公开(公告)号：US07772778B2

公开(公告)日：2010-08-10

申请号：US11691689

申请日：2007-03-27

申请人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki

发明人： Ryohei Satoh ,  Yoshinori Iwata ,  Koji Nakagawa ,  Kenji Tanaka ,  Satoru Takaki

IPC分类号： H01J17/49

CPC分类号： H01J9/02 ,  H01J11/12 ,  H01J11/22 ,  H01J11/44 ,  H01J2211/444

摘要： To provide a method for forming electrodes and/or black stripes for a plasma display substrate, wherein display electrodes, bus electrodes and optionally black stripes for a plasma display panel are formed of the same material by the same dry step, whereby a clear image having reflection prevented, can be displayed on a PDP display device with a low load on the environment, at low costs, with low resistance, without erosion by a dielectric.A method for forming electrodes and/or black stripes for a plasma display substrate, which comprises applying a laser beam to a mask layer formed on a transparent substrate to form openings at areas corresponding to the respective patterns of display electrodes, bus electrodes and optionally black stripes, then continuously forming an antireflection layer to provide an antireflection effect over the entire surface and an electrode layer, and applying again a laser beam to peel off the mask layer and at the same time to remove an unnecessary thin film layer.

摘要翻译： 为了提供用于等离子体显示基板形成电极和/或黑色条纹的方法，其中显示电极，总线电极和用于等离子体显示面板的任选的黑色条纹由相同的干燥步骤由相同的材料形成，由此具有 防止反射，可以低成本地以低电阻显示在环境中的低负载的PDP显示装置上，而不会被电介质侵蚀。 一种用于形成等离子体显示基板的电极和/或黑色条纹的方法，包括将激光束施加到形成在透明基板上的掩模层，以在对应于显示电极，总线电极和任选黑色的各个图案的区域处形成开口 然后连续地形成抗反射层以在整个表面和电极层上提供抗反射效果，并再次施加激光束以剥离掩模层，同时去除不需要的薄膜层。

公开(公告)号：US06465117B2

公开(公告)日：2002-10-15

申请号：US09783547

申请日：2001-02-15

申请人： Satoru Takaki ,  Kazuo Sato ,  Masami Miyazaki ,  Yuki Kawamura ,  Hiromichi Nishimura

发明人： Satoru Takaki ,  Kazuo Sato ,  Masami Miyazaki ,  Yuki Kawamura ,  Hiromichi Nishimura

IPC分类号： B32B900

CPC分类号： C23F1/30 ,  C23C14/086 ,  G02F1/13439 ,  H01J2211/225

摘要： A transparent conductive film having a transparent oxide layer and a metal layer containing Ag, laminated in this order from a substrate side in a total of (2n+1) layers), wherein n is an integer of at least 1, wherein the transparent oxide layer contains ZnO and further contains In within a range of from 9 to 98 atomic % based on the sum of Zn and In, and a process for forming a transparent electrode.

摘要翻译： 一种透明导电膜，其具有透明氧化物层和含有Ag的金属层，从总共（2n + 1）层的基板侧依次层叠，其中n为至少为1的整数，其中透明氧化物 层含有ZnO，并且还包含In的范围为9〜98原子％，基于Zn和In的总和，以及形成透明电极的工序。

公开(公告)号：US06221520B1

公开(公告)日：2001-04-24

申请号：US09237368

申请日：1999-01-26

申请人： Satoru Takaki ,  Kazuo Sato ,  Masami Miyazaki ,  Yuki Kawamura ,  Hiromichi Nishimura

发明人： Satoru Takaki ,  Kazuo Sato ,  Masami Miyazaki ,  Yuki Kawamura ,  Hiromichi Nishimura

IPC分类号： B32B900

CPC分类号： C23F1/30 ,  C23C14/086 ,  G02F1/13439 ,  H01J2211/225

摘要： A transparent conductive film having a transparent oxide layer and a metal layer containing Ag, laminated in this order from a substrate side in a total of (2n+l) layers), wherein n is an integer of at least 1, wherein the transparent oxide layer contains ZnO and further contains In within a range of from 9 to 98 atomic % based on the sum of Zn and In, and a process for forming a transparent electrode.

摘要翻译： 一种透明导电膜，其具有透明氧化物层和含有Ag的金属层，从总共（2n + 1）层的基板侧依次层叠，其中n为至少为1的整数，其中透明氧化物 层含有ZnO，并且还包含In的范围为9〜98原子％，基于Zn和In的总和，以及形成透明电极的工序。

公开(公告)号：US08425711B2

公开(公告)日：2013-04-23

申请号：US12551684

申请日：2009-09-01

申请人： Toshihiko Higuchi ,  Satoru Takaki

发明人： Toshihiko Higuchi ,  Satoru Takaki

IPC分类号： B32B38/10

CPC分类号： B32B7/06 ,  B32B17/064 ,  B32B27/06 ,  B32B27/26 ,  B32B27/283 ,  B32B27/308 ,  B32B27/32 ,  B32B27/40 ,  B32B2307/584 ,  B32B2307/714 ,  B32B2307/748 ,  B32B2369/00 ,  B32B2457/20 ,  G02F1/1333 ,  G02F2201/50 ,  H01L51/0096 ,  H01L51/52 ,  Y10T428/14 ,  Y10T428/1471 ,  Y10T428/1476 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/28 ,  Y10T428/31601 ,  Y10T428/31612

摘要： To provide a glass substrate with protective glass which suppresses formation of microscopic scratches on the back surface of the glass substrate in the production process for a display device, and which prevents a strength decrease in the process or formation of etch pits after a chemical etching treatment; a process for producing a display device by using the glass substrate with protective glass; and a double-sided removable resin sheet for the glass substrate with protective glass.A glass substrate with protective glass, which comprises a glass substrate and a protective glass plate laminated on each other, and which is characterized in that the glass substrate and the protective glass plate are laminated by a double-sided removal resin sheet.

摘要翻译： 为了提供具有保护玻璃的玻璃基板，其在显示装置的制造过程中抑制玻璃基板的背面上的微观划痕的形成，并且在化学蚀刻处理之后防止了工艺中的强度降低或蚀刻坑的形成 ; 通过使用具有保护玻璃的玻璃基板来制造显示装置的方法; 以及用于具有保护玻璃的玻璃基板的双面可移除树脂片。 具有保护玻璃的玻璃基板，其包括彼此层叠的玻璃基板和保护玻璃板，其特征在于，所述玻璃基板和所述保护用玻璃板通过双面去除树脂片层压。

公开(公告)号：US20110053059A1

公开(公告)日：2011-03-03

申请号：US12941491

申请日：2010-11-08

申请人： Shinya Kikugawa ,  Akira Takada ,  Satoru Takaki ,  Yosuke Sato ,  Yasuhiko Akao

发明人： Shinya Kikugawa ,  Akira Takada ,  Satoru Takaki ,  Yosuke Sato ,  Yasuhiko Akao

IPC分类号： G03F1/00

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03C17/09 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2217/26 ,  C03C2218/154 ,  G03F1/60

摘要： The present invention provides a mask blank which comprises a substrate made of a synthetic quartz glass and a light-shielding film laminated on a surface of the substrate and is for use in a semiconductor device production technique employing an exposure light wavelength of 200 nm or shorter, wherein the mask blank has a birefringence, as measured at a wavelength of 193 nm, of 1 nm or less per substrate thickness. According to the present invention, mask blanks suitable for use in the immersion exposure technique and the polarized illumination technique are provided.

摘要翻译： 本发明提供一种掩模板，其包括由合成石英玻璃制成的基板和层叠在基板的表面上的遮光膜，并且用于使用200nm或更短的曝光光波长的半导体器件制造技术 其中掩模坯料在193nm波长下测得的每个基片厚度为1nm或更小的双折射。 根据本发明，提供适用于浸渍曝光技术和偏振照明技术的掩模坯料。

公开(公告)号：US20100014314A1

公开(公告)日：2010-01-21

申请号：US12503877

申请日：2009-07-16

申请人： Hisao Inokuma ,  Satoru Takaki

发明人： Hisao Inokuma ,  Satoru Takaki

IPC分类号： F21V7/04 ,  C08L67/00 ,  B05D5/06

CPC分类号： G02B5/0278 ,  G02B5/0242 ,  G02B5/0268 ,  G02F1/133606 ,  G02F2201/086

摘要： A conventional light diffusion plate provided in a direct type backlight unit to be employed for e.g. a liquid crystal display, has problems in that it does not have a sufficient diffusion performance, it is difficult to increase the size, and it is difficult to produce such a light diffusion plate at low cost.A light diffusion plate comprising a glass substrate and a light diffusion layer formed on the glass substrate, wherein the light diffusion layer comprises a matrix and a light diffusion agent, the absolute value Δn of the refractive index difference between the matrix and the light diffusion agent is 0.05 or more and less than 0.5, and the volume ratio of the light diffusion agent in the light diffusion layer is 30% or more.

摘要翻译： 设置在直接型背光单元中的常规光漫射板用于例如。 液晶显示器的问题在于其不具有足够的扩散性能，难以增加尺寸，并且难以以低成本制造这种光扩散板。 1.一种光漫射板，包括玻璃基板和形成在所述玻璃基板上的光扩散层，其中所述光扩散层包括基体和光扩散剂，所述基体和所述光扩散剂之间的折射率差的绝对值Deltan 为0.05以上且小于0.5，光扩散层中的光扩散剂的体积比为30％以上。

公开(公告)号：US20060251973A1

公开(公告)日：2006-11-09

申请号：US11401863

申请日：2006-04-12

申请人： Satoru Takaki ,  Kazuyuki Hayashi

发明人： Satoru Takaki ,  Kazuyuki Hayashi

IPC分类号： G21K5/00 ,  B32B9/00 ,  B32B17/06 ,  G03F1/00

CPC分类号： C03C17/36 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  C03C17/3615 ,  C03C17/3639 ,  C03C17/3649 ,  C03C17/3665 ,  C03C2217/734 ,  C03C2218/156 ,  C03C2218/33 ,  C23C14/46 ,  G03F1/22 ,  G03F1/24 ,  G03F1/54 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

摘要： A reflective-type mask blank for EUV lithography for reducing the EUV ray reflectance at the absorbing layer and a method for producing the mask blank are presented. A reflective-type mask blank for EUV lithography comprising a substrate and a reflective layer for reflecting EUV light and an absorbing layer for absorbing EUV light, which are formed on the substrate in this order, the reflective-type mask blank for EUV lithography being characterized in that the absorbing layer is a Cr layer of low EUV ray reflectance deposited by an ion beam sputtering method.

摘要翻译： 本发明提供了一种EUV光刻用于减少吸收层上的EUV射线反射率的反射型掩模坯料及其制造方法。 EUV光刻用的反射型掩模板包括用于反射EUV光的基板和用于反射EUV光的反射层和用于吸收EUV光的吸收层，其依次形成在基板上，用于EUV光刻的反射型掩模板被表征 因为吸收层是通过离子束溅射法沉积的低EUV射线反射率的Cr层。

公开(公告)号：US06829084B2

公开(公告)日：2004-12-07

申请号：US10456688

申请日：2003-06-09

申请人： Satoru Takaki ,  Kaname Okada ,  Shinya Kikugawa

发明人： Satoru Takaki ,  Kaname Okada ,  Shinya Kikugawa

IPC分类号： G02B508

CPC分类号： G03F1/62 ,  G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G03F1/46 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983

摘要： An antireflection substrate comprising a substrate which is transparent to ultraviolet and vacuum ultraviolet rays in the wavelength region from 155 nm to 200 nm and a mono-, bi- or tri-layer antireflection film formed on at least one side of the substrate, wherein the refractive index and the physical thickness of the antireflection film at the center wavelength &lgr;0 of the wavelength region of ultraviolet or vacuum ultraviolet light which needs antireflection satisfy particular conditions, and an optical component for a semiconductor manufacturing apparatus and a substrate for a low-reflection pellicle which is the ultraviolet and vacuum ultraviolet antireflection substrate.

摘要翻译： 一种防反射基板，包括在155nm至200nm的波长范围内对紫外线和真空紫外线透明的基板和形成在基板的至少一侧上的单层，双层或三层抗反射膜，其中， 需要抗反射的紫外线或真空紫外线的波长区域的中心波长λ0处的防反射膜的折射率和物理厚度满足特定条件，以及用于半导体制造装置的光学部件和低反射防护薄膜的基板 这是紫外线和真空紫外线防反射基板。

公开(公告)号：US06628456B2

公开(公告)日：2003-09-30

申请号：US10138558

申请日：2002-05-06

申请人： Satoru Takaki ,  Kaname Okada ,  Shinya Kikugawa

发明人： Satoru Takaki ,  Kaname Okada ,  Shinya Kikugawa

IPC分类号： G02B508

CPC分类号： G03F1/62 ,  G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G03F1/46 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983

摘要： An antireflection substrate comprising a substrate which is transparent to ultraviolet and vacuum ultraviolet rays in the wavelength region from 155 nm to 200 nm and a mono-, bi- or tri-layer antireflection film formed on at least one side of the substrate, wherein the refractive index and the physical thickness of the antireflection film at the center wavelength &lgr;0 of the wavelength region of ultraviolet or vacuum ultraviolet light which needs antireflection satisfy particular conditions, and an optical component for a semiconductor manufacturing apparatus and a substrate for a low-reflection pellicle which is the ultraviolet and vacuum ultraviolet antireflection substrate

公开(公告)号：US08323856B2

公开(公告)日：2012-12-04

申请号：US12941491

申请日：2010-11-08

申请人： Shinya Kikugawa ,  Akira Takada ,  Satoru Takaki ,  Yosuke Sato ,  Yasuhiko Akao

发明人： Shinya Kikugawa ,  Akira Takada ,  Satoru Takaki ,  Yosuke Sato ,  Yasuhiko Akao

IPC分类号： G03F1/22

CPC分类号： C03C3/06 ,  C03C17/09 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/23 ,  C03C2217/26 ,  C03C2218/154 ,  G03F1/60

摘要： The present invention provides a mask blank which comprises a substrate made of a synthetic quartz glass and a light-shielding film laminated on a surface of the substrate and is for use in a semiconductor device production technique employing an exposure light wavelength of 200 nm or shorter, wherein the mask blank has a birefringence, as measured at a wavelength of 193 nm, of 1 nm or less per substrate thickness. According to the present invention, mask blanks suitable for use in the immersion exposure technique and the polarized illumination technique are provided.

摘要翻译： 本发明提供一种掩模板，其包括由合成石英玻璃制成的基板和层叠在基板的表面上的遮光膜，并且用于使用200nm或更短的曝光光波长的半导体器件制造技术 其中掩模坯料在193nm波长下测得的每个基片厚度为1nm或更小的双折射。 根据本发明，提供适用于浸渍曝光技术和偏振照明技术的掩模坯料。