氣密晶圓級封裝方法及由其方法所製成的氣密晶圓級封裝結構
    5.
    发明专利
    氣密晶圓級封裝方法及由其方法所製成的氣密晶圓級封裝結構 审中-公开
    气密晶圆级封装方法及由其方法所制成的气密晶圆级封装结构

    公开(公告)号:TW201532153A

    公开(公告)日:2015-08-16

    申请号:TW103104931

    申请日:2014-02-14

    IPC分类号: H01L21/58 H01L21/60

    摘要: 氣密晶圓級封裝方法包含:(a)於封蓋晶圓的第一表面形成數個環形墊及數個由各環形墊圍繞的接合墊,各接合墊內形成有一分別由一內環面所定義的凹槽;(b)於封蓋晶圓的第一表面側形成阻障層;(c)在阻障層上形成由非晶矽或非晶鍺所構成的第一接合層;(d)藉第一接合層與元件晶圓之第一表面上的圖案化第二接合層共晶接合,元件晶圓之第一表面具有一與部分圖案化第二接合層電連接的電子元件;(e)自相反於封蓋晶圓之第一表面的第二表面局部移除封蓋晶圓以定義出外表面並使各凹槽對應形成穿孔;及(f)於封蓋晶圓的外表面之各穿孔處覆蓋金屬導電層以電連接於圖案化第二接合層。

    简体摘要: 气密晶圆级封装方法包含:(a)于封盖晶圆的第一表面形成数个环形垫及数个由各环形垫围绕的接合垫,各接合垫内形成有一分别由一内环面所定义的凹槽;(b)于封盖晶圆的第一表面侧形成阻障层;(c)在阻障层上形成由非晶硅或非晶锗所构成的第一接合层;(d)藉第一接合层与组件晶圆之第一表面上的图案化第二接合层共晶接合,组件晶圆之第一表面具有一与部分图案化第二接合层电连接的电子组件;(e)自相反于封盖晶圆之第一表面的第二表面局部移除封盖晶圆以定义出外表面并使各凹槽对应形成穿孔;及(f)于封盖晶圆的外表面之各穿孔处覆盖金属导电层以电连接于图案化第二接合层。