公开(公告)号：US20090036292A1

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：US11890156

申请日：2007-08-02

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Kenneth S. Collins ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach ,  Thomas Graves ,  Xiaoming He ,  Jie Yuan

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Kenneth S. Collins ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach ,  Thomas Graves ,  Xiaoming He ,  Jie Yuan

IPC分类号： C04B35/00

CPC分类号： C04B35/505 ,  C04B35/486 ,  C04B35/495 ,  C04B35/50 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/3251 ,  C04B2235/3255 ,  C04B2235/404 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/81 ,  Y10T428/31

摘要： Specialty ceramic materials which resist corrosion/erosion under semiconductor processing conditions which employ a corrosive/erosive plasma. The corrosive plasma may be a halogen-containing plasma. The specialty ceramic materials have been modified to provide a controlled electrical resistivity which suppresses plasma arcing potential.

摘要翻译： 在半导体加工条件下耐腐蚀/腐蚀等离子体腐蚀/腐蚀的特种陶瓷材料。 腐蚀性等离子体可以是含卤素等离子体。 特种陶瓷材料已经被修改以提供抑制等离子体电弧势的受控电阻率。

公开(公告)号：US20150143677A1

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：US13998723

申请日：2013-11-26

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： H01L21/67

CPC分类号： H01L21/67011 ,  C04B35/486 ,  C04B35/505 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/785 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2235/9669 ,  Y10T29/41

摘要： A solid solution-comprising ceramic article useful in semiconductor processing, which article may be in the form of a solid, bulk ceramic, or may be in the form of a substrate having a ceramic coating of the same composition as the bulk ceramic material on at least one outer surface. The ceramic article is resistant to erosion by halogen-containing plasmas and provides advantageous mechanical properties. The solid solution-comprising ceramic article is formed from a combination of yttrium oxide and zirconium oxide. The ceramic-comprising article includes ceramic which is formed from zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 96 mole % to about 91 mole %, and yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 4 mole % to about 9 mole %.

摘要翻译： 一种可用于半导体加工的固体溶液陶瓷制品，该制品可以是固体，本体陶瓷的形式，或者可以是具有与在其上的块状陶瓷材料相同组成的陶瓷涂层的基材形式 至少一个外表面。 陶瓷制品耐受含卤素等离子体侵蚀，并提供有利的机械性能。 含固溶体的陶瓷制品由氧化钇和氧化锆的组合形成。 包含陶瓷的制品包括由摩尔浓度为约96摩尔％至约91摩尔％的氧化锆形成的陶瓷和摩尔浓度为约4摩尔％至约9摩尔％的氧化钇。

公开(公告)号：US08858745B2

公开(公告)日：2014-10-14

申请号：US12291747

申请日：2008-11-12

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： C03B29/00 ,  C04B37/00 ,  C03C3/247 ,  C03C3/32 ,  C04B35/119 ,  C03C8/24 ,  B32B17/06 ,  C04B9/02 ,  H01L21/67

CPC分类号： C03C10/16 ,  C03C3/247 ,  C03C3/325 ,  C03C8/24 ,  C03C2204/00 ,  C04B35/119 ,  C04B37/005 ,  C04B2235/3201 ,  C04B2235/3206 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/445 ,  C04B2235/5445 ,  C04B2235/6562 ,  C04B2235/6565 ,  C04B2235/6567 ,  C04B2235/80 ,  C04B2237/06 ,  C04B2237/064 ,  C04B2237/08 ,  C04B2237/10 ,  C04B2237/34 ,  C04B2237/343 ,  C04B2237/60 ,  C04B2237/708 ,  C04B2237/72 ,  H01L21/6719

摘要： Embodiments of the invention relate to component structures which are useful as apparatus in plasma processing chambers. Portions of the component structures are bonded together using oxyfluoride-comprising glazes, glass ceramics, and combinations thereof. The bonding material is resistant to halogen-containing plasmas and exhibits desirable mechanical properties.

摘要翻译： 本发明的实施例涉及可用作等离子体处理室中的装置的部件结构。 使用含氟氟化物的釉料，玻璃陶瓷及其组合将部件结构的部分粘结在一起。 粘合材料对含卤素等离子体具有耐受性，并且具有所需的机械性能。

公开(公告)号：US20130224498A1

公开(公告)日：2013-08-29

申请号：US13986040

申请日：2013-03-25

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： C04B35/505

CPC分类号： C04B35/505 ,  B32B18/00 ,  C04B35/486 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/6582 ,  C04B2235/668 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/9669 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32504 ,  Y10T428/31678

摘要： A solid solution-comprising ceramic article useful in semiconductor processing, which is resistant to erosion by halogen-containing plasmas. The solid solution-comprising ceramic article is formed from a combination of yttrium oxide, zirconium oxide, and aluminum oxide. In a first embodiment, the solid solution-comprising ceramic article is a solid, sintered body of the solid solution ceramic material. In a second embodiment, the solid solution-comprising article comprises a substrate underlying a solid solution-comprising coating.

公开(公告)号：US20080264564A1

公开(公告)日：2008-10-30

申请号：US11796210

申请日：2007-04-27

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： C04B35/48 ,  H01L21/3065

CPC分类号： C04B35/505 ,  B32B18/00 ,  C04B35/486 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/6582 ,  C04B2235/668 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/9669 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32504 ,  Y10T428/31678

摘要： A ceramic article useful in semiconductor processing, which is resistant to erosion by halogen-containing plasmas. The ceramic article is formed from a combination of yttrium oxide and zirconium oxide. In a first embodiment, the ceramic article includes ceramic which is formed from yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 90 mole % to about 70 mole %, and zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 10 mole % to about 30 mole %. In a second embodiment, the ceramic article includes ceramic which is formed from zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 96 mole % to about 94 mole %, and yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 4 mole % to about 6 mole %.

摘要翻译： 用于半导体加工的陶瓷制品，其耐受含卤素等离子体的侵蚀。 陶瓷制品由氧化钇和氧化锆的组合形成。 在第一个实施方案中，陶瓷制品包括由摩尔浓度为约90摩尔％至约70摩尔％的氧化钇形成的陶瓷，摩尔浓度为约10摩尔％至约30摩尔％的氧化锆， 。 在第二个实施方案中，陶瓷制品包括由摩尔浓度为约96摩尔％至约94摩尔％的氧化锆形成的陶瓷，摩尔浓度为约4摩尔％至约6摩尔％的氧化钇 。

公开(公告)号：US20120034469A1

公开(公告)日：2012-02-09

申请号：US13199521

申请日：2011-08-31

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： B32B17/06 ,  B32B19/00 ,  C04B35/622 ,  B32B15/04 ,  C04B35/48 ,  C04B35/482

CPC分类号： C04B35/505 ,  B32B18/00 ,  C04B35/486 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/6582 ,  C04B2235/668 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/9669 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32504 ,  Y10T428/31678

摘要： A ceramic article useful in semiconductor processing, which is resistant to erosion by halogen-containing plasmas. The ceramic article is formed from a combination of yttrium oxide and zirconium oxide. In a first embodiment, the ceramic article includes ceramic which is formed from yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 90 mole % to about 70 mole %, and zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 10 mole % to about 30 mole %. In a second embodiment, the ceramic article includes ceramic which is formed from zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 96 mole % to about 94 mole %, and yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 4 mole % to about 6 mole %.

摘要翻译： 用于半导体加工的陶瓷制品，其耐受含卤素等离子体的侵蚀。 陶瓷制品由氧化钇和氧化锆的组合形成。 在第一个实施方案中，陶瓷制品包括由摩尔浓度为约90摩尔％至约70摩尔％的氧化钇形成的陶瓷，摩尔浓度为约10摩尔％至约30摩尔％的氧化锆， 。 在第二个实施方案中，陶瓷制品包括由摩尔浓度为约96摩尔％至约94摩尔％的氧化锆形成的陶瓷，摩尔浓度为约4摩尔％至约6摩尔％的氧化钇 。

公开(公告)号：US20100129670A1

公开(公告)日：2010-05-27

申请号：US12590200

申请日：2009-11-03

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： B32B18/00 ,  B32B17/06 ,  B32B9/04 ,  B05D3/02 ,  C04B35/50 ,  C04B35/553

CPC分类号： C04B41/86 ,  C03C8/00 ,  C03C2214/20 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5023 ,  H01J37/32477 ,  C04B41/4539 ,  C04B41/5055 ,  C04B35/10 ,  C04B35/00 ,  C04B35/14 ,  C04B35/565 ,  C04B35/584 ,  C04B35/581

摘要： Embodiments of the invention relate to compositions of metal oxyfluoride-comprising glazes or metal fluoride-comprising glazes, glass ceramics, and combinations thereof which are useful as plasma-resistant solid substrates or plasma resistant protective coatings over other substrates. Also described are methods of fabricating various structures which incorporate such compositions, including solid substrates and coatings over the surface of a substrate which has a melting point which is higher than about 1600° C., such as aluminum oxide, aluminum nitride, quartz, silicon carbide, silicon nitride.

摘要翻译： 本发明的实施方案涉及可用作等离子体固体基质或耐等离子体保护涂层超过其它基底的包含氟化of的釉料或含金属氟化物的釉料，玻璃陶瓷及其组合的组合物。 还描述了制造包含这样的组合物的各种结构的方法，其包括在熔点高于约1600℃的基底表面上的固体基质和涂层，例如氧化铝，氮化铝，石英，硅 碳化物，氮化硅。

公开(公告)号：US20090162647A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12004907

申请日：2007-12-21

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins ,  Thomas Graves ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins ,  Thomas Graves ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach

IPC分类号： B32B15/04 ,  B05D3/00

CPC分类号： C23C16/4404 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32477

摘要： An article which is resistant to corrosion or erosion by chemically active plasmas and a method of making the article are described. The article is comprised of a metal or metal alloy substrate having on its surface a coating which is an oxide of the metal or metal alloy. The structure of the oxide coating is columnar in nature. The grain size of the crystals which make up the oxide is larger at the surface of the oxide coating than at the interface between the oxide coating and the metal or metal alloy substrate, and wherein the oxide coating is in compression at the interface between the oxide coating and the metal or metal alloy substrate. Typically the metal is selected from the group consisting of yttrium, neodymium, samarium, terbium, dysprosium, erbium, ytterbium, scandium, hafnium, niobium or combinations thereof.

摘要翻译： 描述了耐化学活性等离子体腐蚀或侵蚀的制品以及制造该制品的方法。 该制品由金属或金属合金基材组成，其表面上具有金属或金属合金的氧化物的涂层。 氧化物涂层的结构本质上是柱状的。 构成氧化物的晶体的晶粒尺寸在氧化物涂层的表面比在氧化物涂层和金属或金属合金基底之间的界面处的晶粒尺寸大，并且其中氧化物涂层在氧化物之间的界面处被压缩 涂层和金属或金属合金基材。 通常，金属选自钇，钕，钐，铽，镝，铒，镱，钪，铪，铌或其组合。

公开(公告)号：US20080264565A1

公开(公告)日：2008-10-30

申请号：US11796211

申请日：2007-04-27

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： C04B35/48 ,  C23C16/22 ,  H01L21/3065

CPC分类号： C23C16/4404 ,  C04B35/111 ,  C04B35/505 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5045 ,  C04B41/5346 ,  C04B41/87 ,  C04B41/91 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/785 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2235/9692 ,  H01J37/32467 ,  C04B41/4527 ,  C04B41/5031 ,  C04B41/5042 ,  C04B35/10 ,  C04B35/14 ,  C04B35/581

摘要： A ceramic article which is resistant to erosion by halogen-containing plasmas used in semiconductor processing. The ceramic article includes ceramic which is multi-phased, typically including two phase to three phases. The ceramic is formed from yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 50 mole % to about 75 mole %; zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 10 mole % to about 30 mole %; and at least one other component, selected from the group consisting of aluminum oxide, hafnium oxide, scandium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, samarium oxide, ytterbium oxide, erbium oxide, cerium oxide, and combinations thereof, at a molar concentration ranging from about 10 mole % to about 30 mole %.

摘要翻译： 一种耐半导体加工中含卤素等离子体侵蚀的陶瓷制品。 陶瓷制品包括多相陶瓷，通常包括两相至三相。 陶瓷由摩尔浓度范围为约50摩尔％至约75摩尔％的氧化钇形成; 摩尔浓度范围为约10摩尔％至约30摩尔％的氧化锆; 和选自氧化铝，氧化铪，氧化钪，氧化钕，氧化铌，氧化钐，氧化镱，氧化铒，氧化铈及其组合中的至少一种其它组分，摩尔浓度范围为 约10摩尔％至约30摩尔％。

公开(公告)号：US09017765B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US12590200

申请日：2009-11-03

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： B05D3/02 ,  C04B41/86 ,  C03C8/00 ,  C04B41/00 ,  C04B41/50

CPC分类号： C04B41/86 ,  C03C8/00 ,  C03C2214/20 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5023 ,  H01J37/32477 ,  C04B41/4539 ,  C04B41/5055 ,  C04B35/10 ,  C04B35/00 ,  C04B35/14 ,  C04B35/565 ,  C04B35/584 ,  C04B35/581

摘要： Embodiments of the invention relate to compositions of metal oxyfluoride-comprising glazes or metal fluoride-comprising glazes, glass ceramics, and combinations thereof which are useful as plasma-resistant solid substrates or plasma resistant protective coatings over other substrates. Also described are methods of fabricating various structures which incorporate such compositions, including solid substrates and coatings over the surface of a substrate which has a melting point which is higher than about 1600° C., such as aluminum oxide, aluminum nitride, quartz, silicon carbide, silicon nitride.

摘要翻译： 本发明的实施方案涉及可用作等离子体固体基质或耐等离子体保护涂层超过其它基底的包含氟化of的釉料或含金属氟化物的釉料，玻璃陶瓷及其组合的组合物。 还描述了制造包含这样的组合物的各种结构的方法，其包括在熔点高于约1600℃的基底表面上的固体基质和涂层，例如氧化铝，氮化铝，石英，硅 碳化物，氮化硅。