公开(公告)号：JP5963662B2

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：JP2012265844

申请日：2012-12-04

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 椛澤 光昭 ,  渡邉 一浩 ,  安藤 一志 ,  稲田 耕二 ,  山田 達也

IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/32412 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/10

公开(公告)号：JP5959413B2

公开(公告)日：2016-08-02

申请号：JP2012249662

申请日：2012-11-13

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 月原 光国 ,  椛澤 光昭

IPC: H01J37/09 ,  H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/302 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/047 ,  H01J2237/30472

公开(公告)号：JP5950855B2

公开(公告)日：2016-07-13

申请号：JP2013056306

申请日：2013-03-19

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 永井 孝幸 ,  佐藤 正輝

IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: C23C14/564 ,  H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  B08B7/00 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/182

公开(公告)号：JP2016039092A

公开(公告)日：2016-03-22

申请号：JP2014163051

申请日：2014-08-08

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 佐野 信 ,  月原 光国 ,  佐々木 玄 ,  稲田 耕二

IPC: H01J37/09 ,  H01L21/265 ,  H01L21/266 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/24405 ,  H01J2237/24535 ,  H01J2237/303

Abstract: 【課題】所定軌道を有するビーム成分を精度良く計測する。 【解決手段】イオン注入装置は、前段ビーム経路P1を通るイオンビームを偏向させ、ウェハ40に向けて後段ビーム経路P2を通るようにビームを出射させるビーム偏向装置42と、ビーム偏向装置42とウェハ40の間に位置し、後段ビーム経路P2中を進行するビームを部分的に遮蔽して所定軌道を有するビーム成分をウェハ40に向けて通過させるビームフィルタースリット52と、ビーム偏向装置42とビームフィルタースリット52の間に位置し、ビーム偏向装置42から出射されるビームの一部をビーム電流として計測するドーズカップ50と、ビーム偏向装置42とドーズカップ50の間に位置し、ビーム偏向装置42から出射してドーズカップ50に向かうビームのうち所定軌道から逸脱した軌道を有するビーム成分がドーズカップ50の計測領域に入射することを防ぐ軌道制限機構60と、を備える。 【選択図】図5

Abstract translation: 要解决的问题：精确地测量具有预定轨道的光束分量。解决方案：离子注入装置包括：光束偏转器42，其偏转通过预级光束路径P1的离子束，并将光束朝向晶片40发射 使其通过后级光束路径P2; 位于光束偏转器42和晶片40之间的光束滤光器狭缝52部分地截取在后级光束路径P2中前进的光束，并且将具有特定轨道的光束分量穿过晶片40; 位于光束偏转器42和光束滤光器狭缝52之间的剂量杯50，并且测量从光束偏转器42发射的光束的一部分作为光束电流; 以及轨道限制机构60，其位于射束偏转器42和剂量杯50之间，并且防止具有偏离特定轨道的轨道的射束成分从射束偏转器发射后朝向剂量杯50前进 42，进入剂量杯50的测量区域。选择图：图5

公开(公告)号：JP2016018707A

公开(公告)日：2016-02-01

申请号：JP2014141481

申请日：2014-07-09

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 香川 唯信 ,  弓山 敏男 ,  黒瀬 猛

IPC: H01J37/248 ,  H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/241 ,  H01J37/3171

Abstract: 【課題】電極装置に印加される電圧の精度を高める。 【解決手段】イオン注入装置は、高電圧電源90と、高電圧電源90の出力電圧HV O を制御する指令信号を生成する制御装置104と、出力電圧HV O が印加される電極装置80と、電極装置80に印加される実電圧HV R を計測するための測定装置120と、を備える。制御装置104は、高電圧電源90に目標電圧を出力させるための第1指令信号を生成する第1生成部110と、測定装置120により計測される実電圧HV R が目標電圧または目標電圧に近い電圧となるように第1指令信号を補完する第2指令信号を生成する第2生成部112と、高電圧電源90に、第1指令信号および第2指令信号を合成して得られる合成指令信号を出力する指令部114と、を含む。 【選択図】図4

Abstract translation: 要解决的问题：提高施加到电极装置的电压的精度。解决方案：离子注入装置包括：高压电源90; 控制装置104，其生成用于控制来自高压电源90的电压HV输出的指令信号; 施加输出电压HVis的电极装置80; 以及测量装置120，其测量施加到电极装置80的实际电压HV。控制装置104包括：第一产生部分110，其产生用于使高压电源90输出目标电压的第一命令信号; 第二产生部分112，其补偿第一命令信号，使得由测量装置120测量的实际电压HV变得等于或接近目标电压; 以及命令部分114，其将通过组合第一和第二命令信号获得的组合信号输出到高电压电源90.选择图：图4

公开(公告)号：JP2016009551A

公开(公告)日：2016-01-18

申请号：JP2014128519

申请日：2014-06-23

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 天野 吉隆

IPC: H01J37/12 ,  H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/10 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/038 ,  H01J2237/1202 ,  H01J2237/16

Abstract: 【課題】広い範囲で使用することのできるイオン注入装置及びイオン注入方法を提供する。 【解決手段】イオン注入装置は、イオンビームを平行化するための複数の電極を備えるレンズ電極ユニット802と、レンズ電極ユニット802を真空環境に収納する真空ユニット804と、を備える。真空ユニット804は、第1導電性容器壁814を備える第1真空容器806と、第2導電性容器壁816を備える第2真空容器808と、第1真空容器806と第2真空容器808とを相互に連通しかつ第1導電性容器壁814を第2導電性容器壁816から絶縁する絶縁性容器壁810と、を備える。レンズ電極ユニット802の複数の電極のうち少なくとも1つの電極を第1導電性容器壁814及び第2導電性容器壁816の少なくとも一方から絶縁する絶縁部材828が設けられ、絶縁部材828は、レンズ電極ユニット802とともに真空環境に収納されている。 【選択図】図22

Abstract translation: 要解决的问题：提供可以在宽范围内使用的离子注入装置和方法。解决方案：离子注入装置具有透镜电极单元802，其具有用于准直离子束的多个电极，以及真空单元804，其中 透镜电极单元802容纳在真空环境下。 真空单元804具有第一真空容器806，其具有第一导电容器壁814，具有第二导电容器壁816的第二真空容器808和使第一真空容器806和第二真空容器808的绝缘容器壁810 彼此相互连通并且将第一导电容器壁814与第二导电容器壁816绝缘。绝缘构件828，用于将透镜电极单元802的多个电极中的至少一个电极与第一导电容器壁 814和第二导电容器壁816。 绝缘构件828与真空环境下的透镜电极单元802一起安装。

公开(公告)号：JP2016004614A

公开(公告)日：2016-01-12

申请号：JP2014122347

申请日：2014-06-13

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 月原 光国 ,  井門 徳安 ,  末次 紀之

IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/304 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/30455 ,  H01J2237/31701 ,  H01J2237/31703

Abstract: 【課題】ビーム照射処理の品質を高める技術を提供する。 【解決手段】ビーム照射装置10は、荷電粒子ビームBを所定の走査方向に往復走査させるビーム走査器26と、計測対象とする領域に入射する荷電粒子の角度成分が計測可能な測定器42と、測定器42の計測結果を用いて、荷電粒子ビームBの実効照射エミッタンスを算出するデータ処理部と、を備える。測定器42は、走査方向に往復走査される荷電粒子ビームBが計測対象とする領域を通過して測定器42に入射する時間にわたって、荷電粒子ビームBについての角度分布の時間変化値を計測し、データ処理部は、測定器が計測した角度分布の時間変化値に含まれる時間情報を位置情報に変換して実効照射エミッタンスを算出する。実効照射エミッタンスは、走査方向に走査されて計測対象とする領域に入射する荷電粒子ビームの一部を足し合わせることで形成されうる仮想的なビーム束についてのエミッタンスを表す。 【選択図】図6

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够提高束照射处理质量的光束照射装置和方法。解决方案：束照射装置10具有用于以预定的往复扫描方向扫描带电粒子束B的束扫描器26， 单元42，其能够测量入射到作为测量对象的区域的带电粒子的角度分量;以及数据处理器，用于通过使用测量单元42的测量结果来计算带电粒子束B的有效照射发射率。测量 单元42测量带电粒子束B在以往的扫描方向扫过的时间内的角度分布的时间变化值通过作为测量对象的区域并入射到测量单元42的时间变化值， 并且数据处理器转换由测量单元测量的角度分布的时间变化值中包含的时间信息 定位信息，并计算有效的辐射发射率。 有效的辐射发射率表示通过组合扫描方向扫掠的一部分带电粒子束并入射到作为测量对象的区域而形成的虚拟光束通量的发射率。

公开(公告)号：JP2015232947A

公开(公告)日：2015-12-24

申请号：JP2014118901

申请日：2014-06-09

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 八木田 貴典 ,  椛澤 光昭

IPC: H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/10 ,  H01J37/147 ,  H01J37/1474 ,  H01J2237/103

Abstract: 【課題】広い範囲で使用することのできるイオン注入装置及びイオン注入方法を提供する。 【解決手段】イオン注入装置300は、ビーム走査部306と、ビーム走査部306の下流に配設されているビーム平行化部308と、を備える。ビーム走査部306は、入射イオンビームの中心軸上でビーム走査部306の中央部に走査原点を有する。ビーム平行化部308は、走査原点に平行化レンズとしての焦点を有する。イオン注入装置300は、ビーム走査部306への入射イオンビームの焦点位置が入射イオンビームの中心軸に沿って走査原点より上流側にあるよう構成されている。ビーム走査部306への入射イオンビームの焦点位置は、ビーム平行化部308からの出射イオンビームにおける空間電荷効果による発散現象を補正するように、入射イオンビームの中心軸に沿って走査原点より上流側において調整される。 【選択図】図16

Abstract translation: 要解决的问题：提供可以广泛使用的离子注入装置和离子注入方法。解决方案：离子注入装置300包括束扫描部分306和设置在束扫描下游的束平行化部分308 光束扫描部分306具有在入射离子束的中心轴上的扫描原点和光束扫描部分306的中心部分。光束平行化部分308具有在扫描原点的焦点为 平行化镜头 离子注入装置300被配置为使得入射在束扫描部分306上的离子束的焦点位于沿着入射离子束的中心轴线的扫描原点以上。 入射在光束扫描部306上的离子束的焦点沿着入射离子束的中心轴被调整并且比扫描原点更进一步的上游，以便校正由空间电荷效应产生的发散现象 从光束平行化部分308发射的离子束。

公开(公告)号：JP2015225708A

公开(公告)日：2015-12-14

申请号：JP2014108008

申请日：2014-05-26

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 松下 浩 ,  椛澤 光昭 ,  天野 吉隆 ,  八木田 貴典

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/1477 ,  H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/151 ,  H01J2237/30483 ,  H01J2237/31701

Abstract: 【課題】広い範囲で使用することのできるイオン注入装置を提供する。 【解決手段】イオン注入装置は、基準軌道Zに沿って入射するイオンビームBに偏向電界を作用させて、基準軌道Zと直交する横方向にイオンビームBを走査させる走査電極装置400と、走査電極装置400の下流に配置され、横方向に走査されたイオンビームBが通過する開口部が設けられる下流電極装置500と、を含む走査ユニット1000を備える。走査電極装置400は、基準軌道Zを挟んで横方向に対向して設けられる一対の走査電極410R、410Lを有する。下流電極装置500の開口部は、基準軌道Zおよび横方向の双方と直交する縦方向の開口幅および/または基準軌道Zに沿った方向の厚さが、基準軌道Zが位置する中央部と、走査電極410R、410Lの下流端部422と対向する位置の近傍と、で異なるように構成される電極体を有する。 【選択図】図16

Abstract translation: 要解决的问题：提供可在宽范围内使用的离子注入装置。解决方案：离子注入装置具有扫描单元1000，扫描单元1000具有扫掠电极装置400，用于使偏转电场作用于沿着 在垂直于基准轨迹Z的横向上扫描离子束的基准轨迹;以及设置在扫掠电极装置400的下游侧的下游侧电极装置500，具有开口部，离子束B通过该开口部扫过 横向通过。 扫掠电极装置具有一对扫掠电极410R，410L，它们被设置为在横向上相对于参考轨迹Z彼此相对。下游电极装置500的开口部分具有电极体， 垂直于基准轨迹Z和沿着基准轨迹Z的方向的基准轨迹Z和横向方向和/或厚度的纵向方向在基准轨迹Z所在的中心部分与其位置附近的位置之间是不同的， 电极体面对扫掠电极410R，410L的下游端部422。

公开(公告)号：JP2015225707A

公开(公告)日：2015-12-14

申请号：JP2014108007

申请日：2014-05-26

Applicant: 住友重機械イオンテクノロジー株式会社

Inventor： 松下 浩 ,  椛澤 光昭 ,  天野 吉隆 ,  八木田 貴典

IPC: H01J37/147 ,  H01J37/153 ,  H01L21/265 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/1477 ,  H01J37/30 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/317 ,  H01J2237/15 ,  H01J2237/1534 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/31701

Abstract: 【課題】広い範囲で使用することのできるイオン注入装置を提供する。 【解決手段】イオン注入装置は、基準軌道Zに沿って入射するイオンビームBに偏向電界を作用させて、基準軌道Zと直交する横方向にイオンビームBを走査させる走査電極装置400と、走査電極装置400の上流に設けられる複数の電極体により構成される上流電極装置300と、を含む走査ユニット1000を備える。走査電極装置400は、基準軌道Zを挟んで横方向に対向して設けられる一対の走査電極410R、410Lと、基準軌道Zを挟んで横方向と直交する縦方向に対向して設けられる一対のビーム輸送補正電極450と、を備える。一対のビーム輸送補正電極450のそれぞれは、走査電極装置400の入口402付近において、基準軌道Zに向かって縦方向に延出したビーム輸送補正入口電極体454を有する。 【選択図】図16

Abstract translation: 要解决的问题：提供可在宽范围内使用的离子注入装置。解决方案：离子注入装置具有扫描单元1000，扫描单元1000具有扫掠电极装置400，用于使偏转电场作用于沿着 参考轨迹，用于沿与垂直于参考轨迹Z的横向方向扫描离子束;以及上游电极装置300，其包括设置在扫掠电极装置400的上游侧的多个电极体。扫掠电极装置400具有一对扫掠 电极410R，410L，其被设置为在横向方向上相对于参考轨迹Z;以及一对光束传输校正电极450，其被设置为在垂直于横向方向的纵向方向上通过参考轨迹 一对光束传输校正电极450中的每一个具有光束传输校正入口电极体454 在扫掠电极装置400的入口402附近沿着基准轨迹Z在纵向倾斜。