Method for manufacturing an oxide superconducting thin-film
    1.
    发明授权
    Method for manufacturing an oxide superconducting thin-film 失效
    氧化物超导薄膜的制造方法

    公开(公告)号:US5126320A

    公开(公告)日:1992-06-30

    申请号:US722410

    申请日:1991-06-26

    IPC分类号: C23C14/08 H01L39/24

    摘要: A method is disclosed which comprises setting a substrate within a mixed gas atmosphere containing 0.1 to 5% of oxygen gas and a balance as an inert gas, and sputtering a target member containing Ln, M, Cu and O within that atmosphere to obtain an oxygen-deficient perovskite type oxide superconducting thin-film of substantially Ln:M:Cu:O=1:2:3:(7-.delta.), where Ln represents at least one element selected from the rare earth elements and M represents at least one element selected from the group consisting of Ba, Sr, and Ca. The oxide superconducting thin-film of that composition ratio has a critical temperature of over 77K.

    摘要翻译: 公开了一种方法,其包括在含有0.1〜5%的氧气和余量的混合气体气氛中设置基板作为惰性气体,并在该气氛中溅射含有Ln,M,Cu和O的靶材以获得氧 基本上Ln:M:Cu:O = 1:2:3:(7-δ)的缺陷型钙钛矿型氧化物超导薄膜,其中Ln表示选自稀土元素中的至少一种元素,M表示至少一种 元素选自Ba,Sr和Ca。 该组成比的氧化物超导薄膜的临界温度超过77K。

    Magnetoresistance effect device
    9.
    发明授权
    Magnetoresistance effect device 失效
    磁阻效应器

    公开(公告)号:US06730949B2

    公开(公告)日:2004-05-04

    申请号:US10102944

    申请日:2002-03-22

    IPC分类号: H01L2972

    摘要: A magnetoresistance effect devices having a magnetization free layer free to rotate in an applied magnetic field. The magnetization free layer may include first and second ferromagnetic material layers with a nonmagnetic material layer disposed between the two ferromagnetic material layers. Those ferromagnetic materials are antiferromagnetically coupled with each other at a magnetic coupling field J (−3 [kOe]≦J

    摘要翻译: 具有在施加的磁场中自由旋转的无磁化层的磁阻效应器件。 无磁化层可以包括第一和第二铁磁材料层,其中非磁性材料层设置在两个铁磁材料层之间。 这些铁磁材料在磁耦合场J(-3 [kOe] = J <0 [kOe])处相互反铁磁耦合或者铁磁耦合。 或者,无磁化膜包括第一铁磁材料层,第一铁磁材料层包括具有第一磁化的中心区域和具有与第一磁化强度不同的第二磁化强度的边缘区域和第二铁磁材料层,第二铁磁材料层包括具有与第一磁化平行的第三磁化强度的中心区域 磁化和边缘区具有不同于第三磁化的第四磁化。 在另一个实施例中,在第一铁磁材料层和第一非磁性材料耦合层之间的界面处的粗糙度或第一第二铁磁材料层与第一非磁性材料耦合层之间的界面的粗糙度大于2埃。 此外,无磁化层可以由铁磁材料部分铁磁材料部分形成,或者是非磁性材料层和具有不均匀膜厚度的第一铁磁材料层。