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    樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体
    53.
    发明专利
    樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 审中-公开
    树脂组合物，抗蚀剂图案形成方法和聚合物

    公开(公告)号：JPWO2015037520A1

    公开(公告)日：2017-03-02

    申请号：JP2015536553

    申请日：2014-09-04

    申请人： Jsr株式会社

    发明人： 準人 生井

    IPC分类号： C08L33/04 ,  C08L23/02

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F216/165 ,  C08F220/28 ,  C08F220/68 ,  C08F2220/281 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/283 ,  C09D129/10 ,  C09D133/10 ,  C09D133/14 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38

    摘要： 本発明は、下記式(1)で表される基を含む構造単位を有する第1重合体、及び溶媒を含有する樹脂組成物である。式(1)中、R1〜R4は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数1〜20の1価の有機基である。但し、R1〜R4のうちの少なくとも1つは、フッ素原子又はフッ素原子を含むである。R5は、置換又は非置換の炭素数1〜7の3価の鎖状炭化水素基である。*は上記構造単位の他の部分に結合する部位を示す。上記構造単位は、下記式(2−1)〜(2−3)のいずれかで表されることが好ましい。式(2−1)〜(2−3)中、Zは下記式(1)で表される基である。

    摘要翻译： 本发明是第一聚合物，和包含具有含有下述通式（1）表示的基团的结构单元的溶剂中的树脂组合物。 其中（1）中，R1〜R4各自独立为氢原子，一价有机基团氟原子或碳原子数为1〜20。 条件是R1〜R4中的至少一个是含有氟原子或氟原子。 R 5是具有取代或未取代的1至7个碳原子的三价链状烃基。 *表示结合的结构单元的另一部分网站。 上述结构单元优选由下式中的任一个（2-1）〜（2-3）表示。 其中，（2-1）〜（2-3）中，Z是由下式表示的基团（1）。

    塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
    60.
    发明专利
    塩、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 审中-公开
    盐，酸产生剂，树脂，抗蚀剂组合物和抗蚀剂的图案制造方法

    公开(公告)号：JP2016210982A

    公开(公告)日：2016-12-15

    申请号：JP2016090666

    申请日：2016-04-28

    申请人： 住友化学株式会社

    发明人： 西村 崇 ,  市川 幸司

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  C09K3/00 ,  C08F20/38

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  C07C309/17 ,  C07C381/12 ,  C07D327/06 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C07C2103/74 ,  C08F2222/1013 ,  G03F7/38

    摘要： 【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造することができるレジスト組成物に用いる塩、樹脂及びレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I)で表される塩、式(I)の塩由来の構造単位を含む樹脂及びレジスト組成物。 [式中、Q 1 及びQ 2 は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。R 1 及びR 2 は、互いに独立に、水素原子、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す。X 1 は、*−CO−O−、*−O−CO−又は*−O−を表し、*は、C(R 1 )(R 2 )又はC(Q 1 )(Q 2 )との結合位を表す。A 1 は、2価の脂環式炭化水素基を含む炭化水素基を表す。A 2 は、の2価の炭化水素基を表す。R 3 及びR 4 は、互いに独立に、水素原子又は1価の飽和炭化水素基を表す。R 5 は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Z + は、有機カチオンを表す。] 【選択図】なし

    摘要翻译： 本发明的一个目的是提供一种用于在抗蚀剂组合物可以产生使用提供盐在良好的线缘粗糙度，树脂与抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案。 由式（I）表示的盐的式，树脂和包含选自式（I）的盐衍生的结构单元的抗蚀剂组合物。 其中，Q1和Q2各自独立地表示氟原子或全氟烷基。 R1和R2独立地表示氢原子，氟原子或全氟烷基。 X1是，* - CO-O - ，* - -O-CO-，* -O-和表示，*表示与C（R1）（R2）或C（Q1）（Q2）的结合位置。 A1表示含有二价脂环式烃基的烃基。 A 2表示二价烃基。 R3和R4独立地表示氢原子或一价的饱和烃基。 R5是可具有卤素原子，氢原子或卤原子的烷基。 Z +表示有机阳离子。 ]系统技术领域