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    ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
    21.
    发明申请
    ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION 有权
    丙酰胺或辐射敏感性树脂组合物和使用组合物形成图案的方法

    公开(公告)号：US20110183263A1

    公开(公告)日：2011-07-28

    申请号：US13015169

    申请日：2011-01-27

    申请人： Hidenori TAKAHASHI ,  Shuji Hirano ,  Hideaki Tsubaki

    发明人： Hidenori TAKAHASHI ,  Shuji Hirano ,  Hideaki Tsubaki

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing a repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and at least two types of repeating units (B1), (B2) that when acted on by an acid, are decomposed to thereby generate an alkali-soluble group, wherein the alkali-soluble group generated by the repeating unit (B1) is different from the alkali-soluble group generated by the repeating unit (B2).

    摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括含有重复单元（A）的树脂（P），其在暴露于光化射线或辐射时被分解，从而产生酸和至少两种类型 通过酸作用的重复单元（B1），（B2）分解，从而产生碱溶性基团，其中由重复单元（B1）产生的碱溶性基团不同于碱溶性 基团由重复单元（B2）生成。

    Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition
    22.
    发明授权
    Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition 有权
    光化学射线或辐射敏感性树脂组合物和使用该组合物形成图案的方法

    公开(公告)号：US09052590B2

    公开(公告)日：2015-06-09

    申请号：US13393173

    申请日：2010-08-31

    申请人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Takayuki Ito ,  Hideaki Tsubaki

    发明人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Takayuki Ito ,  Hideaki Tsubaki

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

    摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing not only at least one repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and is expressed by any of general formulae (I) to (III) below but also a repeating unit (B) containing at least an aromatic ring group provided that the repeating unit (B) does not include any of those of general formulae (I) to (III). (The characters used in general formulae (I) to (III) have the meanings mentioned in the description.)

    摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括不仅含有至少一个重复单元（A）的树脂（P），当暴露于光化射线或辐射时，其被分解，从而产生酸， 由下述通式（I）〜（III）中的任何一个表示，但也包含至少含有芳环基的重复单元（B），条件是重复单元（B）不包括通式（I） 至（III）。 （通式（I）〜（III）中使用的字符具有说明书中提及的含义。）

    Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition
    23.
    发明授权
    Actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition and method of forming pattern using the composition 有权
    光化学射线或辐射敏感性树脂组合物和使用该组合物形成图案的方法

    公开(公告)号：US09005870B2

    公开(公告)日：2015-04-14

    申请号：US13015169

    申请日：2011-01-27

    申请人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Hideaki Tsubaki

    发明人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Hideaki Tsubaki

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041

    摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing a repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and at least two types of repeating units B1), (B2) that when acted on by an acid, are decomposed to thereby generate an alkali-soluble group, wherein the alkali-soluble group generated by the repeating unit (B1) is different from the alkali-soluble group generated by the repeating unit (B2).

    摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括含有重复单元（A）的树脂（P），其在暴露于光化射线或辐射时被分解，从而产生酸和至少两种类型 重复单元B1），（B2），当被酸作用时分解，从而产生碱溶性基团，其中由重复单元（B1）产生的碱溶性基团不同于碱溶性基团 由重复单元（B2）生成。

    ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION
    27.
    发明申请
    ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION 有权
    丙酰胺或辐射敏感性树脂组合物和使用组合物形成图案的方法

    公开(公告)号：US20120156618A1

    公开(公告)日：2012-06-21

    申请号：US13393173

    申请日：2010-08-31

    申请人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Takayuki Ito ,  Hideaki Tsubaki

    发明人： Hidenori Takahashi ,  Shuji Hirano ,  Takayuki Ito ,  Hideaki Tsubaki

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004 ,  C08F214/18

    CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/20

    摘要： According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin (P) containing not only at least one repeating unit (A) that when exposed to actinic rays or radiation, is decomposed to thereby generate an acid and is expressed by any of general formulae (I) to (III) below but also a repeating unit (B) containing at least an aromatic ring group provided that the repeating unit (B) does not include any of those of general formulae (I) to (III). (The characters used in general formulae (I) to (III) have the meanings mentioned in the description.)

    摘要翻译： 根据一个实施方案，光化射线或辐射敏感性树脂组合物包括不仅含有至少一个重复单元（A）的树脂（P），当暴露于光化射线或辐射时，其被分解，从而产生酸， 由下述通式（I）〜（III）中的任何一个表示，但也包含至少含有芳环基的重复单元（B），条件是重复单元（B）不包括通式（I） 至（III）。 （通式（I）〜（III）中使用的字符具有说明书中提及的含义。）

    Positive photosensitive composition, pattern forming method using the composition and resin for use in the composition
    29.
    发明授权
    Positive photosensitive composition, pattern forming method using the composition and resin for use in the composition 有权
    正型感光性组合物，使用组合物中使用的组合物和树脂的图案形成方法

    公开(公告)号：US08043791B2

    公开(公告)日：2011-10-25

    申请号：US12678023

    申请日：2008-09-11

    申请人： Yuko Tada ,  Kazuto Shimada ,  Shuji Hirano

    发明人： Yuko Tada ,  Kazuto Shimada ,  Shuji Hirano

    IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  C08F224/00 ,  C07D313/00

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F20/28 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C08F220/42 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111

    摘要： A positive photosensitive composition ensuring wide exposure latitude and reduced line edge roughness not only in normal exposure (dry exposure) but also in immersion exposure, a pattern forming method using the positive photosensitive composition, and a novel resin contained in the positive photosensitive composition are provided, which are a positive photosensitive composition comprising (A) a resin having a specific lactone structure in the side chain and being capable of increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, a pattern forming method using the positive photosensitive composition, and a novel resin contained in the positive photosensitive composition.

    摘要翻译： 提供正光敏组合物，其不仅在正常曝光（干曝光）中，而且在浸渍曝光中，确保宽曝光宽容度和线边缘粗糙度，使用正光敏组合物的图案形成方法和包含在正感光组合物中的新型树脂 ，其是包含（A）侧链中具有特定内酯结构的树脂并且能够通过酸的作用增加在碱性显影剂中的溶解度的阳性感光性组合物和（B）能够产生酸的化合物 在用光化射线或辐射照射时，使用正型感光性组合物的图案形成方法，以及包含在正性感光性组合物中的新型树脂。

    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
    30.
    发明申请
    POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 有权
    正极性组合物和使用其的图案形成方法

    公开(公告)号：US20100248146A1

    公开(公告)日：2010-09-30

    申请号：US12672329

    申请日：2008-08-01

    申请人： Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shuji Hirano ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama

    发明人： Toru Tsuchihashi ,  Kazuyoshi Mizutani ,  Shuji Hirano ,  Jiro Yokoyama ,  Shinichi Sugiyama

    IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/0397 ,  C08F8/12 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F2800/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/146 ,  C08F220/18 ,  C08F2220/1825 ,  C08F220/14

    摘要： A positive resist composition comprising (A) a resin which contains all of the repeating units represented by formulae (I) to (III), and becomes soluble in an alkali developer by the action of an acid, and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; and a pattern forming method using the composition. A represents a group capable of decomposing and leaving by the action of an acid, each R1 independently represents hydrogen or a methyl group, R2 represents a phenyl group or a cyclohexyl group, m represents 1 or 2, and n represents an integer of 0 to 2. By virtue of this construction, a resist composition ensuring high resolution, good pattern profile, sufficient depth of focus, little defects after development, and sufficiently high plasma etching resistance is provided.

    摘要翻译： 一种正型抗蚀剂组合物，其包含（A）含有由式（I）至（III）表示的所有重复单元的树脂，并且通过酸的作用变得可溶于碱性显影剂，和（B）能够 在用光化射线或辐射照射时产生酸; 以及使用该组合物的图案形成方法。 A表示能够通过酸的分解和离去的基团，每个R 1独立地表示氢或甲基，R 2表示苯基或环己基，m表示1或2，n表示0〜 通过这种结构，提供了确保高分辨率，良好的图案轮廓，足够的焦深，显影后的小缺陷以及足够高的耐等离子体耐蚀刻性的抗蚀剂组合物。