公开(公告)号：US20090155715A1

公开(公告)日：2009-06-18

申请号：US12356187

申请日：2009-01-20

申请人： Kuang-Jung Chen ,  Wu-Song Huang ,  Wai-Kin Li ,  Pushkara Rao Varanasi ,  Sen Liu

发明人： Kuang-Jung Chen ,  Wu-Song Huang ,  Wai-Kin Li ,  Pushkara Rao Varanasi ,  Sen Liu

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/40

摘要： A method and a resist composition. The resist composition includes a polymer having repeating units having a lactone moiety, a thermal base generator capable of generating a base and a photosensitive acid generator. The polymer has the properties of being substantially soluble in a first solvent and becoming substantially insoluble after heating the polymer. The method includes forming a film of a photoresist including a polymer, a thermal base generator capable of releasing a base, a photosensitive acid generator, and a solvent. The film is patternwise imaged. The imaging includes exposing the film to radiation, resulting in producing an acid catalyst. The film is developed in an aqueous base, resulting in removing base-soluble regions and forming a patterned layer. The patterned layer is baked above the temperature, resulting in the thermal base generator releasing a base within the patterned layer and the patterned layer becoming insoluble in the solvent.

摘要翻译： 一种方法和抗蚀剂组合物。 抗蚀剂组合物包括具有内酯部分的重复单元的聚合物，能够产生碱的热碱发生剂和感光酸产生剂。 聚合物具有基本上可溶于第一溶剂的性质，并且在加热聚合物之后变得基本上不溶。 该方法包括形成包含聚合物的光致抗蚀剂膜，能够释放碱的热碱发生器，光敏酸产生剂和溶剂。 该影片被图案化成像。 成像包括将膜暴露于辐射，导致产生酸催化剂。 该膜在水性碱中显影，导致去除碱溶性区域并形成图案层。 图案化层被烘烤高于该温度，导致热基发生器释放图案化层内的基底并且图案化层变得不溶于溶剂。

公开(公告)号：US20100209853A1

公开(公告)日：2010-08-19

申请号：US12371956

申请日：2009-02-17

申请人： Kuang-Jung Chen ,  Wai-Kin Li

发明人： Kuang-Jung Chen ,  Wai-Kin Li

IPC分类号： G03F7/26

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0035

摘要： A method forms a first patterned mask (comprising rectangular features and/or rounded openings) on a planar surface and forms a second patterned mask on the first patterned mask and the planar surface. The second patterned mask covers protected portions of the first patterned mask and the second patterned mask reveals exposed portions of the first patterned mask. The method treats the exposed portions of the first patterned mask with a chemical treatment that reduces the size of the exposed portions to create an altered first patterned mask.

摘要翻译： 一种方法在平坦表面上形成第一图案化掩模（包括矩形特征和/或圆形开口）并且在第一图案化掩模和平面表面上形成第二图案化掩模。 第二图案化掩模覆盖第一图案化掩模的受保护部分，并且第二图案化掩模揭示第一图案化掩模的暴露部分。 该方法通过减少暴露部分的尺寸以产生改变的第一图案化掩模的化学处理来处理第一图案化掩模的暴露部分。

公开(公告)号：US08163466B2

公开(公告)日：2012-04-24

申请号：US12371956

申请日：2009-02-17

申请人： Kuang-Jung Chen ,  Wai-Kin Li

发明人： Kuang-Jung Chen ,  Wai-Kin Li

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

CPC分类号： G03F7/40 ,  G03F7/0035

摘要： A method forms a first patterned mask (comprising rectangular features and/or rounded openings) on a planar surface and forms a second patterned mask on the first patterned mask and the planar surface. The second patterned mask covers protected portions of the first patterned mask and the second patterned mask reveals exposed portions of the first patterned mask. The method treats the exposed portions of the first patterned mask with a chemical treatment that reduces the size of the exposed portions to create an altered first patterned mask.

摘要翻译： 一种方法在平坦表面上形成第一图案化掩模（包括矩形特征和/或圆形开口）并且在第一图案化掩模和平面表面上形成第二图案化掩模。 第二图案化掩模覆盖第一图案化掩模的受保护部分，并且第二图案化掩模揭示第一图案化掩模的暴露部分。 该方法通过减少暴露部分的尺寸以产生改变的第一图案化掩模的化学处理来处理第一图案化掩模的暴露部分。

公开(公告)号：US20090001045A1

公开(公告)日：2009-01-01

申请号：US11769126

申请日：2007-06-27

申请人： Kuang-Jung Chen ,  Wai-Kin Li ,  Haining S. Yang

发明人： Kuang-Jung Chen ,  Wai-Kin Li ,  Haining S. Yang

IPC分类号： H01B13/00

CPC分类号： B81C1/00031 ,  B81B2203/0315 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/7682 ,  H01L2221/1047

摘要： Methods of patterning a self-assembly nano-structure and forming a porous dielectric are disclosed. In one aspect, the method includes providing a hardmask over an underlying layer; predefining an area with a photoresist on the hardmask that is to be protected during the patterning; forming a layer of the copolymer over the hardmask and the photoresist; forming the self-assembly nano-structure from the copolymer; and etching to pattern the self-assembly nano-structure.

摘要翻译： 公开了自组装纳米结构图案化和形成多孔电介质的方法。 一方面，该方法包括在下层上提供硬掩模; 在图案化期间预定义在要被保护的硬掩模上的光致抗蚀剂的区域; 在硬掩模和光致抗蚀剂上形成共聚物层; 从共聚物形成自组装纳米结构; 并蚀刻以形成自组装纳米结构。

公开(公告)号：US08395228B2

公开(公告)日：2013-03-12

申请号：US12941375

申请日：2010-11-08

申请人： Wai-Kin Li ,  Wu-Song Huang ,  Dario Leonardo Goldfarb ,  Martin Glodde ,  Edward Engbrecht ,  Yiheng Xu

发明人： Wai-Kin Li ,  Wu-Song Huang ,  Dario Leonardo Goldfarb ,  Martin Glodde ,  Edward Engbrecht ,  Yiheng Xu

IPC分类号： H01L21/02

CPC分类号： H01L21/0332 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F9/7026

摘要： A method of improving the focus leveling response of a semiconductor wafer is described. The method includes combining organic and inorganic or metallic near infrared (NIR) hardmask on a semiconductor substrate; forming an anti-reflective coating (ARC) layer on the combined organic NIR-absorption and the inorganic or metallic NIR-absorption hardmask; and forming a photoresist layer on the ARC layer. A semiconductor structure is also described including a substrate, a resist layer located over the structure; and an absorptive layer located over the substrate. The absorptive layer includes an inorganic or metallic NIR-absorbing hardmask layer.

摘要翻译： 描述了改善半导体晶片的聚焦调平响应的方法。 该方法包括在半导体衬底上组合有机和无机或金属近红外（NIR）硬掩模; 在组合的有机NIR吸收和无机或金属NIR吸收硬掩模上形成抗反射涂层（ARC）层; 以及在所述ARC层上形成光致抗蚀剂层。 还描述了半导体结构，其包括基板，位于结构上方的抗蚀剂层; 以及位于衬底上方的吸收层。 吸收层包括无机或金属NIR吸收硬掩模层。

公开(公告)号：US20110262863A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US13091290

申请日：2011-04-21

申请人： Seiichiro TACHIBANA ,  Masaki Ohashi ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

发明人： Seiichiro TACHIBANA ,  Masaki Ohashi ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

IPC分类号： G03F7/004 ,  F21V9/04

CPC分类号： G03F7/091

摘要： A near-infrared absorptive layer is formed from a composition comprising (A) an acenaphthylene polymer, (B) a near-infrared absorbing dye, and (C) a solvent. When a multilayer film comprising the near-infrared absorptive layer and a photoresist layer is used in optical lithography, the detection accuracy of optical auto-focusing is improved, allowing the optical lithography to produce a definite projection image with an improved contrast and succeeding in forming a better photoresist pattern.

摘要翻译： 由（A）苊烯聚合物，（B）近红外吸收染料和（C）溶剂组成的组合物形成近红外吸收层。 当在光学光刻中使用包含近红外吸收层和光致抗蚀剂层的多层膜时，光学自动聚焦的检测精度得到改善，允许光学光刻产生具有改善的对比度并成功地形成的确定的投影图像 更好的光刻胶图案。

公开(公告)号：US20110042771A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12542970

申请日：2009-08-18

申请人： Wu-Song Huang ,  Martin Glodde ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Sen Liu ,  Libor Vyklicky

发明人： Wu-Song Huang ,  Martin Glodde ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Sen Liu ,  Libor Vyklicky

IPC分类号： H01L31/0216 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0388 ,  G03F7/038 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  H01L51/447

摘要： A curable liquid formulation comprising: (i) one or more near-infrared absorbing polymethine dyes; (ii) one or more crosslinkable polymers; and (iii) one or more casting solvents. The invention is also directed to solid near-infrared absorbing films composed of crosslinked forms of the curable liquid formulation. The invention is also directed to a microelectronic substrate containing a coating of the solid near-infrared absorbing film as well as a method for patterning a photoresist layer coated on a microelectronic substrate in the case where the near-infrared absorbing film is between the microelectronic substrate and a photoresist film.

摘要翻译： 一种可固化液体制剂，其包含：（i）一种或多种近红外吸收聚甲炔染料; （ii）一种或多种可交联聚合物; 和（iii）一种或多种浇铸溶剂。 本发明还涉及由可固化液体制剂的交联形式组成的固体近红外吸收膜。 本发明还涉及一种含有固体近红外线吸收膜的涂层的微电子衬底，以及在近红外吸收膜位于微电子衬底之间的情况下，用于图案化涂覆在微电子衬底上的光刻胶层的方法 和光刻胶膜。

公开(公告)号：US20130001484A1

公开(公告)日：2013-01-03

申请号：US13608409

申请日：2012-09-10

申请人： Martin Glodde ,  Dario L. Goldfarb ,  Wu-Song Huang ,  Wai-Kin Li ,  Sen Liu ,  Pushkara R. Varanasi ,  Libor Vyklicky

发明人： Martin Glodde ,  Dario L. Goldfarb ,  Wu-Song Huang ,  Wai-Kin Li ,  Sen Liu ,  Pushkara R. Varanasi ,  Libor Vyklicky

IPC分类号： G02B5/24

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F9/7026

摘要： A curable liquid formulation containing at least (i) one or more near-infrared absorbing triphenylamine-based dyes, and (ii) one or more casting solvents. The invention is also directed to solid near-infrared absorbing films composed of crosslinked forms of the curable liquid formulation. The invention is also directed to a microelectronic substrate containing a coating of the solid near-infrared absorbing film as well as a method for patterning a photoresist layer coated on a microelectronic substrate in the case where the near-infrared absorbing film is between the microelectronic substrate and a photoresist film.

摘要翻译： 包含至少（i）一种或多种近红外吸收性三苯胺类染料的可固化液体制剂，和（ii）一种或多种浇铸溶剂。 本发明还涉及由可固化液体制剂的交联形式组成的固体近红外吸收膜。 本发明还涉及一种含有固体近红外线吸收膜的涂层的微电子衬底，以及在近红外吸收膜位于微电子衬底之间的情况下，用于图案化涂覆在微电子衬底上的光刻胶层的方法 和光刻胶膜。

公开(公告)号：US20110262862A1

公开(公告)日：2011-10-27

申请号：US13091287

申请日：2011-04-21

申请人： Masaki OHASHI ,  Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

发明人： Masaki OHASHI ,  Seiichiro Tachibana ,  Kazumi Noda ,  Shozo Shirai ,  Takeshi Kinsho ,  Wu-Song Huang ,  Dario L. Goldfarb ,  Wai-Kin Li ,  Martin Glodde

IPC分类号： G03F7/004 ,  G02B5/22

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G02B5/208 ,  G02B5/22 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11

摘要： A composition comprising (A) a near-infrared absorbing dye of formula (1), (B) a polymer, and (C) a solvent is used to form a near-infrared absorptive layer. In formula (1), R1 and R2 are a monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, k is 0 to 5, m is 0 or 1, n is 1 or 2, Z is oxygen, sulfur or C(R′)(R″), R′ and R″ are hydrogen or a monovalent hydrocarbon group which may contain a heteroatom, and X− is an anion.

摘要翻译： 包含（A）式（1）的近红外吸收染料，（B）聚合物和（C）溶剂的组合物用于形成近红外吸收层。 式（1）中，R 1和R 2是可以含有杂原子的一价烃基，k为0〜5，m为0或1，n为1或2，Z为氧，硫或C（R'）（ R“），R'和R”是氢或可以含有杂原子的一价烃基，X-是阴离子。

公开(公告)号：US20110042653A1

公开(公告)日：2011-02-24

申请号：US12543003

申请日：2009-08-18

申请人： Martin Glodde ,  Dario L. Goldfarb ,  Wu-Song Huang ,  Wai-Kin Li ,  Sen Liu ,  Pushkara R. Varanasi ,  Libor Vyklicky

发明人： Martin Glodde ,  Dario L. Goldfarb ,  Wu-Song Huang ,  Wai-Kin Li ,  Sen Liu ,  Pushkara R. Varanasi ,  Libor Vyklicky

IPC分类号： H01L51/46 ,  G03F7/004 ,  G03F7/20 ,  H01L31/02

CPC分类号： G03F7/091 ,  G03F9/7026

摘要： A curable liquid formulation containing at least (i) one or more near-infrared absorbing triphenylamine-based dyes, and (ii) one or more casting solvents. The invention is also directed to solid near-infrared absorbing films composed of crosslinked forms of the curable liquid formulation. The invention is also directed to a microelectronic substrate containing a coating of the solid near-infrared absorbing film as well as a method for patterning a photoresist layer coated on a microelectronic substrate in the case where the near-infrared absorbing film is between the microelectronic substrate and a photoresist film.

摘要翻译： 包含至少（i）一种或多种近红外吸收性三苯胺类染料的可固化液体制剂，和（ii）一种或多种浇铸溶剂。 本发明还涉及由可固化液体制剂的交联形式组成的固体近红外吸收膜。 本发明还涉及一种含有固体近红外线吸收膜的涂层的微电子衬底，以及在近红外吸收膜位于微电子衬底之间的情况下，用于图案化涂覆在微电子衬底上的光刻胶层的方法 和光刻胶膜。