公开(公告)号：JP2013158918A

公开(公告)日：2013-08-19

申请号：JP2012019920

申请日：2012-02-01

申请人： Ricoh Co Ltd ,  株式会社リコー

发明人： TAMAI TAKASHI ,  INOUE TOMOHIRO ,  GOTO HIROSHI ,  NANBA MICHIHIKO ,  GOTO AKIHIKO ,  NAGAI KIYOFUMI

IPC分类号： B41J2/165

CPC分类号： C11D7/3263 ,  B08B9/0321 ,  B41J2/17559 ,  B41J2/20 ,  B41J29/17 ,  C09D9/00 ,  C11D3/32 ,  Y10T137/0318

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning filling liquid that has: the function as a cleaning liquid capable of sufficiently cleaning a liquid flow path; and the function as a filling liquid preventing cleaning residues of ink used for print inspection from aggregating, and causing neither corrosion into a liquid flow path member nor problems in ink filling.SOLUTION: (1) There are provided an inkjet recording device and a cleaning filling liquid for a liquid flow path of ink cartridge used for the device, and the cleaning filling liquid contains: at least water; and 10.0 to 45.0 mass% of whole amount of the cleaning filling liquid of N,N-dimethyl-β-methoxypropionamide. (2) Further, there is provided the cleaning filling liquid (1) containing polyether modified silicone oil. (3) Furthermore, there is provided a cleaning, filling, and storing method for the inkjet recording device, filled with the cleaning filling liquid and storing the cleaning filling liquid after cleaning the liquid flow path by dipping with the cleaning filling liquid.

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种清洗填充液，其具有：能够充分清洁液体流路的清洗液的功能; 并且作为防止清洗用于印刷检查的墨水的残留物的填充液体的功能，并且不会对液体流道部件造成腐蚀，也不会造成墨水填充问题。（1）提供喷墨记录装置和清洁 填充用于装置的墨盒的液体流路的液体，并且清洁填充液体至少包含水; 和10.0〜45.0质量％的N，N-二甲基-α-甲氧基丙酰胺的清洗填充液的全部量。 （2）此外，提供含有聚醚改性硅油的清洗填充液（1）。 （3）此外，提供一种用于清洁填充液体的喷墨记录装置的清洁，填充和储存方法，并且通过与清洗填充液浸渍来清洁液体流动路径后将清洁填充液储存起来。

公开(公告)号：JP2013521401A

公开(公告)日：2013-06-10

申请号：JP2012557267

申请日：2011-03-11

申请人： ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー

发明人： スサナ、フェルナンデス、プリエト ,  ヨハン、スメッツ ,  ベアトリウ、エスクデル、ヒル ,  フアン、フェリペ、ミラベト、セラデス ,  ビンセント、ホセプ、ネボト、カルダ

IPC分类号： C11D3/32 ,  A61K8/44 ,  A61K8/46 ,  A61K8/66 ,  A61K8/73 ,  A61K8/81 ,  A61Q5/02 ,  A61Q9/02 ,  A61Q11/00 ,  A61Q19/10 ,  C09K3/00 ,  C11D1/06 ,  C11D1/14 ,  C11D1/22 ,  C11D1/28 ,  C11D1/29 ,  C11D1/83 ,  C11D3/386 ,  C11D3/39 ,  C11D3/395 ,  C11D11/00 ,  C11D17/04 ,  C11D17/08

CPC分类号： C11D3/32 ,  C07C237/22 ,  C07C271/22 ,  C07C271/34 ,  C07C2603/18 ,  C11D3/323 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3272

摘要： 本発明は、ジアミドゲル化剤と界面活性剤とを含む流体洗剤組成物、及びその組成物を構造化する方法を目的とする。

公开(公告)号：JP5068762B2

公开(公告)日：2012-11-07

申请号：JP2008540503

申请日：2006-11-14

申请人： ノバルティス アーゲー

发明人： ミニック，ケイシー・ジョン

IPC分类号： G02C13/00 ,  A01N47/44 ,  A01P3/00 ,  A61L2/18

CPC分类号： C11D3/32 ,  A61L12/141 ,  A61L12/142 ,  A61L12/147 ,  C11D1/008 ,  C11D1/66 ,  C11D3/0078 ,  C11D7/268 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3263 ,  C11D17/041

公开(公告)号：JP2011507271A

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：JP2010537991

申请日：2008-12-12

申请人： ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation

发明人： コン・シン−チャン ,  ズー・ジ ,  スリニバサン・サティシュ ,  ペン・グラント ,  ポドレスニク・ドラガン ,  ムイ・デビッド・エス．エル． ,  メンディラッタ・アージュン

IPC分类号： H01L21/304

CPC分类号： C11D7/5009 ,  C11D3/3723 ,  C11D3/3765 ,  C11D3/3773 ,  C11D7/261 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

摘要： The embodiments of the present invention provide improved materials for cleaning patterned substrates with fine features. The cleaning materials have advantages in cleaning patterned substrates with fine features without substantially damaging the features. The cleaning materials are fluid, either in liquid phase, or in liquid/gas phase, and deform around device features; therefore, the cleaning materials do not substantially damage the device features or reduce damage all together. The cleaning materials containing polymers of a polymeric compound with large molecular weight capture the contaminants on the substrate. In addition, the cleaning materials entrap the contaminants and do not return the contaminants to the substrate surface. The polymers of one or more polymeric compounds with large molecular weight form long polymer chains, which can also be cross-linked to form a network (or polymeric network). The long polymer chains and/or polymer network show superior capabilities of capturing and entrapping contaminants, in comparison to conventional cleaning materials.

公开(公告)号：JP4550838B2

公开(公告)日：2010-09-22

申请号：JP2006552706

申请日：2005-01-12

申请人： レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード

发明人： フィッシャー、マシュー・エル． ,  ミスラ、アシュトシュ

IPC分类号： H01L21/304 ,  C11D1/62 ,  C11D3/00 ,  C11D3/02 ,  C11D3/04 ,  C11D3/20 ,  C11D3/22 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/33 ,  C11D3/34 ,  C11D7/06 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D11/00 ,  C23G1/20

CPC分类号： C23G1/20 ,  C11D1/62 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/044 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/2072 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/2082 ,  C11D3/2086 ,  C11D3/221 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/33 ,  C11D3/3427 ,  C11D3/3472 ,  C11D3/3481 ,  C11D3/349 ,  C11D7/06 ,  C11D7/263 ,  C11D7/264 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3272 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  C11D11/0047 ,  H01L21/02074

公开(公告)号：JP4498424B2

公开(公告)日：2010-07-07

申请号：JP2008044411

申请日：2008-02-26

申请人： アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド

发明人： ウォジェトクザック，ウィリアム，エー． ,  グエン，ロング ,  セイホ，ファティマ，マ． ,  ベルナード，デビッド

IPC分类号： C11D7/10 ,  H01L21/304 ,  C09K13/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/60 ,  G03F7/42 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/321 ,  H01L21/3213

CPC分类号： H01L21/02071 ,  C09K13/08 ,  C11D7/265 ,  C11D7/266 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/3263 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/31138

公开(公告)号：JP2010138904A

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：JP2009278844

申请日：2009-12-08

申请人： Chevron Belgium Nv ,  シェブロン・ベルジャム・エヌ.ブイ.

发明人： MARTENS ARD ,  NANCEKIEVILL GRAHAM ,  DEJAEGHERE LUDO

IPC分类号： F02B39/16

CPC分类号： F02B39/16 ,  C11D7/247 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5027 ,  C11D11/0041 ,  F01D25/002 ,  F02B77/04 ,  F04D29/701

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method capable of cleaning sediment without consuming a cleaning liquid by an engine in a state of operating the engine, by removing the sediment of a turbocharger and supercharger compressor, without disassembling the compressor. SOLUTION: This method is provided for removing the sediment from at least one compressor driven by the engine. This method includes still installing the compressor in a compressor driving means used for the engine on the one hand by separating the high pressure downstream side of the compressor from an intercooler or from an intake manifold in a non-intercooler type engine in a state of stopping the engine. An output air flow from the compressor is deflected from the engine, and is turned to a processing unit or a means for separating the cleaning liquid from air. After starting the engine, the cleaning liquid is injected for a sufficient time for cleaning the compressor in a state of starting the engine. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种在不拆卸压缩机的情况下通过除去涡轮增压器和增压压缩机的沉积物而能够在发动机的运转状态下消耗发动机的清洗液而能够清洗沉积物的方法。 解决方案：该方法用于从由发动机驱动的至少一个压缩机中去除沉淀物。 该方法包括将压缩机安装在用于发动机的压缩机驱动装置中，一方面是通过将压缩机的高压下游侧与中间冷却器或在非中冷器型发动机中的进气歧管在停止状态下分离 引擎。 来自压缩机的输出空气流从发动机偏转，并转向处理单元或用于将清洗液与空气分离的装置。 起动发动机后，在启动发动机的状态下，将清洗液注入足够的时间来清洁压缩机。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4456330B2

公开(公告)日：2010-04-28

申请号：JP2002576566

申请日：2002-03-27

申请人： アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド

发明人： ウォジェトクザック，ウィリアム，エー． ,  グエン，ロング ,  セイホ，ファティマ，マ． ,  ベルナード，デビッド

IPC分类号： C11D7/10 ,  C09K13/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/60 ,  G03F7/42 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/311 ,  H01L21/321 ,  H01L21/3213

CPC分类号： H01L21/02071 ,  C09K13/08 ,  C11D7/265 ,  C11D7/266 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/3263 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02074 ,  H01L21/31138

公开(公告)号：JP2009102729A

公开(公告)日：2009-05-14

申请号：JP2008238167

申请日：2008-09-17

申请人： Air Products & Chemicals Inc ,  エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッドAir Products And Chemicals Incorporated

发明人： EGBE MATTHEW I ,  PETERS DARRYL W

IPC分类号： C23G5/036 ,  B08B3/08 ,  C09D9/00 ,  C11D1/14 ,  C11D1/22 ,  C11D3/34 ,  C11D3/43 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/50 ,  C11D7/60 ,  C11D11/00 ,  C23G5/02 ,  G03F7/42 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3213 ,  H05K3/26

CPC分类号： H01L21/02071 ,  B08B3/08 ,  C09D9/00 ,  C11D1/143 ,  C11D1/22 ,  C11D3/3409 ,  C11D3/3418 ,  C11D3/43 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5004 ,  C11D11/0047 ,  C23G5/02 ,  G03F7/426 ,  Y10S134/902

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide aqueous compositions used to remove post etch organic and inorganic residues as well polymeric residues and contaminants from semiconductor substrates.
SOLUTION: The compositions are comprised of a water soluble organic solvent, a sulfonic acid or its corresponding salt and water.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供用于从半导体衬底去除后蚀刻有机和无机残余物以及聚合物残留物和污染物的水性组合物。 组合物由水溶性有机溶剂，磺酸或其相应的盐和水组成。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4256258B2

公开(公告)日：2009-04-22

申请号：JP2003512357

申请日：2002-07-08

申请人： マリンクロッド・ベイカー・インコーポレイテッドMallinckrodt Baker, Inc.

发明人： チェン−ピン・シャーマン・シュ

IPC分类号： C11D3/26 ,  C11D3/00 ,  C11D3/02 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/33 ,  C11D3/42 ,  C11D3/43 ,  C11D7/08 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/50 ,  C11D11/00 ,  C23G1/18 ,  C23G1/20 ,  C23G5/036 ,  G03F7/42 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

CPC分类号： C11D7/261 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/042 ,  C11D3/2068 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D3/32 ,  C11D3/33 ,  C11D3/43 ,  C11D7/08 ,  C11D7/263 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3263 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/34 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022 ,  C11D11/0047 ,  C23G1/20 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426 ,  H01L21/02052