem

    公开(公告)号：EP1521067A2

    公开(公告)日：2005-04-06

    申请号：EP04021937.0

    申请日：2004-09-15

    申请人： Carl Zeiss SMS GmbH

    发明人： Engel, Thomas, Dr.

    IPC分类号： G01J1/00

    CPC分类号： G03F7/70258 ,  G02B17/0663 ,  G03F1/84 ,  G21K1/06

    摘要： Es wird beschrieben ein optisches Abbildungssystem, das ein Objekt (2) in eine Bildebene (3) abbildet und das aufweist einen Beleuchtungsstrahlengang (5), in den Beleuchtungsstrahlung in einem Wellenlängenbereich unterhalb 100 nm eingekoppelt wird und der zur Einstellung der numerischen Apertur der Beleuchtung eine Sigma-Blende (8) aufweist, einen Abbildungsstrahlengang (6), der zur Einstellung der numerischen Apertur der Abbildung eine NA-Blende (10) aufweist und in der Bildebene (3) ein vergrößertes Bild der Maske (2) erzeugt, wobei Beleuchtungs- und Abbildungsstrahlengang (5, 6) eine reflektive Optik (7, 9) aufweisen, wobei eine Justierabbildungseinrichtung (11, 15, 16, 17, 6) vorgesehen ist, die die gegenseitige Lage von Sigma- und NA-Blende (8, 10) abbildet.

    摘要翻译： AIMS（Arial图像测量系统）（1）在抽真空室中使用紫外光。 来自紫外灯（4）的光（5）从具有西格玛孔径光阑（8）的第一凹面镜和第二凹面镜（7）反射。 光以约60度落在物体（2）上，并以60度反射。 反射光束（6）通过具有NA-stop（10），第四，凸面，反射镜和第五和第六凹面镜的第三凹面镜（9）聚焦在照相机（3）上。 由菲涅尔区域板组成的贝特朗透镜（11）可以通过致动器（12）被推入照相机前方的光束中。

    Verfahren und Anordnung zur Realisierung einer schaltbaren optischen Apertur
    12.
    发明公开
    Verfahren und Anordnung zur Realisierung einer schaltbaren optischen Apertur 审中-公开

    公开(公告)号：EP1484646A2

    公开(公告)日：2004-12-08

    申请号：EP04013058.5

    申请日：2004-06-03

    申请人： Carl Zeiss SMS GmbH

    发明人： Burkhardt, Mathias ,  Erdmann, Lars ,  Steiner, Reinhardt ,  Brunner, Robert

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B26/00

    CPC分类号： G03F7/70291 ,  G02B27/0961 ,  G02B27/46 ,  G03F7/70283 ,  G03F7/70383

    摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches System zur Überlagerung mehrerer optischer Wellen. Durch die daraus resultierende Interferenz können verschiedenste Muster für die Photolithografie, die Lasermaterialbearbeitung, eine strukturierte Beleuchtung oder die Messtechnik erzeugt werden.
    Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren und der Anordnung zur Realisierung einer schaltbaren optischen Apertur, wird ein einfallendes, räumlich kohärentes Lichtbündel (1) in Amplitude und/oder Phase und/oder Polarisation moduliert, durch Linsenarrays (5,6) in Subaperturen aufgeteilt, diese Subaperturen durch Fokussierung in Kugelwellen umgewandelt, von einer Transformationsoptik (8) als ebene Wellen auf die Objektebene (8) kollimiert und dort überlagert werden.
    Mit dieser Methode ist die Erzeugung räumlich hochfrequenter Strukturen über große Felder möglich, wie sie beispielsweise in der diffraktiven Optik benötigt werden. Die Zahl der zum Interferenzfeld beitragenden optischen Wellen kann hierbei sehr groß gewählt werden. Bei einer XGA-Auflösung (1024x768 Pixel) würden 786.432 ebene Wellen zum Interferenzfeld beitragen.

    摘要翻译： 入射空间相干的光束（1）在幅度和/或相位和/或偏振中被调制，并被透镜阵列（5,6）分成子孔径。 子孔径通过聚焦转换为球面波，并通过其上叠加的相变透镜（7）作为平面波准直到物体的表面（8）上。 还包括用于实现可切换光学孔径的系统的独立权利要求。

    Mikroskop mit UV-Halbleiter-Lichtquelle
    13.
    发明公开
    Mikroskop mit UV-Halbleiter-Lichtquelle 审中-公开
    显微镜用紫外线半导体光源

    公开(公告)号：EP1426807A3

    公开(公告)日：2004-08-11

    申请号：EP03027701.6

    申请日：2003-12-02

    申请人： Carl Zeiss SMS GmbH

    发明人： Engel, Thomas

    IPC分类号： G02B21/08 ,  G02B21/06

    CPC分类号： G02B21/082 ,  G02B21/06

    摘要： Die Erfindung bezieht sich auf ein Mikroskop mit einer Beleuchtungseinrichtung für die UV-Mikroskopie. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Beleuchtungsquelle für UV-Mikroskope zu schaffen, die mit geringerem technischen Aufwand herstellbar und weniger kostenintensiv ist, eine höhere Lebensdauer aufweist und bei der die Probenabbildung nicht in dem Maße wie bisher durch thermische Effekte beeinflußt wird. Erfindungsgemäß ist in einem Mikroskop als Beleuchtungsquelle für die Probenbeleuchtung mindestens eine UV-Halbleiter-Lichtquelle vorgesehen. Eine entsprechend ausgebildete Beleuchtungseinrichtung mit einer oder mehreren UV-Halbleiter-Lichtquellen kann im oder am Mikroskopstativ (1) untergebracht sein. In einer besonderen Ausgestaltungsvariante sind mehrere UV-LED's (12) in das Mikroskopobjektiv (7) integriert.

    METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING A SUBSTRATE WITH A FO-CUSSED PARTICLE BEAM
    15.
    发明公开
    METHOD AND APPARATUS FOR PROCESSING A SUBSTRATE WITH A FO-CUSSED PARTICLE BEAM 审中-公开
    方法和装置用于处理基板用聚焦粒子束

    公开(公告)号：EP2702603A2

    公开(公告)日：2014-03-05

    申请号：EP12718639.3

    申请日：2012-04-26

    申请人： Carl Zeiss SMS GmbH

    发明人： BRET, Tristan ,  SPIES, Petra ,  HOFMANN, Thorsten

    IPC分类号： H01J37/304 ,  H01J37/305 ,  G03F1/74

    CPC分类号： H01J37/3045 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/74 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/31737 ,  H01J2237/31744

    摘要： The invention relates to a method for processing a substrate with a focussed particle beam which incidents on the substrate, the method comprising the steps of: (a) generating at least one reference mark on the substrate using the focused particle beam and at least one processing gas, (b) determining a reference position of the at least one reference mark, (c) processing the substrate using the reference position of the reference mark, and (d) removing the at least one reference mark from the substrate.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于处理一基板与聚焦粒子束其中在基片上的事件，该方法包括以下步骤：（a）产生关于使用聚焦粒子束和至少一个处理基板的至少一个参考标记 气体，（b）中确定的挖掘的所述至少一个参考标记的基准位置，（c）使用所述基准标记的基准位置处理所述底物，和（d）从所述衬底去除所述至少一个参考标记。

    Method for processing an object with miniaturized structures
    18.
    发明公开
    Method for processing an object with miniaturized structures 审中-公开
    Verfahren zur Verarbeitung eines Objekts mit miniaturisierten Strukturen

    公开(公告)号：EP2511764A1

    公开(公告)日：2012-10-17

    申请号：EP12175894.0

    申请日：2009-02-24

    申请人： Carl Zeiss SMS GmbH

    发明人： Budach, Michael ,  Bret, Tristan ,  Edinger, Klaus ,  Hofmann, Thorsten

    IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F1/74 ,  H01J37/305 ,  H01J37/304 ,  C23C16/04

    摘要： The present invention relates to a method for processing an object with miniaturized structures, having the steps of:
    a) feeding the reaction gas onto a surface of the object;
    b) processing the object by directing an energetic beam onto a processing site on the surface of the object, in order to deposit material on the object or to remove material from the object,
    c) scanning the surface of the object with the energetic beam and detecting interaction products of the energetic beam with the object, and
    d) deciding whether the processing of the object must be continued or can be terminated with the aid of information which is obtained from the detected interaction products of the energetic beam with the object,
    e) in which the processing of the object in step b) is performed with a first set of beam parameters of the beam, and the scanning of the surface in step c) is performed with a second set of beam parameters of the energetic beam, and the second set of beam parameters deviates from the first set of the energetic beam parameters.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用小型化结构处理物体的方法，具有以下步骤：a）将反应气体进料到物体的表面上; b）通过将能量束引导到物体表面上的处理位置来处理物体，以便将材料沉积在物体上或从物体上去除材料，c）用能量束扫描物体的表面， 检测能量束与物体的相互作用产物，以及d）决定物体的处理是否必须继续，或者借助从检测到的能量束与物体的相互作用产物得到的信息来终止，e ），其中用步骤b）中的对象的处理用波束的第一组波束参数执行，并且步骤c）中的表面的扫描是用能量束的第二组波束参数执行的，以及 第二组光束参数偏离第一组能量束参数。