公开(公告)号：US08871312B2

公开(公告)日：2014-10-28

申请号：US13573354

申请日：2012-09-10

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Kenneth S. Collins ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach ,  Thomas Graves ,  Xiaoming He ,  Jie Yuan

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Kenneth S. Collins ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach ,  Thomas Graves ,  Xiaoming He ,  Jie Yuan

IPC分类号： C04B35/505 ,  B32B18/00 ,  C04B35/50 ,  C04B35/486 ,  C04B35/495

CPC分类号： C04B35/505 ,  C04B35/486 ,  C04B35/495 ,  C04B35/50 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/3251 ,  C04B2235/3255 ,  C04B2235/404 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/81 ,  Y10T428/31

摘要： Specialty ceramic materials which resist corrosion/erosion under semiconductor processing conditions which employ a corrosive/erosive plasma. The corrosive plasma may be a halogen-containing plasma. The specialty ceramic materials have been modified to provide a controlled electrical resistivity which suppresses plasma arcing potential.

摘要翻译： 在半导体加工条件下耐腐蚀/腐蚀等离子体腐蚀/腐蚀的特种陶瓷材料。 腐蚀性等离子体可以是含卤素等离子体。 特种陶瓷材料已经被修改以提供抑制等离子体电弧势的受控电阻率。

公开(公告)号：US08367227B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US11890156

申请日：2007-08-02

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Kenneth S. Collins ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach ,  Thomas Graves ,  Xiaoming He ,  Jie Yuan

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Kenneth S. Collins ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach ,  Thomas Graves ,  Xiaoming He ,  Jie Yuan

IPC分类号： B32B9/00 ,  B32B19/00 ,  B32B17/10 ,  B32B15/04 ,  C04B35/48 ,  C04B35/00 ,  C04B35/50 ,  C04B35/51

CPC分类号： C04B35/505 ,  C04B35/486 ,  C04B35/495 ,  C04B35/50 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/3251 ,  C04B2235/3255 ,  C04B2235/404 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/81 ,  Y10T428/31

摘要： Specialty ceramic materials which resist corrosion/erosion under semiconductor processing conditions which employ a corrosive/erosive plasma. The corrosive plasma may be a halogen-containing plasma. The specialty ceramic materials have been modified to provide a controlled electrical resistivity which suppresses plasma arcing potential.

公开(公告)号：US08129029B2

公开(公告)日：2012-03-06

申请号：US12004907

申请日：2007-12-21

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins ,  Thomas Graves ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins ,  Thomas Graves ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach

IPC分类号： B32B9/00

CPC分类号： C23C16/4404 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32477

摘要： An article which is resistant to corrosion or erosion by chemically active plasmas and a method of making the article are described. The article is comprised of a metal or metal alloy substrate having on its surface a coating which is an oxide of the metal or metal alloy. The structure of the oxide coating is columnar in nature. The grain size of the crystals which make up the oxide is larger at the surface of the oxide coating than at the interface between the oxide coating and the metal or metal alloy substrate, and wherein the oxide coating is in compression at the interface between the oxide coating and the metal or metal alloy substrate. Typically the metal is selected from the group consisting of yttrium, neodymium, samarium, terbium, dysprosium, erbium, ytterbium, scandium, hafnium, niobium or combinations thereof.

摘要翻译： 描述了耐化学活性等离子体腐蚀或侵蚀的制品以及制造该制品的方法。 该制品由金属或金属合金基材组成，其表面上具有金属或金属合金的氧化物的涂层。 氧化物涂层的结构本质上是柱状的。 构成氧化物的晶体的晶粒尺寸在氧化物涂层的表面比在氧化物涂层和金属或金属合金基底之间的界面处的晶粒尺寸大，并且其中氧化物涂层在氧化物之间的界面处被压缩 涂层和金属或金属合金基材。 通常，金属选自钇，钕，钐，铽，镝，铒，镱，钪，铪，铌或其组合。

公开(公告)号：US07696117B2

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US11796211

申请日：2007-04-27

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： C04B35/00

CPC分类号： C23C16/4404 ,  C04B35/111 ,  C04B35/505 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5045 ,  C04B41/5346 ,  C04B41/87 ,  C04B41/91 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/77 ,  C04B2235/785 ,  C04B2235/786 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/96 ,  C04B2235/9607 ,  C04B2235/9692 ,  H01J37/32467 ,  C04B41/4527 ,  C04B41/5031 ,  C04B41/5042 ,  C04B35/10 ,  C04B35/14 ,  C04B35/581

摘要： A ceramic article which is resistant to erosion by halogen-containing plasmas used in semiconductor processing. The ceramic article includes ceramic which is multi-phased, typically including two phase to three phases. The ceramic is formed from yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 50 mole % to about 75 mole %; zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 10 mole % to about 30 mole %; and at least one other component, selected from the group consisting of aluminum oxide, hafnium oxide, scandium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, samarium oxide, ytterbium oxide, erbium oxide, cerium oxide, and combinations thereof, at a molar concentration ranging from about 10 mole % to about 30 mole %.

摘要翻译： 一种耐半导体加工中含卤素等离子体侵蚀的陶瓷制品。 陶瓷制品包括多相陶瓷，通常包括两相至三相。 陶瓷由摩尔浓度范围为约50摩尔％至约75摩尔％的氧化钇形成; 摩尔浓度范围为约10摩尔％至约30摩尔％的氧化锆; 和选自氧化铝，氧化铪，氧化钪，氧化钕，氧化铌，氧化钐，氧化镱，氧化铒，氧化铈及其组合中的至少一种其它组分，摩尔浓度范围为 约10摩尔％至约30摩尔％。

公开(公告)号：US20090214825A1

公开(公告)日：2009-08-27

申请号：US12072530

申请日：2008-02-26

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Xiaoming He ,  Kenneth S. Collins ,  Thomas Graves ,  Senh Thach ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Ren-Guan Duan

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Xiaoming He ,  Kenneth S. Collins ,  Thomas Graves ,  Senh Thach ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Ren-Guan Duan

IPC分类号： B32B7/00 ,  C23C4/00

CPC分类号： C23C4/11 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24997

摘要： Particulate generation has been a problem in semiconductor device processing in highly corrosive plasma environments. The problem is exacerbated when the plasma is a reducing plasma. Empirically produced data has shown that the formation of a plasma spray coated yttrium-comprising ceramic such as yttrium oxide, Y2O3—ZrO2 solid solution, YAG, and YF3 provides a low porosity coating with smooth and compacted surfaces when such ceramics are spray coated from a powder feed having an average effective diameter ranging from about 22 μm to about 0.1 μm. These spray-coated materials reduce the generation of particulates in corrosive reducing plasma environments.

摘要翻译： 在高度腐蚀性等离子体环境中的半导体器件加工中，微粒产生是一个问题。 当等离子体是还原等离子体时，问题更加严重。 经验生产的数据显示，等离子体喷涂的包含钇的陶瓷如氧化钇，Y2O3-ZrO2固溶体，YAG和YF3的形成提供了具有光滑和压实表面的低孔隙率涂层，当这种陶瓷从 粉末进料的平均有效直径为约22μm至约0.1μm。 这些喷涂材料减少了腐蚀性还原等离子体环境中的颗粒物的产生。

公开(公告)号：US09520314B2

公开(公告)日：2016-12-13

申请号：US12640496

申请日：2009-12-17

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Senh Thach ,  Ren-Guan Duan

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Senh Thach ,  Ren-Guan Duan

IPC分类号： H01L21/68 ,  H02N13/00 ,  C09D183/04 ,  H01L21/683

CPC分类号： H01L21/6833 ,  C08K3/22 ,  C08K3/28 ,  C08K2003/2227 ,  C08K2003/282 ,  C09D183/04 ,  C09J11/04 ,  C09J183/04 ,  H01L21/6831 ,  H02N13/00 ,  Y10T279/23 ,  Y10T279/34

摘要： Methods and apparatus for bonding an electrostatic chuck to a component of a substrate support are provided herein. In some embodiments, an adhesive for bonding components of a substrate support may include a matrix of silicon-based polymeric material having a filler dispersed therein. The silicon based polymeric material may be a polydimethylsiloxane (PDMS) structure having a molecular weight with a low molecular weight (LMW) content Σ D3-D10 of less than about 500 ppm. In some embodiments, the filler may comprise between about 50 to about 70 percent by volume of the adhesive layer. In some embodiments, the filler may comprise particles of aluminum oxide (Al2O3), aluminum nitride (AlN), yttrium oxide (Y2O3), or combinations thereof. In some embodiments, the filler may comprise particles having a diameter of about 10 nanometers to about 10 microns.

摘要翻译： 本文提供了用于将静电卡盘结合到基板支撑件的部件的方法和装置。 在一些实施例中，用于粘合基底支撑件的部件的粘合剂可以包括其中分散有填料的硅基聚合物材料的基体。 硅基聚合物材料可以是分子量小于约500ppm的具有低分子量（LMW）含量ΣD3-D10的聚二甲基硅氧烷（PDMS）结构。 在一些实施方案中，填料可以占粘合剂层的约50至约70体积％。 在一些实施例中，填料可以包括氧化铝（Al 2 O 3），氮化铝（AlN），氧化钇（Y 2 O 3）或其组合的颗粒。 在一些实施方案中，填料可以包含直径为约10纳米至约10微米的颗粒。

公开(公告)号：US09017765B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US12590200

申请日：2009-11-03

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： B05D3/02 ,  C04B41/86 ,  C03C8/00 ,  C04B41/00 ,  C04B41/50

CPC分类号： C04B41/86 ,  C03C8/00 ,  C03C2214/20 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5023 ,  H01J37/32477 ,  C04B41/4539 ,  C04B41/5055 ,  C04B35/10 ,  C04B35/00 ,  C04B35/14 ,  C04B35/565 ,  C04B35/584 ,  C04B35/581

摘要： Embodiments of the invention relate to compositions of metal oxyfluoride-comprising glazes or metal fluoride-comprising glazes, glass ceramics, and combinations thereof which are useful as plasma-resistant solid substrates or plasma resistant protective coatings over other substrates. Also described are methods of fabricating various structures which incorporate such compositions, including solid substrates and coatings over the surface of a substrate which has a melting point which is higher than about 1600° C., such as aluminum oxide, aluminum nitride, quartz, silicon carbide, silicon nitride.

摘要翻译： 本发明的实施方案涉及可用作等离子体固体基质或耐等离子体保护涂层超过其它基底的包含氟化of的釉料或含金属氟化物的釉料，玻璃陶瓷及其组合的组合物。 还描述了制造包含这样的组合物的各种结构的方法，其包括在熔点高于约1600℃的基底表面上的固体基质和涂层，例如氧化铝，氮化铝，石英，硅 碳化物，氮化硅。

公开(公告)号：US08916021B2

公开(公告)日：2014-12-23

申请号：US13276524

申请日：2011-10-19

申请人： Jennifer Sun ,  Sumanth Banda ,  Ren-Guan Duan

发明人： Jennifer Sun ,  Sumanth Banda ,  Ren-Guan Duan

IPC分类号： B23B31/02 ,  B32B15/08 ,  H01L21/683 ,  C04B35/626 ,  C04B35/634 ,  C04B37/00 ,  C04B37/02

CPC分类号： B23B31/28 ,  B05B1/14 ,  B23B31/02 ,  B23Q3/00 ,  B32B15/08 ,  C04B35/6269 ,  C04B35/63424 ,  C04B37/005 ,  C04B37/006 ,  C04B37/008 ,  C04B37/025 ,  C04B37/026 ,  C04B37/028 ,  C04B2235/604 ,  C04B2237/064 ,  C04B2237/08 ,  C04B2237/12 ,  C04B2237/34 ,  C04B2237/343 ,  C04B2237/365 ,  C04B2237/366 ,  C04B2237/402 ,  C04B2237/55 ,  C04B2237/62 ,  H01L21/6831 ,  Y10T156/10 ,  Y10T279/23

摘要： Embodiments of the present invention generally provide chamber components with enhanced thermal properties and methods of enhancing thermal properties of chamber components including bonding materials. One embodiment of the present invention provides a method for fabricating a composite structure. The method includes applying a bonding material to a first component, and converting the bonding material applied to the first component to an enhanced bonding layer by heating the bonding material to outgas volatile species from the bonding material. The outgassed volatile species accumulates to at least 0.05% in mass of the bonding material. The method further includes contacting a second component and the enhanced bonding layer to join the first and second components.

摘要翻译： 本发明的实施例通常提供具有增强的热性质的腔室部件和增强包括接合材料在内的腔室部件的热性能的方法。 本发明的一个实施例提供一种制造复合结构的方法。 该方法包括：向第一部件施加接合材料，并且通过加热接合材料将从第一部件施加的接合材料转化为增强的接合层，从而从接合材料排出挥发性物质。 脱气的挥发性物质在接合材料的质量上累积至少0.05％。 该方法还包括使第二组分和增强的结合层接触以连接第一和第二组分。

公开(公告)号：US08758858B2

公开(公告)日：2014-06-24

申请号：US13374980

申请日：2012-01-25

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins ,  Thomas Graves ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins ,  Thomas Graves ,  Ren-Guan Duan ,  Senh Thach

IPC分类号： B05D3/02

CPC分类号： C23C16/4404 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32477

摘要： A method of creating a plasma-resistant thermal oxide coating on a surface of an article, where the article is comprised of a metal or metal alloy which is typically selected from the group consisting of yttrium, neodymium, samarium, terbium, dysprosium, erbium, ytterbium, scandium, hafnium, niobium or combinations thereof. The oxide coating is formed using a time-temperature profile which includes an initial rapid heating rage, followed by a gradual decrease in heating rate, to produce an oxide coating structure which is columnar in nature. The grain size of the crystals which make up the oxide coating is larger at the surface of the oxide coating than at the interface between the oxide coating and the metal or metal alloy substrate, and the oxide coating is in compression at the interface between the oxide coating and the metal or metal alloy substrate.

摘要翻译： 一种在制品的表面上产生耐等离子体热氧化物涂层的方法，其中制品由金属或金属合金组成，金属或金属合金通常选自钇，钕，钐，铽，镝，铒， 镱，钪，铪，铌或其组合。 使用时间 - 温度曲线形成氧化物涂层，其包括初始的快速加热，然后逐渐降低加热速率，以产生本质上为柱状的氧化物涂层结构。 构成氧化物涂层的晶体的晶粒尺寸在氧化物涂层的表面比在氧化物涂层和金属或金属合金衬底之间的界面处大，并且氧化物涂层在氧化物之间的界面处被压缩 涂层和金属或金属合金基材。

公开(公告)号：US08623527B2

公开(公告)日：2014-01-07

申请号：US13199521

申请日：2011-08-31

申请人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

发明人： Jennifer Y. Sun ,  Ren-Guan Duan ,  Jie Yuan ,  Li Xu ,  Kenneth S. Collins

IPC分类号： B32B18/00 ,  C04B35/505 ,  C04B35/486

CPC分类号： C04B35/505 ,  B32B18/00 ,  C04B35/486 ,  C04B2235/3217 ,  C04B2235/3222 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3229 ,  C04B2235/3244 ,  C04B2235/6582 ,  C04B2235/668 ,  C04B2235/762 ,  C04B2235/80 ,  C04B2235/9669 ,  H01J37/32467 ,  H01J37/32504 ,  Y10T428/31678

摘要： A ceramic coated article useful in semiconductor processing, which is resistant to erosion by halogen-containing plasmas. The ceramic coated article includes an aluminum substrate coated with a solid solution coating formed from a combination of yttrium oxide and zirconium oxide. The ceramic coating is formed from yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 90 mole % to about 70 mole %, and zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 10 mole % to about 30 mole %. In a second embodiment, the ceramic article includes ceramic which is formed from zirconium oxide at a molar concentration ranging from about 96 mole % to about 94 mole %, and yttrium oxide at a molar concentration ranging from about 4 mole % to about 6 mole %.

摘要翻译： 用于半导体加工的陶瓷涂层制品，其耐受含卤素等离子体的侵蚀。 陶瓷涂覆制品包括涂覆有由氧化钇和氧化锆的组合形成的固溶体涂层的铝基材。 陶瓷涂层由摩尔浓度范围为约90摩尔％至约70摩尔％的氧化钇和摩尔浓度为约10摩尔％至约30摩尔％的氧化锆形成。 在第二个实施方案中，陶瓷制品包括由摩尔浓度为约96摩尔％至约94摩尔％的氧化锆形成的陶瓷，摩尔浓度为约4摩尔％至约6摩尔％的氧化钇 。