公开(公告)号：US08111398B2

公开(公告)日：2012-02-07

申请号：US12770153

申请日：2010-04-29

申请人： Maurits Van der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Everhardus Cornelis Mos

发明人： Maurits Van der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Everhardus Cornelis Mos

IPC分类号： G01B11/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70633 ,  H01L22/12

摘要： According to an example, a first layer of a substrate comprises a plurality of gratings having a periodicity P. A second layer of the substrate comprises a plurality of gratings, overlapping with the first set of gratings, and having a periodicity of NP, where N is an integer greater than 2. A first set of gratings has a bias of +d and the second set of gratings has a bias of −d. A beam of radiation is projected onto the gratings and the angle resolved spectrum of the reflected radiation detected. The overlay error is then calculated using the angle resolved spectrum of the reflected radiation.

摘要翻译： 根据示例，衬底的第一层包括具有周期P的多个光栅。衬底的第二层包括与第一组光栅重叠并且具有NP的周期性的多个光栅，其中N 是大于2的整数。第一组光栅具有+ d的偏置，第二组光栅具有-d的偏置。 将辐射束投射到光栅上，并检测到反射辐射的角度分辨光谱。 然后使用反射辐射的角度分辨光谱计算覆盖误差。

公开(公告)号：US07599064B2

公开(公告)日：2009-10-06

申请号：US11714904

申请日：2007-03-07

申请人： Everhardus Cornelis Mos ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Everhardus Cornelis Mos ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F7/70633

摘要： An overlay marker for use with a scatterometer includes two overlying two-dimensional gratings. The two gratings have the same pitch but the upper grating has a lower duty ratio. Cross-talk between X and Y overlay measurements can therefore be avoided. The gratings may be directly overlying or off set so as to be interleaved in one or two directions.

摘要翻译： 与散射仪一起使用的叠加标记包括两个上覆的二维光栅。 两个光栅具有相同的间距，但是上部光栅具有较低的占空比。 因此可以避免X和Y重叠测量之间的串扰。 光栅可以直接覆盖或偏离设置，以便沿一个或两个方向交错。

公开(公告)号：US07573584B2

公开(公告)日：2009-08-11

申请号：US11526243

申请日：2006-09-25

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G01B11/14 ,  G01B11/00

CPC分类号： G03F7/70633

摘要： Both the 1st and 0th diffraction orders are detected in a scatterometer. The 1st diffraction orders are used to detect the overlay error. The 0th diffraction order is then used to flag if this is a false overlay error calculation of magnitude greater than the bias but smaller than the pitch of the grating.

摘要翻译： 第一和第零衍射级均在散射仪中检测。 第一衍射级用于检测重叠误差。 然后使用第0衍射级来标示这是否是大于偏置但小于光栅间距的误叠加误差计算。

公开(公告)号：US07532307B2

公开(公告)日：2009-05-12

申请号：US11170747

申请日：2005-06-30

申请人： Maurits Van Der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

发明人： Maurits Van Der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Mircea Dusa ,  Antoine Gaston Marie Kiers

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42 ,  G03F9/00 ,  G03C5/00

CPC分类号： G03F7/70641 ,  G03F7/70683

摘要： One or more focus settings for use in a device manufacturing method is determined by printing a plurality of target markers at different focus settings and using a scatterometer, e.g. off-line, to measure a property of the target markers that is indicative of focus.

摘要翻译： 通过在不同焦点设置下打印多个目标标记并使用散射仪，例如，用于在设备制造方法中使用的一个或多个焦点设置来确定。 离线，以测量指示焦点的目标标记的属性。

公开(公告)号：US20080311344A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US11808922

申请日：2007-06-13

申请人： Antoine Gaston Marie Kiers ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Antoine Gaston Marie Kiers ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： B32B3/10 ,  B32B7/02 ,  B41L17/00 ,  G01N21/01 ,  G01N23/20

CPC分类号： G01N21/4788 ,  G01N21/95607 ,  G01N2021/95615 ,  G03F7/70633 ,  Y10T428/24331 ,  Y10T428/24942

摘要： An overlay target on a substrate is disclosed, the overlay target including a periodic array of structures wherein every nth structure is different from the rest of the structures. The periodic array is desirably made of two interlaced gratings, one of the gratings having a different pitch from the other grating in order to create an asymmetry in the array. This asymmetry can then be measured by measuring the diffraction spectra of radiation reflected from the overlay target. Variation in the asymmetry indicates the presence of an overlay error in layers on the substrate, where overlay targets are printed on subsequent layers.

摘要翻译： 公开了一种在衬底上的覆盖目标，覆盖目标包括周期性结构阵列，其中每第n个结构与其余结构不同。 期望地由两个隔行光栅制成周期阵列，其中一个光栅与另一个光栅具有不同的间距，以便在阵列中产生不对称性。 然后可以通过测量从覆盖目标反射的辐射的衍射光谱来测量该不对称性。 不对称性的变化表示衬底上存在覆盖层错误，其中覆盖目标印刷在后续层上。

公开(公告)号：US20080212097A1

公开(公告)日：2008-09-04

申请号：US11712556

申请日：2007-03-01

申请人： Everhardus Cornelis Mos ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Everhardus Cornelis Mos ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F7/70633

摘要： Each target used in a method of measuring overlay using a scatterometer includes a first portion and a second portion, the first portion has features varying only in a first direction and the second portion has features only varying in a second direction. The first and second directions are orthogonal, thus eliminating cross talk between the directions, and improving the accuracy of overlay error calculations.

摘要翻译： 在使用散射仪测量覆盖层的方法中使用的每个目标包括第一部分和第二部分，第一部分具有仅在第一方向上变化的特征，并且第二部分具有仅在第二方向上变化的特征。 第一和第二方向是正交的，从而消除了方向之间的串扰，并提高了重叠误差计算的准确性。

公开(公告)号：US20080128644A1

公开(公告)日：2008-06-05

申请号：US11606376

申请日：2006-11-30

申请人： Everhardus Cornelis Mos ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar ,  Thomas Leo Maria Hoogenboom

发明人： Everhardus Cornelis Mos ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar ,  Thomas Leo Maria Hoogenboom

IPC分类号： G01V8/00

CPC分类号： G03F7/70991 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70533 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F9/7046

摘要： A fault detection and classification method is disclosed that uses raw back-focal-plane image data of radiation from a substrate surface, detected by a scatterometer detector, to determine a variation in the raw data and correlate the variation in the raw data with a possible fault in a lithographic apparatus or a process that patterned the substrate surface. The correlation is carried out by comparing the variation in the raw data with known metrology data. Once a fault has been determined, a user may be notified of the fault.

摘要翻译： 公开了一种故障检测和分类方法，其使用由散射仪检测器检测的来自衬底表面的辐射的原始背焦平面图像数据来确定原始数据的变化并将原始数据的变化与可能的原始数据相关联 光刻设备中的故障或图案化衬底表面的工艺。 通过将原始数据的变化与已知计量数据进行比较来进行相关性。 一旦确定故障，就可以向用户通知故障。

公开(公告)号：US20080074666A1

公开(公告)日：2008-03-27

申请号：US11526243

申请日：2006-09-25

申请人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Maurits Van Der Schaar

发明人： Arie Jeffrey Den Boef ,  Everhardus Cornelis Mos ,  Maurits Van Der Schaar

IPC分类号： G01B11/00

CPC分类号： G03F7/70633

摘要： Both the 1st and 0th diffraction orders are detected in a scatterometer. The 1st diffraction orders are used to detect the overlay error. The 0th diffraction order is then used to flag if this is a false overlay error calculation of magnitude greater than the bias but smaller than the pitch of the grating.

摘要翻译： 在散射仪中都检测到第1和第0和第0衍射级。 1＆lt; ST＆gt;衍射级用于检测重叠误差。 然后，使用第0 衍射级标记，如果这是大于偏置但小于光栅间距的误差重叠误差计算。

公开(公告)号：US20080036984A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US11500494

申请日：2006-08-08

申请人： Everhardus Cornelis Mos ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar ,  Stefan Carolus Jacobus Antonius Keij

发明人： Everhardus Cornelis Mos ,  Arie Jeffrey Den Boef ,  Maurits Van Der Schaar ,  Stefan Carolus Jacobus Antonius Keij

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G01N21/4788 ,  G01N21/95607 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70616 ,  G03F7/70633

摘要： A combined alignment and overlay target to be applied to a substrate to enable measurement of the alignment of the substrate with respect to its surroundings, and measurement of the relative alignment of a series of layers on the substrate, is disclosed. In an embodiment, the target comprises an array of structures substantially equidistant apart except for a portion of the structures that are offset by a specific amount in a first direction, and a second portion of the structures that are offset by the same amount in the opposite direction. This target on the substrate may be used to measure its alignment and the same target applied to a second layer, superposed on a first layer, may be used to measure overlay.

摘要翻译： 公开了一种组合的对准和覆盖目标，其被施加到衬底以使得能够相对于其周围环境对衬底的对准进行测量，并且测量衬底上的一系列层的相对对准。 在一个实施例中，目标包括基本上等距离的结构的阵列，除了在第一方向上偏移了特定量的结构的一部分，以及在相反的位置上被相同量偏移的结构的第二部分 方向。 衬底上的该目标可以用于测量其对准，并且应用于叠加在第一层上的第二层的相同目标可用于测量覆盖层。

公开(公告)号：US06768539B2

公开(公告)日：2004-07-27

申请号：US10043271

申请日：2002-01-14

申请人： Cheng-Qun Gui ,  Henricus Wilheimus Maria Van Buel ,  Maurits Van Der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef

发明人： Cheng-Qun Gui ,  Henricus Wilheimus Maria Van Buel ,  Maurits Van Der Schaar ,  Arie Jeffrey Den Boef

IPC分类号： G03B2742

CPC分类号： G03F7/70691 ,  G03F7/70216 ,  G03F9/7084

摘要： A lithographic projection apparatus is provided with an optical system built into the wafer table for producing an image of a wafer mark that is provided on the back side of the wafer. The image is located at the plane of the front side of the wafer and can be viewed by an alignment system from the front side of the wafer. Simultaneous alignment between marks on the back and front of the wafer and a mask can be performed using a pre-existing alignment system

摘要翻译： 光刻投影装置设置有内置在晶片台中的光学系统，用于产生设置在晶片背面的晶片标记的图像。 图像位于晶片正面的平面上，并且可以通过对准系统从晶片的正面观察。 可以使用预先存在的对准系统来执行晶片背面和前面的标记与掩模之间的同时对准