公开(公告)号：US07633600B2

公开(公告)日：2009-12-15

申请号：US11262963

申请日：2005-11-01

申请人： Johannes Onvlee ,  Dirk-Jan Bijvoet

发明人： Johannes Onvlee ,  Dirk-Jan Bijvoet

IPC分类号： G03B27/62 ,  G03B27/58 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70716 ,  G03F9/7011

摘要： A lithographic apparatus has a patterning support holding a patterning device. At least one position sensor measures a position of the patterning device relative to the patterning support, and generates a measuring signal. A positioning device controls a position of the patterning support on the basis of the measuring signal input to the positioning device. In a corresponding device manufacturing method a patterning support is provided. A patterning device is held on the patterning support. The patterning support is moved along a line of movement. A position of the patterning device relative to the patterning support is measured, and a position of the patterning support is controlled on the basis of the measurement of the position of the patterning device relative to the patterning support. Thus, the controlling of the position of the patterning support compensates for a slip of the patterning device relative to the patterning support.

摘要翻译： 光刻设备具有保持图案形成装置的图案形成支撑。 至少一个位置传感器测量图案形成装置相对于图案形成支撑件的位置，并产生测量信号。 定位装置基于输入到定位装置的测量信号来控制图案形成支撑件的位置。 在相应的器件制造方法中，提供了图案形成支撑。 图案形成装置被保持在图案形成支撑件上。 图形支撑沿着移动线移动。 测量图案形成装置相对于图案形成支撑件的位置，并且基于图案形成装置相对于图案形成支撑件的位置的测量来控制图案形成支撑件的位置。 因此，图案形成支撑件的位置的控制补偿图案形成装置相对于图案形成支撑件的滑动。

公开(公告)号：US20060279721A1

公开(公告)日：2006-12-14

申请号：US11147465

申请日：2005-06-08

申请人： Marcel Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Donders ,  Jan Hoogkamp ,  Albert Jansen ,  Jan-Jaap Kuit ,  Peter Schaap ,  Joep Janssen ,  Hubrecht Jasperse ,  Arjan Van Der Wel

发明人： Marcel Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Donders ,  Jan Hoogkamp ,  Albert Jansen ,  Jan-Jaap Kuit ,  Peter Schaap ,  Joep Janssen ,  Hubrecht Jasperse ,  Arjan Van Der Wel

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/707

摘要： A stage apparatus for displacing an object having a substantially flat surface is described. The apparatus includes an object table for supporting the object and a positioning device for displacing the object table in a first direction. The apparatus further includes a clamping device for clamping the object to the object table by a first clamping force, the first clamping force being controlled by an electronic control unit based upon a state of the object.

摘要翻译： 描述了用于移位具有基本平坦表面的物体的平台装置。 该装置包括用于支撑物体的物体台和用于沿着第一方向移动物体台的定位装置。 该装置还包括用于通过第一夹持力将物体夹持到物体台的夹紧装置，第一夹紧力由电子控制单元基于物体的状态控制。

公开(公告)号：US20060066827A1

公开(公告)日：2006-03-30

申请号：US10950668

申请日：2004-09-28

申请人： Dirk-Jan Bijvoet

发明人： Dirk-Jan Bijvoet

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F9/7003 ,  G03F9/7088

摘要： A system and a method for aligning two devices with respect to each other are presented. A first of the devices is provided with a proximity switch and the second of the two devices may be provided with a reference mark. When the other device enters a detection area of the proximity switch, a first state of the proximity switch changes to a second state. Thus, the transition from the first state to the second state is a measure of a position of the second device with respect to the proximity switch. When the position of the second device is known with respect to the proximity switch, the devices may be positioned to a desired position with respect to each other. The proximity switch may be used to determine the position of the other device in a number of directions. Both the position and the orientation, i.e. rotation, of the first device with respect to the second device may be determined using the proximity switch.

摘要翻译： 提出了一种用于使两个装置相对于彼此对准的系统和方法。 设备中的第一个设置有接近开关，并且两个设备中的第二个可以设置有参考标记。 当另一设备进入接近开关的检测区域时，接近开关的第一状态变为第二状态。 因此，从第一状态到第二状态的转变是第二装置相对于接近开关的位置的量度。 当相对于接近开关已知第二装置的位置时，可将装置相对于彼此定位到期望的位置。 接近开关可用于确定另一装置在多个方向上的位置。 可以使用接近开关来确定第一装置相对于第二装置的位置和方位，即旋转。

公开(公告)号：US08928860B2

公开(公告)日：2015-01-06

申请号：US12370741

申请日：2009-02-13

申请人： Peter Paul Hempenius ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Ramidin Izair Kamidi

发明人： Peter Paul Hempenius ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Ramidin Izair Kamidi

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/68 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7095 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, a chuck configured to hold and position an object, for example, the patterning device onto the support or the substrate onto the substrate table, the chuck including a base and a constraining layer. A damping layer including a viscoelastic material is provided between the base and the constraining layer.

摘要翻译： 光刻设备包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束，衬底 被构造成保持基板的工作台，被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上的投影系统，配置成将物体（例如，图案形成装置）保持和定位到支撑件或基板上的基板上的卡盘 桌子，卡盘包括基座和约束层。 包括粘弹性材料的阻尼层设置在基部和约束层之间。

公开(公告)号：US20100271611A1

公开(公告)日：2010-10-28

申请号：US12730901

申请日：2010-03-24

申请人： Engelbertus, Antonius, Fransiscus Van Der Pasch ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Emiel, Jozef, Melanie Eussen ,  Igor, Matheus, Petronella Aarts

发明人： Engelbertus, Antonius, Fransiscus Van Der Pasch ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Emiel, Jozef, Melanie Eussen ,  Igor, Matheus, Petronella Aarts

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/707

摘要： A lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition a radiation beam, a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate support constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate, wherein the substrate support includes parts that are made of an open cell plastic foam material.

摘要翻译： 光刻设备包括配置成调节辐射束的照明系统，构造成支撑图案形成装置的支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束，衬底 支撑构造以保持基板;以及投影系统，其配置成将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上，其中基板支撑件包括由开孔塑料泡沫材料制成的部件。

公开(公告)号：US20090147236A1

公开(公告)日：2009-06-11

申请号：US12247411

申请日：2008-10-08

申请人： Youssef Karel Maria De Vos ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Ronald Casper Kunst ,  Ramidin Izair Kamidi ,  Khalid Manssouri

发明人： Youssef Karel Maria De Vos ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Ronald Casper Kunst ,  Ramidin Izair Kamidi ,  Khalid Manssouri

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70725 ,  H01L21/682

摘要： A servo control system to control a position of an object supported by a movable support includes a first measurement system to measure a position of the movable support, a comparative device to provide an error signal based on the comparison between a measured movable support position and a desired movable support position, a controller unit to provide a control signal based on the error signal, and an actuator configured to actuate the movable support based on the control signal. The servo control system further includes a slip compensation device to compensate a slip between the object and the movable support, the slip compensation device including a second measurement system to measure an object position with respect to the movable support, and an addition device to add a slip compensation signal to the measured movable support position or the error signal based on the measured object position.

摘要翻译： 用于控制由可移动支撑件支撑的物体的位置的伺服控制系统包括：第一测量系统，用于测量可移动支撑件的位置;比较装置，用于基于测量的可移动支撑位置和 期望的可移动支撑位置，基于误差信号提供控制信号的控制器单元和被配置为基于控制信号致动可移动支撑件的致动器。 所述伺服控制系统还包括滑差补偿装置，用于补偿所述物体与所述可移动支撑件之间的滑动，所述滑移补偿装置包括用于测量相对于所述可移动支撑件的物体位置的第二测量系统，以及添加装置 滑差补偿信号到被测量的可移动支撑位置或基于测量对象位置的误差信号。

公开(公告)号：US20070228295A1

公开(公告)日：2007-10-04

申请号：US10562211

申请日：2004-12-23

申请人： Dirk-Jan Bijvoet ,  Jan Hoogkamp

发明人： Dirk-Jan Bijvoet ,  Jan Hoogkamp

IPC分类号： G21K5/10 ,  B23Q1/25

CPC分类号： G03F7/70691

摘要： A lithographic apparatus comprising: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; wherein the support is arranged to subject, at least when the support is accelerated, a first side of the patterning device to at least one first force normal to the direction of the acceleration so that an acceleration of the patterning device with respect to the support is counteracted by frictional forces occurring at a contact area between the patterning device and the support, wherein the support is associated with a clamping device which is arranged to subject a second side of the patterning device to at least one second force, at least when the support is accelerated.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括：被配置为调节辐射束的照明系统; 构造成支撑图案形成装置的支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束; 其中所述支撑件布置成至少当所述支撑件被加速时使所述图案形成装置的第一侧至少一个垂直于所述加速度方向的第一力，使得所述图案形成装置相对于所述支撑件的加速度为 通过在图案形成装置和支撑件之间的接触区域处产生的摩擦力抵消，其中支撑件与夹持装置相关联，该夹紧装置布置成将图案形成装置的第二侧承受至少一个第二力，至少在支撑件 加速了

公开(公告)号：US20070182947A1

公开(公告)日：2007-08-09

申请号：US11350278

申请日：2006-02-09

申请人： Peter Hempenius ,  Marcel Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Donders ,  Youssef De Vos

发明人： Peter Hempenius ,  Marcel Baggen ,  Dirk-Jan Bijvoet ,  Sjoerd Donders ,  Youssef De Vos

IPC分类号： G03B27/62

CPC分类号： G03F7/707

摘要： A device manufacturing method includes transferring a pattern from a patterning device onto a substrate. The method includes bringing the patterning device and the support together, and applying a substantially stationary force between the patterning device and the support to hold the patterning device. The patterning device is now excited by a substantially dynamic force to enable a micro slipping thereof. Then, the patterning device is aligned, and the pattern is transferred from the patterning device onto the substrate. The patterning device may be excited with an alternating acceleration. When the patterning device is excited, the patterning device is allowed to settle with respect to the support, thereby improving a friction therebetween to reduce a risk of slipping or local slipping of the patterning device.

摘要翻译： 一种器件制造方法包括将图案从图案形成装置转移到衬底上。 该方法包括将图案形成装置和支撑件组合在一起，并且在图案形成装置和支撑件之间施加基本上静止的力以保持图案形成装置。 图案形成装置现在被基本上动态的力激发以使其能够滑动。 然后，图案形成装置对准，并且图案从图案形成装置转移到基板上。 图案形成装置可以用交替的加速度激发。 当图案形成装置被激发时，允许图案形成装置相对于支撑件沉降，从而改善它们之间的摩擦，以减少图案形成装置的滑动或局部滑动的风险。

公开(公告)号：US20070099099A1

公开(公告)日：2007-05-03

申请号：US11262963

申请日：2005-11-01

申请人： Johannes Onvlee ,  Dirk-Jan Bijvoet

发明人： Johannes Onvlee ,  Dirk-Jan Bijvoet

IPC分类号： G03B27/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70716 ,  G03F9/7011

摘要： A lithographic apparatus has a patterning support holding a patterning device. At least one position sensor measures a position of the patterning device relative to the patterning support, and generates a measuring signal. A positioning device controls a position of the patterning support on the basis of the measuring signal input to the positioning device. In a corresponding device manufacturing method a patterning support is provided. A patterning device is held on the patterning support. The patterning support is moved along a line of movement. A position of the patterning device relative to the patterning support is measured, and a position of the patterning support is controlled on the basis of the measurement of the position of the patterning device relative to the patterning support. Thus, the controlling of the position of the patterning support compensates for a slip of the patterning device relative to the patterning support.

摘要翻译： 光刻设备具有保持图案形成装置的图案形成支撑。 至少一个位置传感器测量图案形成装置相对于图案形成支撑件的位置，并产生测量信号。 定位装置基于输入到定位装置的测量信号来控制图案形成支撑件的位置。 在相应的器件制造方法中，提供了图案形成支撑。 图案形成装置被保持在图案形成支撑件上。 图形支撑沿着移动线移动。 测量图案形成装置相对于图案形成支撑件的位置，并且基于图案形成装置相对于图案形成支撑件的位置的测量来控制图案形成支撑件的位置。 因此，图案形成支撑件的位置的控制补偿图案形成装置相对于图案形成支撑件的滑动。

公开(公告)号：US20060126047A1

公开(公告)日：2006-06-15

申请号：US11007588

申请日：2004-12-09

申请人： Dirk-Jan Bijvoet

发明人： Dirk-Jan Bijvoet

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/70291

摘要： An array of individually controllable elements for use in lithography in which each of the individually controllable elements is comprised of a planar reflector mounted on supports on a substrate by way of elongate hinges.

摘要翻译： 用于光刻的单独可控元件的阵列，其中每个可独立控制的元件由通过细长铰链安装在基板上的支撑件上的平面反射器构成。