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公开(公告)号：JPWO2009142183A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2010513015
申请日：2009-05-18
Inventor： 宏和 榊原 , 宏和 榊原 , 岳彦 成岡 , 岳彦 成岡 , 誠 志水 , 誠 志水 , 西村 幸生 , 幸生 西村 , 信司 松村 , 信司 松村 , 裕介 浅野 , 裕介 浅野
CPC classification number: C07C69/96 , C08F220/18 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/26 , C09D133/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本発明の目的は、得られるパターン形状が良好であり、液浸露光時に液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、後退接触角が大きく、且つ現像欠陥が少ない感放射線性組成物を提供することである。本発明の感放射線性組成物は、下記一般式(1)で表される化合物に由来する繰り返し単位(1)を有するフッ素含有重合体と、溶剤とを含有する。(一般式(1)中、R1はメチル基等を示し、R2は、1−メチルエチレン基等を示し、R3は相互に独立に、炭素数1〜4のアルキル基等を示し、Xは、炭素数1〜20のフルオロアルキレン基を示す。)
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公开(公告)号：JPWO2011062168A1
公开(公告)日：2013-04-04
申请号：JP2011541929
申请日：2010-11-16
Inventor： 優子 切通 , 優子 切通 , 岳彦 成岡 , 岳彦 成岡 , 西村 幸生 , 幸生 西村 , 裕介 浅野 , 裕介 浅野 , 峰規 川上 , 峰規 川上 , 浩光 中島 , 浩光 中島
IPC: G03F7/039 , C08F220/22 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , C08L101/00
Abstract: 本発明は、良好なパターン形状を得ることができ、MEEF性能に優れ、ブリッジ等の欠陥を生じ難い感放射線性樹脂組成物、その感放射線性樹脂組成物に好適に用いられる重合体、及びその感放射線性樹脂組成物を用いるパターン形成方法を提供することを目的とし、[A]下記式(1−1)及び(1−2)でそれぞれ表される複数の構造単位からなる群より選択される少なくとも1種の構造単位(I)を有し、フッ素原子含有量が5質量%以上である重合体、[B]酸解離性基を有し、フッ素原子含有量が5質量%未満である重合体、及び[C]感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物である。
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公开(公告)号：JPWO2009142181A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2010513013
申请日：2009-05-18
Inventor： 信司 松村 , 信司 松村 , 征矢野 晃雅 , 晃雅 征矢野 , 裕介 浅野 , 裕介 浅野 , 岳彦 成岡 , 岳彦 成岡 , 宏和 榊原 , 宏和 榊原 , 誠 志水 , 誠 志水 , 西村 幸生 , 幸生 西村
IPC: G03F7/039 , C08F20/28 , H01L21/027
CPC classification number: C07C69/96 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C08F220/28 , C08F220/22
Abstract: 本発明の目的は、放射線に対する透明性が高く、感度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、最小倒壊寸法(倒れ)に優れており、且つ液浸露光プロセスにおけるパターン形状のバラツキが改善された液浸露光用感放射線性樹脂組成物、重合体及びレジストパターン形成方法を提供することである。本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、(A)樹脂成分と、(B)感放射線性酸発生剤と、(C)溶剤と、を含有するものであって、(A)樹脂成分は、該(A)樹脂成分を100質量%とした場合に、側鎖にフッ素原子と酸解離性基とを有する繰り返し単位(a1)を含有する酸解離性基含有樹脂(A1)を、50質量%を超えて含有する。
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公开(公告)号：JPWO2009044666A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：JP2009536024
申请日：2008-09-26
IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/38 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 下記一般式(1−1)で表される繰り返し単位(1)、下記一般式(1−2)で表される繰り返し単位(2)、及び酸解離性基を有する繰り返し単位(3)を含む重合体(A)と、感放射線性酸発生剤(B)と、を含有する感放射線性組成物である。
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公开(公告)号：JPWO2012133595A1
公开(公告)日：2014-07-28
申请号：JP2013507703
申请日：2012-03-28
Inventor： 浩光 中島 , 浩光 中島 , 木村 徹 , 徹 木村 , 裕介 浅野 , 裕介 浅野 , 雅史 堀 , 雅史 堀 , 木村 礼子 , 礼子 木村 , 一樹 笠原 , 一樹 笠原 , 拡 宮田 , 拡 宮田 , 吉田 昌史 , 昌史 吉田
IPC: G03F7/039 , C08F220/22 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0041 , C08F220/22 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F2220/283 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , H01L21/027 , H01L21/0274
Abstract: 本発明は、(1)感放射線性樹脂組成物を用い、基板上に表面自由エネルギーが30mN/m以上40mN/m以下のレジスト膜を形成する工程、(2)マスクを介した放射線照射により、上記レジスト膜を露光する工程、及び(3)上記露光されたレジスト膜を現像する工程を有するレジストパターン形成方法である。上記工程(2)における露光を、上記レジスト膜上に液浸露光液を配置し、この液浸露光液を介して行うことが好ましい。上記感放射線性樹脂組成物は、[A]フッ素原子含有重合体、及び[C]酸発生体を含有することが好ましい。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2011145703A1
公开(公告)日：2013-07-22
申请号：JP2012515933
申请日：2011-05-19
CPC classification number: G03F7/004 , C07C69/653 , C07C69/753 , C07D307/93 , C08F22/18 , C08F24/00 , C08F220/24 , C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことにより、レジスト被膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより、現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与え、さらに動的接触角の変化に要する時間を短縮できる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は[A]下記式(1)で表される基を含む構造単位(I)を有する含フッ素重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。
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公开(公告)号：JPWO2009142182A1
公开(公告)日：2011-09-29
申请号：JP2010513014
申请日：2009-05-18
Inventor： 岳彦 成岡 , 岳彦 成岡 , 一樹 笠原 , 一樹 笠原 , 大樹 中川 , 大樹 中川 , 宏和 榊原 , 宏和 榊原 , 誠 杉浦 , 誠 杉浦 , 下川 努 , 努 下川 , 誠 志水 , 誠 志水 , 西村 幸生 , 幸生 西村 , 信司 松村 , 信司 松村 , 裕介 浅野 , 裕介 浅野
IPC: G03F7/039 , C08F220/22 , C08F220/28 , G03F7/26 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC classification number: C07C69/96 , C08F220/24 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本発明の目的は、液浸露光時に接触する液浸露光用液体への溶出物の量が少なく、液浸露光用液体との後退接触角が大きく、現像欠陥が少なく、且つ微細なレジストパターンを高精度に形成することが可能なレジスト膜を形成し得る感放射線性樹脂組成物等を提供することである。本発明の感放射線性樹脂組成物は、液浸露光工程を含むレジストパターン形成方法において、レジスト膜を形成するために用いられる樹脂組成物であって、樹脂成分と、酸発生剤と、溶剤とを含有しており、この樹脂成分は、側鎖にフッ素原子と酸解離性基とを有する繰り返し単位(a1)を含有する樹脂(A1)を含み、且つ、前記樹脂組成物は、K1=F1/F2(式中、F1はレジスト膜の最表面付近におけるフッ素含有率を示し、F2はレジスト膜の最表面側から膜厚の20%付近におけるフッ素含有率を示す。)で定義されるK1の値が、1≦K1≦5を満たす。
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公开(公告)号：JPWO2009044667A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：JP2009536025
申请日：2008-09-26
IPC: G03F7/039 , C08F220/18 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0046 , G03F7/0397
Abstract: 本発明の感放射線性組成物は、下記一般式(a−1)で表される繰り返し単位(a−1)、下記一般式(a−2)で表される繰り返し単位(a−2)、及び酸解離性基を有する繰り返し単位(a−3)を含む重合体(A)と、感放射線性酸発生剤(B)とを含有するものであり、解像性能に優れるだけでなく、LWRが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れたレジスト膜を形成可能な感放射線性組成物である。(一般式(a−1)及び(a−2)中、R1はメチル基等を示し、R2は炭素数1〜12の直鎖状又は分岐状のアルキル基等を示し、R3は、ヒドロキシル基等を示す。)
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公开(公告)号：JPWO2011145702A1
公开(公告)日：2013-07-22
申请号：JP2012515932
申请日：2011-05-19
CPC classification number: G03F7/004 , C07C69/653 , C07C69/753 , C07D307/93 , C08F22/18 , C08F24/00 , C08F220/24 , C08F220/26 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/2041
Abstract: 本発明は、液浸露光プロセスにおいて、露光時には高い動的接触角を示すことによりレジスト被膜表面が優れた水切れ性を示し、現像時には動的接触角が大きく低下することにより現像欠陥の発生が抑制されるレジスト被膜を与え、さらに動的接触角の変化に要する時間を短縮できる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は[A]下記式(1)で表される構造単位(I)を有する重合体、及び[B]感放射線性酸発生体を含有する感放射線性樹脂組成物である。
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