公开(公告)号：US06884567B2

公开(公告)日：2005-04-26

申请号：US10244257

申请日：2002-09-16

申请人： Recai Sezi

发明人： Recai Sezi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0387

摘要： A photosensitive formulation for high-temperature-resistant photoresists is based on polyhydroxyamides. The photosensitive formulations display a much higher photosensitivity than the comparable formulations based on quinone azide photoactive components. After conversion to the polybenzoxazole, the novel formulations also display a lower dielectric constant than the quinone azide-based formulations. A film can be made by applying the photosensitive formulation to a wafer and then evaporating the solvent. A method for fabricating electronics and micorelectronics structures a wafer by using the film in photolithography.

摘要翻译： 用于耐高温光致抗蚀剂的光敏剂是基于聚羟基酰胺。 与基于醌叠氮化物光活性组分的可比配方相比，光敏剂具有高得多的光敏性。 转化成聚苯并恶唑后，新型配方也显示比基于叠氮化物的配方更低的介电常数。 可以通过将光敏剂配制到晶片上然后蒸发溶剂来制备薄膜。 用于制造电子学和微电子学的方法通过在光刻中使用该薄膜来构造晶片。

公开(公告)号：US06824949B2

公开(公告)日：2004-11-30

申请号：US10008796

申请日：2001-11-13

申请人： Jörg Haussmann ,  Gerhard Maier ,  Günter Schmid ,  Recai Sezi

发明人： Jörg Haussmann ,  Gerhard Maier ,  Günter Schmid ,  Recai Sezi

IPC分类号： G03F7004

CPC分类号： G03F7/0233 ,  C08G73/22 ,  Y10S430/107

摘要： There are disclosed polybenzoxazole precursors which can be processed by centrifugal techniques, which can be cyclized to polybenzoxazoles on substrates without difficulty, and which after cyclization to polybenzoxazoles exhibit a high temperature stability. In particular, these precursors and the polybenzoxazoles prepared from them possess high resistance against the diffusion of metals.

摘要翻译： 公开了可以通过离心技术处理的聚苯并恶唑前体，它们可以无困难地环化到底物上的聚苯并恶唑，并且在环化成聚苯并恶唑后显示出高的温度稳定性。 特别地，这些前体和由它们制备的聚苯并恶唑具有高的抗金属扩散性。

公开(公告)号：US06437178B2

公开(公告)日：2002-08-20

申请号：US09901218

申请日：2001-07-09

申请人： Recai Sezi ,  Michael Keitmann

发明人： Recai Sezi ,  Michael Keitmann

IPC分类号： C07G22934

CPC分类号： C07D213/643 ,  C07C69/92 ,  C07C217/90

摘要： The invention relates to novel o-aminophenolcarboxylic acids or o-aminothiophenolcarboxylic acids of the following structure in which: A1 to A7 are—independently of one another—H, CH3, OCH3, CH2CH3 or OCH2CH3; T is O or S, and m is 0 or 1; Z is a carbocyclic or heterocyclic aromatic radical.

摘要翻译： 本发明涉及以下结构的新型邻氨基苯甲酸或邻氨基苯硫酚羧酸，其中：A 1至A 7彼此独立地为H，CH 3，OCH 3，CH 2 CH 3或OCH 2 CH 3; T为O或S，m为0 或1; Z是碳环或杂环芳族基团。

公开(公告)号：US5922825A

公开(公告)日：1999-07-13

申请号：US705446

申请日：1996-08-29

申请人： Recai Sezi ,  Hellmut Ahne ,  Eberhard Kuehn

发明人： Recai Sezi ,  Hellmut Ahne ,  Eberhard Kuehn

IPC分类号： C08G69/26 ,  C08G69/28 ,  C08G73/06 ,  C08G73/08 ,  C08G73/18 ,  C08G73/22 ,  C08G75/32 ,  G03F7/023 ,  G03F7/037 ,  C08G64/26

CPC分类号： C08G73/0683 ,  C08G73/06 ,  C08G73/0638 ,  C08G73/0677 ,  C08G73/08 ,  C08G73/18 ,  C08G73/22 ,  C08G75/32 ,  G03F7/0233

摘要： In a process for the preparation of poly-o-hydroxyamides and poly-o-mercaptoamides, a bis-o-aminophenol or a bis-o-aminothiophenol is reacted with a dicarboxylic acid derivative with the following structure: ##STR1## where D=O, S, or NH, and where R* is the parent body of the dicarboxylic acid and at least one of the groups R.sup.1 through R.sup.5 is F or CF.sub.3.

摘要翻译： 在制备聚邻羟基酰胺和聚-O-巯基酰胺的方法中，将双邻氨基苯酚或双邻氨基苯硫酚与具有以下结构的二羧酸衍生物反应：其中D = O，S 或NH，并且其中R *是二羧酸的母体，并且基团R 1至R 5中的至少一个是F或CF 3。

公开(公告)号：US5807969A

公开(公告)日：1998-09-15

申请号：US705099

申请日：1996-08-28

申请人： Recai Sezi ,  Hellmut Ahne ,  Eberhard Kuehn ,  Roland Gestigkeit

发明人： Recai Sezi ,  Hellmut Ahne ,  Eberhard Kuehn ,  Roland Gestigkeit

IPC分类号： C08G69/26 ,  C08G69/28 ,  C08G69/32 ,  C08G73/22 ,  C08G75/32 ,  G03F7/038 ,  C08G73/10 ,  C08G75/04

CPC分类号： G03F7/0387 ,  C08G69/32 ,  C08G73/22 ,  C08G75/32

摘要： In a process for the preparation of poly-o-hydroxyamides and poly-o-mercaptoamides, a bis-o-aminophenol or a bis-o-aminothiophenol is reacted with a dicarboxylic acid derivative with the following structure: M--CO--R*--CO--M where M stands for the residue of an (optionally substituted) 2-hydroxybenzoxazole, 2-hydroxybenzothiazole, or 1-hydroxybenzotriazole or of corresponding mercapto compounds and R* is the parent body of the dicarboxylic acid.

摘要翻译： 在制备聚邻羟基酰胺和聚-O-巯基酰胺的方法中，将双邻氨基苯酚或双邻氨基苯硫酚与具有以下结构的二羧酸衍生物反应：M-CO-R * -CO-M，其中M代表（任选取代的）2-羟基苯并恶唑，2-羟基苯并噻唑或1-羟基苯并三唑或相应的巯基化合物的残基，R *是二羧酸的母体。

公开(公告)号：US5777066A

公开(公告)日：1998-07-07

申请号：US666182

申请日：1996-06-19

申请人： Recai Sezi ,  Hellmut Ahne ,  Eva Rissel

发明人： Recai Sezi ,  Hellmut Ahne ,  Eva Rissel

IPC分类号： C08G69/44 ,  C08G69/04 ,  C08G69/26 ,  C08G73/22 ,  C08G73/00 ,  C08G69/08

CPC分类号： C08G69/26 ,  C08G69/04 ,  C08G73/22

摘要： A method for producing poly-o-hydroxy amides by conversion of an activated dicarboxylic acid derivative with a bis-o-aminophenol. A solution of the activated dicarboxylic acid derivative is added to a solution of the bis-o-aminophenol in a lactone, and a tertiary amine is added to the resulting mixture, wherein the lactone has the following structure: ##STR1## where A is--(CR.sup.1 R.sup.2).sub.m --or--(CR.sup.3 R.sup.4).sub.n --NR.sup.5 --, R.sup.1 to R.sup.5 are independent of one another R.sup.1 and R.sup.2 are hydrogen, alkyl with 1 to 7 carbon atoms (linear or branched), --CO(CH.sub.2).sub.p CH.sub.3, or --COO(CH.sub.2).sub.p CH.sub.3, with p=0 or 1, R.sup.3 and R.sup.4 are hydrogen or alkyl with 1 to 3 carbon atoms (linear or branched), R.sup.5 is hydrogen or methyl, m is a whole number from 2 to 11, and n is a whole number from 1 to 3.

摘要翻译： 通过活性二羧酸衍生物与双邻氨基苯酚的转化制备聚邻羟基酰胺的方法。 将活化的二羧酸衍生物的溶液加入到内酯中的双邻氨基苯酚的溶液中，向所得混合物中加入叔胺，其中内酯具有以下结构：其中 A是 - （CR 1 R 2）m - 或 - （CR 3 R 4）n -NR 5 - ，R 1至R 5彼此独立地R 1，R 2是氢，具有1至7个碳原子的直链或支链烷基， pCH 3或-COO（CH 2）p CH 3，其中p = 0或1，R 3和R 4是氢或具有1至3个碳原子的直链或支链的烷基，R 5是氢或甲基，m是从2到 11，n为1〜3的整数。

公开(公告)号：US5726279A

公开(公告)日：1998-03-10

申请号：US705576

申请日：1996-08-29

申请人： Recai Sezi ,  Hellmut Ahne

发明人： Recai Sezi ,  Hellmut Ahne

IPC分类号： C08G69/26 ,  C08G69/28 ,  C08G73/06 ,  C08G73/18 ,  C08G73/22 ,  C08G75/32 ,  G03F7/023 ,  G03F7/037 ,  C08G69/08 ,  C08G73/10

CPC分类号： G03F7/0233 ,  C08G73/06 ,  C08G73/0638 ,  C08G73/0677 ,  C08G73/0683 ,  C08G73/18 ,  C08G73/22 ,  C08G75/32

摘要： In a process for the preparation of poly-o-hydroxyamides and poly-o-mercaptoamides, a bis-o-aminophenol or a bis-o-aminothiophenol is reacted with a dicarboxylic acid derivative of the following structure: ##STR1## with D=O, S, or NH and where R* is the parent body of the dicarboxylic acid and the groups R.sup.1 through R.sup.4 are H, F, CH.sub.3, or CF.sub.3 (with a maximum of two CH.sub.3 or CF.sub.3 groups).

摘要翻译： 在制备聚邻羟基酰胺和聚-O-巯基酰胺的方法中，将双邻氨基苯酚或双邻氨基苯硫酚与下列结构的二羧酸衍生物反应：具有D = O，S或NH，其中R *是二羧酸的母体，并且基团R 1至R 4是H，F，CH 3或CF 3（最多两个CH 3或CF 3基团）。

公开(公告)号：US5703186A

公开(公告)日：1997-12-30

申请号：US717652

申请日：1996-09-23

申请人： Recai Sezi ,  Horst Borndoerfer ,  Hellmut Ahne ,  Siegfried Birkle ,  Eberhard Kuehn ,  Rainer Leuschner ,  Eva Rissel ,  Michael Sebald

发明人： Recai Sezi ,  Horst Borndoerfer ,  Hellmut Ahne ,  Siegfried Birkle ,  Eberhard Kuehn ,  Rainer Leuschner ,  Eva Rissel ,  Michael Sebald

IPC分类号： C08F212/32 ,  C08F12/00 ,  C08F220/10 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  C08F222/04 ,  C08F222/08

CPC分类号： G03F7/265 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  G03F7/039

摘要： Premixed polymers which can serve as base polymers for high-resolution resists are structured from 40 to 99 mole % of a tert. butyl ester of an unsaturated carboxylic acid and 1 to 60 mole % of an anhydride of an unsaturated carboxylic acid.

摘要翻译： 可用作高分辨抗蚀剂的基础聚合物的预混合聚合物的结构为40-99摩尔％的叔丁基。 不饱和羧酸的丁酯和1〜60摩尔％的不饱和羧酸酐。

公开(公告)号：US5616667A

公开(公告)日：1997-04-01

申请号：US434955

申请日：1995-05-04

申请人： Recai Sezi ,  Horst Borndoerfer ,  Hellmut Ahne ,  Siegfried Birkle ,  Eberhard Kuehn ,  Rainer Leuschner ,  Eva Rissel ,  Michael Sebald

发明人： Recai Sezi ,  Horst Borndoerfer ,  Hellmut Ahne ,  Siegfried Birkle ,  Eberhard Kuehn ,  Rainer Leuschner ,  Eva Rissel ,  Michael Sebald

IPC分类号： C08F212/32 ,  C08F12/00 ,  C08F220/10 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/265 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  G03F7/039

摘要： New mixed polymers which can serve as base polymers for high-resolution resists are structured from 40 to 99 mole % of a tert. butyl ester of an unsaturated carboxylic acid and 1 to 60 mole % of an anhydride of an unsaturated carboxylic acid.

摘要翻译： 可用作高分辨抗蚀剂的基础聚合物的新型混合聚合物的结构为40-99摩尔％的叔丁基。 不饱和羧酸的丁酯和1〜60摩尔％的不饱和羧酸酐。

公开(公告)号：US5262283A

公开(公告)日：1993-11-16

申请号：US692364

申请日：1991-04-26

申请人： Recai Sezi ,  Horst Borndorfer ,  Eva Rissel ,  Rainer Leuschner ,  Michael Sebald ,  Hellmut Ahne ,  Siegfried Birkle

发明人： Recai Sezi ,  Horst Borndorfer ,  Eva Rissel ,  Rainer Leuschner ,  Michael Sebald ,  Hellmut Ahne ,  Siegfried Birkle

IPC分类号： G03F7/029 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  G03F7/32 ,  G03F7/36 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/312 ,  G03C5/56

CPC分类号： G03F7/265 ,  G03F7/039

摘要： High resolution resist structures with steep edges are obtained using standard equipment, with high sensitivity, particularly in the deep UV range. A photoresist layer consisting of a polymer having anhydride groups and blocked imide- or phenolic hydroxyl groups and of a photoactive component which forms a strong acid during irradiation is first deposited on a substrate, followed by irradiation with a patterned image. The irradiated photoresist layer is then treated with a water-based or a water-alcohol-based solution of a polyfunctional amino- or hydroxy-siloxane, and is etched in an oxygen-containing plasma.

摘要翻译： 使用标准设备获得具有陡峭边缘的高分辨率抗蚀剂结构，具有高灵敏度，特别是在深紫外范围内。 由具有酸酐基和封闭的酰亚胺基或酚羟基的聚合物和在照射期间形成强酸的光活性组分组成的光致抗蚀剂层首先沉积在基底上，随后用图案化图像照射。 然后用多官能氨基或羟基 - 硅氧烷的水基或水 - 醇类溶液处理照射的光致抗蚀剂层，并在含氧等离子体中进行蚀刻。