公开(公告)号：US07245047B2

公开(公告)日：2007-07-17

申请号：US10834359

申请日：2004-04-29

申请人： Patricia Vreugdewater ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Patricia Vreugdewater ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： H02K41/00

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/70758 ,  H02K41/03 ,  H02K2201/18

摘要： A lithographic projection apparatus includes a conduit shuttle used to at least partly support conduits which provide utilities to moveable objects. The conduit shuttle has an actuator which is positionable with six degrees of freedom. The actuator comprises a 2-phase or 3-phase motor with one degree of freedom and a Lorentz actuator with five degrees of freedom.

摘要翻译： 平版印刷投影设备包括用于至少部分地支撑向可移动物体提供效用的导管的导管梭。 导管梭具有可以六自由度定位的致动器。 执行器包括具有一个自由度的2相或3相电动机和具有5个自由度的洛伦兹致动器。

公开(公告)号：US07088428B2

公开(公告)日：2006-08-08

申请号：US10797618

申请日：2004-03-11

申请人： Sven Antoin Johan Hol ,  Edwin Johan Buis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Patricia Vreugdewater

发明人： Sven Antoin Johan Hol ,  Edwin Johan Buis ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Patricia Vreugdewater

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/62 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70858 ,  G03F7/70758 ,  H02K9/22 ,  H02K41/0356

摘要： Lorentz actuators generate heat due to electrical dissipation in the field coils. As the field through the coils changes, eddy currents are induced in cooling elements leading to undesirable damping forces and heating. The present invention provides an improved design that reduces eddy currents by incorporating slits in the cooling element. Slits are preferably perpendicular to the induced electric field and parallel to each other, and reduce the magnitude of the eddy currents by forcing them to take paths of higher electrical resistance.

摘要翻译： 洛仑兹致动器由于场线圈中的电耗而产生热量。 当通过线圈的场变化时，在冷却元件中引起涡流，导致不期望的阻尼力和加热。 本发明提供了一种改进的设计，其通过在冷却元件中引入狭缝来减少涡流。 狭缝优选垂直于感应电场并且彼此平行，并且通过迫使它们采取更高电阻的路径来减小涡流的大小。

公开(公告)号：US06717296B2

公开(公告)日：2004-04-06

申请号：US10222975

申请日：2002-08-19

申请人： Sven Antoin Johan Hol ,  Jan Van Eijk ,  Angelo Oscar Peter De Klerk ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Sven Antoin Johan Hol ,  Jan Van Eijk ,  Angelo Oscar Peter De Klerk ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： H02K41035

CPC分类号： G03F7/70758 ,  H02K41/0356 ,  Y10S414/135

摘要： A Lorentz actuator provides a force between a first part and a second part of the apparatus, comprising a main magnet system, attached to a first part of the apparatus and providing a first magnetic field; a subsidiary magnet system, attached to the first part and arranged in a Halbach configuration, providing a second magnetic field; and an electrically conductive element attached to a second part of the apparatus and arranged so as to produce a force between the first and second parts of the apparatus by interaction of an electric current carried by the electrically conductive element and the combination of the first and second magnetic fields.

摘要翻译： 洛伦兹致动器在装置的第一部分和第二部分之间提供力，包括附接到装置的第一部分并提供第一磁场的主磁体系统; 辅助磁体系统，附接到第一部分并且以Halbach配置布置，提供第二磁场; 以及导电元件，其附接到所述设备的第二部分并且布置成通过所述导电元件承载的电流与所述第一和第二元件的组合相互作用而在所述设备的所述第一和第二部分之间产生力 磁场。

公开(公告)号：US06879377B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US10305266

申请日：2002-11-27

申请人： Hernes Jacobs ,  Piet Vosters ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  David William Callan

发明人： Hernes Jacobs ,  Piet Vosters ,  Sven Antoin Johan Hol ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  David William Callan

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03B27/42 ,  G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70991

摘要： A lithographic projection apparatus includes a conduit that supplies utilities to a movable component in a vacuum chamber such as an object table, associated motor or sensor. The conduit comprises flexible metal bellows preventing out-gassing of the conduit due to the vacuum in the vacuum chamber while allowing movement of the movable component in at least a first degree of freedom.

摘要翻译： 光刻投影装置包括向诸如对象台，相关联的电动机或传感器的真空室中的可移动部件供应电力的导管。 导管包括柔性金属波纹管，以防止由于真空室中的真空引起的导管的泄气，同时允许可移动部件以至少第一自由度的运动。

公开(公告)号：US06943464B2

公开(公告)日：2005-09-13

申请号：US10740576

申请日：2003-12-22

申请人： Sven Antoin Johan Hol ,  Jan Van Eijk ,  Angelo Cesar Peter De Klerk ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Sven Antoin Johan Hol ,  Jan Van Eijk ,  Angelo Cesar Peter De Klerk ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H02K41/03 ,  H02K41/035

CPC分类号： G03F7/70758 ,  H02K41/0356 ,  Y10S414/135

摘要： A Lorentz actuator provides a force between a first part and a second part of the apparatus, comprising a main magnet system, attached to a first part of the apparatus and providing a first magnetic field; a subsidiary magnet system, attached to the first part and arranged in a Halbach configuration, providing a second magnetic field; and an electrically conductive element attached to a second part of the apparatus and arranged so as to produce a force between the first and second parts of the apparatus by interaction of an electric current carried by the electrically conductive element and the combination of the first and second magnetic fields.

摘要翻译： 洛伦兹致动器在装置的第一部分和第二部分之间提供力，包括附接到装置的第一部分并提供第一磁场的主磁体系统; 辅助磁体系统，附接到第一部分并且以Halbach配置布置，提供第二磁场; 以及导电元件，其附接到所述设备的第二部分并且布置成通过所述导电元件承载的电流与所述第一和第二元件的组合相互作用而在所述设备的所述第一和第二部分之间产生力 磁场。

公开(公告)号：US07256866B2

公开(公告)日：2007-08-14

申请号：US10961391

申请日：2004-10-12

申请人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Hans Butler ,  Ronald Casper Kunst ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Youssef Karel Maria De Vos

发明人： Henrikus Herman Marie Cox ,  Hans Butler ,  Ronald Casper Kunst ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Youssef Karel Maria De Vos

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/62

CPC分类号： G03F7/70725

摘要： To enable high acceleration and high moving speed of a pattern support or a substrate table of a lithographic apparatus, one of the pattern support and the substrate table is supported by an actuator for relatively large displacements, whereas an actuator for accurately positioning is omitted. The other one of the pattern support and the substrate table is supported by an actuator assembly including an actuator for accurate positioning and an actuator for relatively large displacements. An alignment accuracy of a patterning device and a substrate is achieved by providing a control system that is adapted to position the other one of the pattern support and the substrate table such that a positioning error of the one of the pattern support and the substrate table is compensated by the positioning of the other one.

摘要翻译： 为了实现光刻设备的图形支撑件或基板台的高加速度和高移动速度，图案支撑件和基板台之一由用于较大位移的致动器支撑，而省略了用于精确定位的致动器。 图案支撑件和衬底台中的另一个由包括用于精确定位的致动器和用于相对较大位移的致动器的致动器组件支撑。 图案形成装置和基板的对准精度通过提供一种控制系统来实现，该控制系统适于将图案支撑件和基板台中的另一个定位成使得图案支撑件和基板台之一的定位误差为 通过另一个的定位来补偿。

公开(公告)号：US07492440B2

公开(公告)日：2009-02-17

申请号：US10936712

申请日：2004-09-09

申请人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal ,  Edwin Johan Buis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Noud Jan Gilissen ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Koen Jacobus Johannes Maria Zaal ,  Edwin Johan Buis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Noud Jan Gilissen ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： G02B27/52 ,  G02B27/42 ,  H02K41/00

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/709

摘要： A substrate or a patterning device used in a lithographic apparatus and a lithographic device manufacturing method are presented. The substrate and patterning device are aligned with respect to a patterning beam and are movably supported by a support. Resonances in said support, however, may render the manufactured device unusable and/ or may render the control system complex. Therefore an actuator assembly frame with flexible coupling devices coupled to the support is provided with a number of actuators configured to move the support in a number of degrees of freedom. Thus, the resonances are damped by the flexible coupling devices resulting in a larger bandwidth for the control system and thus enabling a better position accuracy of the support.

摘要翻译： 在光刻设备中使用的基板或图案形成装置以及光刻装置的制造方法。 衬底和图案形成装置相对于图案化束对准并且由支撑件可移动地支撑。 然而，所述支撑件中的共振可能使制造的装置不可用和/或可能使控制系统复杂化。 因此，具有耦合到支撑件的柔性耦合装置的致动器组件框架设置有多个致动器，其构造成以多个自由度移动支撑件。 因此，谐振被柔性耦合装置阻尼，导致用于控制系统的较大带宽，从而使得支撑件具有更好的位置精度。

公开(公告)号：US07483120B2

公开(公告)日：2009-01-27

申请号：US11430196

申请日：2006-05-09

申请人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

发明人： Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03B27/53 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70775

摘要： A displacement measurement system, in particular for measuring the displacement of a substrate table in a lithographic apparatus relative to a reference frame is presented. The displacement measure system includes a plurality of displacement sensors mounted to the substrate table and a target associated with each displacement sensor mounted to the reference frame.

摘要翻译： 提出了一种位移测量系统，特别是用于测量光刻设备中的衬底台相对于参考系的位移。 位移测量系统包括安装到衬底台的多个位移传感器和与安装到参考框架的每个位移传感器相关联的目标。

公开(公告)号：US20080174750A1

公开(公告)日：2008-07-24

申请号：US12068071

申请日：2008-02-01

申请人： Michel Pieter Dansberg ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig-Schmidt ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Rob Jansen

发明人： Michel Pieter Dansberg ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig-Schmidt ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Rob Jansen

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7095

摘要： An apparatus is configured to position a workpiece. The apparatus includes a planar base, and a movable stage configured to support the workpiece. The stage is configured to be moved over the planar base. The apparatus also includes an actuator configured to move the stage, a contactless position measurer configured to measure a position of the stage, and a first pump configured to generate a conditioned gas flow in a volume between the measurer and the stage. The base includes a plurality of gas channels provided in the base that provide a path of the conditioned gas flow through the base.

摘要翻译： 一种装置构造成定位工件。 该装置包括平面基座和被配置为支撑工件的可移动台。 该台被配置成在平面底座上移动。 该装置还包括构造成移动台的致动器，被配置为测量台的位置的非接触位置测量器以及被配置为在测量器和台之间的体积中产生经调节的气流的第一泵。 底座包括设置在基座中的多个气体通道，其提供调节气体流经基座的路径。

公开(公告)号：US07359032B2

公开(公告)日：2008-04-15

申请号：US10925148

申请日：2004-08-25

申请人： Michel Pieter Dansberg ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Rob Jansen

发明人： Michel Pieter Dansberg ,  Sebastiaan Maria Johannes Cornelissen ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Robert Johannes Petrus Van Diesen ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Rob Jansen

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/62 ,  H02K41/00

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/7095

摘要： A lithographic projection apparatus is disclosed. The apparatus includes a radiation system for providing a beam of radiation, a first support structure for supporting a patterning device, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system. At least one of the first and second support structures includes a planar base, a movable stage that can be moved over the planar base, and an actuator for moving the stage. The apparatus also includes a contactless position measuring device for measuring a position of the stage, and a first pump for generating a conditioned gas flow in a volume between the measuring device and the stage. The base includes a plurality of gas channels that provide a path for the conditioned gas to flow through the base.

摘要翻译： 公开了一种光刻投影装置。 该装置包括用于提供辐射束的辐射系统，用于支撑图案形成装置的第一支撑结构，用于支撑衬底的第二支撑结构和投影系统。 第一和第二支撑结构中的至少一个包括平面基座，可在平面基座上移动的可移动平台以及用于移动平台的致动器。 该装置还包括用于测量载物台的位置的非接触位置测量装置和用于在测量装置和载物台之间产生体积的调节气流的第一泵。 底座包括多个气体通道，其提供用于经调节的气体流过基座的路径。