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公开(公告)号：JP6165690B2
公开(公告)日：2017-07-19
申请号：JP2014169865
申请日：2014-08-22
申请人： 信越化学工業株式会社
CPC分类号： C09D161/26 , C08G8/04 , C08G8/20 , C09D161/12 , C09D165/00 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/0752 , G03F7/094 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0271 , H01L21/31116 , H01L21/31138 , C08G2261/12 , C08G2261/314 , C08G2261/3325 , C08G2261/3424 , C08G2261/71 , G03F7/16
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公开(公告)号：JPWO2016136596A1
公开(公告)日：2017-07-06
申请号：JP2017502316
申请日：2016-02-18
申请人： 富士フイルム株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , C08F20/18 , C08K5/08 , C08K5/13 , C08K5/16 , C08K5/3435 , C08K5/47 , C08L101/02 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , C08F20/38 , C09D133/10 , C09D133/14 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/027
摘要： 重合体を含有するフォトレジスト用の上層膜形成用組成物であって、重合体のゲルパーミッションクロマトグラフィーにより測定される分子量分布において、重量平均分子量4万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して0.1%以下である、フォトレジスト用の上層膜形成用組成物により、超微細の幅又は孔径(例えば、60nm以下)を有するトレンチパターン又はホールパターンを、高いフォーカス余裕度(DOF:Depth of Focus)性能にて形成可能な上層膜形成用組成物、並びに、それを用いたパターン形成方法及び電子デバイスの製造方法を提供する。
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公开(公告)号：JP6159701B2
公开(公告)日：2017-07-05
申请号：JP2014234279
申请日：2014-11-19
申请人： 富士フイルム株式会社
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/32 , G03F7/325
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公开(公告)号：JP6157160B2
公开(公告)日：2017-07-05
申请号：JP2013053401
申请日：2013-03-15
发明人： 王 暁 偉 , 岡 安 哲 雄 , ゲオルク、ポロウスキー , 絹 田 貴 史
IPC分类号： H01L21/027 , C08F20/12 , C08G63/183 , G03F7/11
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公开(公告)号：JPWO2016002509A1
公开(公告)日：2017-06-22
申请号：JP2016531251
申请日：2015-06-17
申请人： 国立大学法人信州大学 , 株式会社寿通商
IPC分类号： C01B32/152 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/02 , C01B32/158
CPC分类号： B01D67/0062 , B01D67/0079 , B01D69/10 , B01D69/12 , B01D71/021 , B01D2323/08 , B01D2323/34 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B31/0484 , C01B32/05 , C01B32/194 , G03F7/038 , G03F7/11 , G03F7/2002 , Y10S977/734 , Y10S977/842 , Y10S977/902
摘要： フィルターなどに使用されるグラフェン、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、その他のカーボンナノ素材に、所望の大きさの孔を、精度よく均一に形成することを課題とする。カーボンナノ素材に所望の大きさの孔を形成するカーボンナノ素材の穿孔方法であって、上記カーボンナノ素材を、160−250℃の酸素を含有する空気中で所定時間、低温加熱保持することにより、加熱時間の長短の制御によってカーボンナノ素材に所望の大きさの孔を均一に形成することを特徴とするカーボンナノ素材の穿孔方法。
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公开(公告)号：JPWO2016052341A1
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2016551980
申请日：2015-09-25
申请人： 富士フイルム株式会社
CPC分类号： G03F7/327 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F2220/283 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/091 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/168 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/40 , H01L21/027
摘要： DOF及びLERが良好なパターン形成方法、上記パターン形成方法により形成されたレジストパターン、及び、上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供する。上記パターン形成方法は、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を、基板上に塗布して、レジスト膜を形成する工程aと、上記レジスト膜上に上層膜形成用組成物を塗布した後に、100℃以上で加熱することにより、上記レジスト膜上に上層膜を形成する工程bと、上記上層膜が形成された上記レジスト膜を露光する工程cと、上記露光された上記レジスト膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してパターンを形成する工程dと、を備える。
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公开(公告)号：JP6134367B2
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：JP2015204525
申请日：2015-10-16
发明人： チューン−ボン・リー , ステファン・ジェイ・カポラル , ジェイソン・エイ・デジスト , ジョン−クン・パク , コン・リウ , チェン−バイ・スー , セシリー・アンデス
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/11
CPC分类号： G03F7/11 , C09D4/06 , G03F7/0046 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/2041 , C09D133/06
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公开(公告)号：JP6127832B2
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：JP2013174086
申请日：2013-08-26
申请人： 信越化学工業株式会社
发明人： 畠山 潤
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0048 , G03F7/11 , G03F7/20
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公开(公告)号：JP6124025B2
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：JP2014531597
申请日：2013-08-13
申请人： 日産化学工業株式会社
CPC分类号： C09D161/12 , C07C39/15 , C08G8/02 , C08G8/04 , C09D161/04 , G03F7/038 , G03F7/11 , H01L21/0271 , H01L21/3088 , H01L21/31144 , H01L21/31138
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公开(公告)号：JPWO2016013344A1
公开(公告)日：2017-04-27
申请号：JP2016535851
申请日：2015-06-25
申请人： 日産化学工業株式会社
CPC分类号： G03F7/11 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/094
摘要： 【課題】優れた耐溶剤性、耐熱性及び透明性を有する硬化膜を形成でき、該硬化膜上にカラーフィルターを形成する際にカラーレジストの残渣の発生を抑えることができる、カラーフィルター下層膜形成用樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される構造単位を有するホモポリマー又はコポリマー、酸化合物、溶剤及び樹脂組成物中の固形分の含有量に基づいて0質量%乃至35質量%の架橋剤を含有するカラーフィルター下層膜形成用樹脂組成物。【化1】(式中、R0は水素原子又はメチル基を表し、R1は置換基としてヒドロキシ基を少なくとも1つ有する炭素原子数1乃至6の炭化水素基を表し、前記炭素原子数1乃至6の炭化水素基はエーテル結合をさらに有してもよい。)【選択図】図1
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