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公开(公告)号:JP5730449B2
公开(公告)日:2015-06-10
申请号:JP2014539249
申请日:2011-12-06
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: ゲラルト クラインドル , マークス ヴィンプリンガー , トーマス グリンスナー
IPC: B29C59/04 , B29C33/38 , H01L21/027
CPC classification number: B29C59/002 , B29C59/021 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29C35/0888 , B29C59/04
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公开(公告)号:JP2015505164A
公开(公告)日:2015-02-16
申请号:JP2014547725
申请日:2011-12-22
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: ヴィンプリンガー マークス , ヴィンプリンガー マークス , ブルクグラーフ ユルゲン , ブルクグラーフ ユルゲン , ミッテンドルファー ゲラルト , ミッテンドルファー ゲラルト
IPC: H01L21/683 , H01L21/02
CPC classification number: H01L24/799 , B32B38/10 , B32B43/006 , B32B2457/14 , H01L21/67092 , H01L21/6835 , H01L21/68707 , H01L21/68721 , H01L21/68785 , H01L22/10 , H01L24/98 , H01L2924/0002 , Y10T156/11 , Y10T156/1168 , Y10T156/1978 , H01L2924/00
Abstract: 本発明は、第1の基板(13)を第2の基板(11)から剥離する際に第1の基板(13)を保持する可撓性の基板保持装置(1)であって、第1の基板(13)を曲げながら、第2の基板(11)を剥離する剥離手段(1,28)が設けられている基板保持装置に関する。さらに本発明は、第1の基板(13)を保持する、剥離方向(L)で可撓性の基板保持装置(1)と、第2の基板(11)を保持する基板保持装置(18)と、第1の基板(13)を曲げながら第1の基板(13)を第2の基板(11)から剥離する剥離手段(1,15,15?,16,28)と、を有する、第1の基板(13)を第2の基板(11)から剥離方向(L)で剥離する装置に関する。さらに本発明は、以下のステップ、特に以下の経過、即ち、基板保持装置による第2の基板の保持、及び前記剥離方向(L)で可撓性の基板保持装置による第1の基板の保持のステップと、第2の基板を曲げながら第1の基板を第2の基板から剥離するステップと、を有する第1の基板を第2の基板から剥離方向(L)で剥離する方法に関する。
Abstract translation: 另外,本发明的柔性基板保持装置,用于保持当从所述第二基板(11)的第一衬底(13)的释放在所述第一基板(13)(1),第一 同时弯曲所述衬底(13),至汽提装置(1,28),其上设置有基板保持装置是剥离所述第二衬底(11)。 本发明保持第一基板(13),具有释放方向(L)的柔性基板保持装置(1),基板保持装置,用于保持第二基板(11)(18) 当剥离装置,用于从同时弯曲所述第一基板(13)的第一衬底(13)的第二基板(11)(1,15,15 ?, 16,28)剥离具有,一,一个 本发明涉及一种设备,用于剥离从第一衬底(13)的第二衬底(11)的释放方向(L)。 本发明包括下面的步骤,特别是以下的过程中,即,由所述基板保持装置的第二基板的保持,并通过柔性基板保持装置保持所述第一基板的剥离方向(L) 步骤和,所述第一衬底的步骤的同时弯曲所述第二衬底从第二衬底上剥离,以剥离第一衬底从第二衬底具有(L)剥离方向的方法。
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公开(公告)号:JP5650328B2
公开(公告)日:2015-01-07
申请号:JP2013526318
申请日:2010-09-03
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: ミヒャエル・カスト , クリスティアン・グリューンザイス , アロイス・マルツァー
CPC classification number: G01B21/24 , G01B11/14 , G01B11/272 , G03F7/0002
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公开(公告)号:JP2014529884A
公开(公告)日:2014-11-13
申请号:JP2014525325
申请日:2011-08-12
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: タルナー ヴェアナー , タルナー ヴェアナー , ブルクシュタラー ダニエル , ブルクシュタラー ダニエル
IPC: H01L21/683 , B23Q3/08
Abstract: 本発明は、パターン(11)を有する基板(10)のパターン側(10s)で基板(10)を取り付け且つ位置固定するための取付け装置であって、パターン(11)を支持する平らな取付け面(3o)と、前記取付け面(3o)を専ら外側の環状面(8)内でのみ貫通して、前記基板(10)を吸引する流体流を生ぜしめる吸引面(F2)とを備えた取付け部材(3)が設けられていることを特徴とする、パターン(11)を有する基板(10)のパターン側(10s)で基板(10)を取り付け且つ位置固定するための取付け装置に関する。
Abstract translation: 本发明涉及一种用于在图案侧具有图案(11),用于支撑所述图案的平坦的安装表面的衬底(10)的(10秒)的安装装置和静止安装基板(10)(11) 和(10-30)中,由所述安装表面(30)仅通过连接只在外面的环形表面(8),以及一个吸附面,其产生流体流动对于衬底的吸吮(F2)(10) 其特征在于,所述构件(3)被提供,本发明涉及用于将安装装置,并在图案侧固定安装基板(10)的衬底(10)具有图案(11)的(10秒)。
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公开(公告)号:JP5611371B2
公开(公告)日:2014-10-22
申请号:JP2012552432
申请日:2011-09-07
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: マルクス・ヴィンプリンガー
CPC classification number: H01L21/681 , H01L21/67092 , H01L21/67259
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公开(公告)号:JP5590785B2
公开(公告)日:2014-09-17
申请号:JP2008286980
申请日:2008-11-07
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: フリードリヒ・ポール・リンドナー , トーマス・グリンスナー , マルクス・ウィンプリンガー
IPC: B29C59/02 , H01L21/027
CPC classification number: B29C59/022 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , Y10T29/49124 , Y10T29/49815 , Y10T29/49895 , Y10T29/5313 , Y10T29/5317 , Y10T29/53265 , Y10T156/107
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47.
公开(公告)号:JP2014500952A
公开(公告)日:2014-01-16
申请号:JP2013538076
申请日:2010-11-12
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: マルクス・ヴィンプリンガー
CPC classification number: H01L22/20 , G01B7/06 , G01B11/0625 , G01B17/02 , G01B17/025 , G01N21/9501 , G01N21/9505 , G01N29/043 , G01N29/265 , G01N29/27 , G01N29/275 , G01N2291/0231 , G01N2291/02854 , G01N2291/0289 , G01N2291/044 , G01N2291/2697 , H01L21/67253 , H01L21/67288 , H01L22/12
Abstract: 本発明は、ウェーハスタックの1つ又は複数の層内の層厚さ及び/又は欠陥を、前記ウェーハスタック上に分散された複数の測定点で測定及び/又は検出する測定手段及び方法、ならびに対応するウェーハ処理デバイスに関する。
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公开(公告)号:JP2013505559A
公开(公告)日:2013-02-14
申请号:JP2012529140
申请日:2010-09-03
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: マルクス・ヴィンプリンガー
IPC: H01L25/065 , H01L25/07 , H01L25/18
CPC classification number: H01L21/568 , H01L21/561 , H01L21/563 , H01L21/6835 , H01L21/6836 , H01L23/3128 , H01L24/08 , H01L24/16 , H01L24/32 , H01L24/74 , H01L24/80 , H01L24/81 , H01L24/83 , H01L24/97 , H01L25/50 , H01L2221/68304 , H01L2221/68327 , H01L2221/68331 , H01L2221/68381 , H01L2224/0401 , H01L2224/0557 , H01L2224/08225 , H01L2224/16225 , H01L2224/32225 , H01L2224/73204 , H01L2224/74 , H01L2224/7598 , H01L2224/80006 , H01L2224/80065 , H01L2224/80075 , H01L2224/80205 , H01L2224/80805 , H01L2224/80815 , H01L2224/8082 , H01L2224/80907 , H01L2224/81 , H01L2224/81005 , H01L2224/81065 , H01L2224/81075 , H01L2224/81205 , H01L2224/81805 , H01L2224/81815 , H01L2224/8182 , H01L2224/81907 , H01L2224/83005 , H01L2224/83065 , H01L2224/83075 , H01L2224/83205 , H01L2224/83805 , H01L2224/83815 , H01L2224/8382 , H01L2224/83907 , H01L2224/97 , H01L2225/06513 , H01L2225/06541 , H01L2225/06568 , H01L2924/00014 , H01L2924/0002 , H01L2924/01322 , H01L2924/12042 , H01L2924/14 , H01L2924/15311 , H01L2924/15738 , H01L2224/80 , H01L2224/83 , H01L2924/01014 , H01L2924/00 , H01L2224/05552
Abstract: 本発明は、前面側にチップ(3')を含むベースウエハ(1)に複数のチップ(3)を結合する方法であって、前記チップ(3)が、前記ベースウエハ(1)の背面側で少なくとも一層に積層され、導電接続部が垂直に隣接するチップ(3、3')間に組み立てられる方法に関連する。 前記方法は、(a)前記ベースウエハ(1)の前面側(2)がキャリア(5)に固定される段階、(b)チップ(3)の少なくとも一層が前記ベースウエハ(1)の背面側(6)の画定された位置に配置される段階、(c)前記キャリア(5)に固定される前記ベースウエハ(1)の前記チップ(3、3')が熱処理される段階を含む。 前記方法は、段階(c)の前に、前記ベースウエハ(1)のチップ(3')が前記ベースウエハの積層チップ部分(1c)に少なくとも分離されることによって特徴付けられる。
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公开(公告)号:JP2009137286A
公开(公告)日:2009-06-25
申请号:JP2008286980
申请日:2008-11-07
Applicant: Ev Group E Thallner Gmbh , エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: LINDNER FRIEDRICH PAUL , GLINSNER THOMAS , WIMPLINGER MARKUS
IPC: B29C59/02 , H01L21/027
CPC classification number: B29C59/022 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , Y10T29/49124 , Y10T29/49815 , Y10T29/49895 , Y10T29/5313 , Y10T29/5317 , Y10T29/53265 , Y10T156/107
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system for transferring micro-structure or nano-structure obtained from a substrate of uniform structure reduced in generation of a scrap with excellent through-put and an edge yield, using a die manufactured at a reasonable price (cost), from the die to a flatside of a large area of substrate. SOLUTION: This system for transferring the nano-structure from the die 1 to the flatside of the large area of substrate 4 includes a substrate holder 3 for receiving the substrate 4 on a substrate receiving surface, and an actuator device 10.3 directed in parallel to the substrate receiving surface and opposedly to a movable structure surface of the die 1, and acting orthogonally to the substrate receiving surface. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT
Abstract translation: 要解决的问题:提供一种用于转移由均匀结构的基底获得的微结构或纳米结构的系统,其中通过使用在 合理的价格(成本),从模具到平面的大面积基材。 解决方案:用于将纳米结构从模具1转移到基板4的大面积的平面的该系统包括用于在基板接收表面上接收基板4的基板保持器3和引导到基板4的致动器装置10.3 平行于基板接收表面并与模具1的可移动结构表面相反,并且与基板接收表面正交地作用。 版权所有(C)2009,JPO&INPIT
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公开(公告)号:JP2022000912A
公开(公告)日:2022-01-04
申请号:JP2021151847
申请日:2021-09-17
Applicant: エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー
Inventor: フリードリヒ パウル リンドナー , ハラルト ツァーグルマイア , クリスティアン シェーン , トーマス グリンスナー , エーフェリン ライズィンガー , ペーター フィッシャー , オトマー ルクシュ
IPC: B29C33/44 , B29C33/42 , B29C59/02 , H01L21/027
Abstract: 【課題】マイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工するための装置および方法が提案される。 【解決手段】エンボス加工材料にマイクロパターンおよび/またはナノパターンをエンボス加工する、パターンモールド1と可動のエンボス加工エレメント8とを有した装置において、前記エンボス加工材料からのパターンモールド1の離型が、目標通りに制御可能であることを特徴とする、装置。 【選択図】図11a
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