公开(公告)号：US20090208867A1

公开(公告)日：2009-08-20

申请号：US12371347

申请日：2009-02-13

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Kazunori Maeda ,  Tomohiro Kobayashi

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0392 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/143

摘要： A polymer obtained through copolymerization of a monomer having a hexafluoroalcohol pendant and a monomer having a hexafluoroalcohol pendant whose hydroxyl moiety has been protected is useful as an additive to a photoresist composition and as a protective coating material for immersion lithography. When processed by immersion lithography, the resist composition and protective coating composition exhibit good water repellency and water slip and produce few development defects.

摘要翻译： 通过具有六氟醇侧基的单体和具有羟基部分被保护的六氟醇侧基的单体共聚得到的聚合物可用作光致抗蚀剂组合物的添加剂和浸渍光刻用保护涂料。 当通过浸渍光刻处理时，抗蚀剂组合物和保护性涂料组合物表现出良好的拒水性和水滑动性，并且产生很少的显影缺陷。

公开(公告)号：US20080090173A1

公开(公告)日：2008-04-17

申请号：US11905726

申请日：2007-10-03

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Wataru Kusaki

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Wataru Kusaki

IPC分类号： G03C1/72 ,  C08G63/08 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2041 ,  C08F220/10 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11

摘要： A resist composition comprising an alkali-soluble polymer having lactone units incorporated therein as an additive forms a resist film which has on its surface a reduced contact angle after development and prevents water penetration during immersion lithography.

摘要翻译： 包含其中掺入作为添加剂的具有内酯单元的碱溶性聚合物的抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，其表面在显影后具有降低的接触角，并防止浸渍光刻期间的水渗透。

公开(公告)号：US20070026341A1

公开(公告)日：2007-02-01

申请号：US11492957

申请日：2006-07-26

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai ,  Masayuki Endo ,  Masaru Sasago ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada ,  Yoshio Kawai ,  Masayuki Endo ,  Masaru Sasago ,  Haruhiko Komoriya ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A resist protective coating material is provided comprising an α-trifluoromethylacrylic acid/norbornene copolymer having cyclic perfluoroalkyl groups as pendant. In a pattern-forming process, the material forms on a resist film a protective coating which is water-insoluble, dissolvable in alkaline developer and immiscible with the resist film, allowing for effective implementation of immersion lithography.

摘要翻译： 提供抗蚀剂保护涂层材料，其包含具有环状全氟烷基的α-三氟甲基丙烯酸/降冰片烯共聚物作为侧基。 在图案形成过程中，材料在抗蚀剂膜上形成保护性涂层，其是不溶于水的，可溶于碱性显影剂中并且与抗蚀剂膜不混溶，从而有​​效地实施浸渍光刻。

公开(公告)号：US07012161B2

公开(公告)日：2006-03-14

申请号：US10918465

申请日：2004-08-16

申请人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Yuji Harada

发明人： Takeru Watanabe ,  Takeshi Kinsho ,  Yuji Harada

IPC分类号： C07C49/21 ,  C07C49/215 ,  C07C45/63 ,  C08F114/18 ,  G03C1/492

CPC分类号： C08F32/08 ,  C07C33/44 ,  C07C45/52 ,  C07C49/24 ,  C07C49/242 ,  C07C233/18 ,  C07C311/04 ,  C07C323/15 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395

摘要： There is disclosed a fluorine-containing polymerizable cyclic olefin compound that has one or more partial structures represented by the following general formula (1) or (2). There can be provided a novel fluorine-containing polymerizable cyclic olefin compound which is excellent in transparency to irradiation, for example, at a wavelength of 200 nm or less, especially at a wavelength of 160 nm or less and dry etching resistance, has low hydrophobicity, and is excellent in development characteristics, and thus is useful as a raw material for a base resin of photoresist composition

摘要翻译： 公开了具有一个或多个由以下通式（1）或（2）表示的部分结构的含氟可聚合环烯烃化合物。 可以提供例如在200nm以下的波长，特别是160nm以下的波长，耐干蚀刻性等下，透光性优异的含氟聚合性环状烯烃化合物具有低疏水性 ，显影特性优异，因此可用作光致抗蚀剂组合物的基础树脂的原料

公开(公告)号：US20050233254A1

公开(公告)日：2005-10-20

申请号：US11105510

申请日：2005-04-14

申请人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  G03C1/492

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： In an immersion lithography process, a pattern is formed by forming a photoresist layer on a wafer, forming a protective coating on the photoresist layer from a resist overcoat material, exposing the layer structure to light in water, and developing. A water-insoluble, alkali-soluble material is used as the resist overcoat material.

摘要翻译： 在浸没式光刻工艺中，通过在晶片上形成光致抗蚀剂层形成图案，在抗蚀剂外涂层材料上在光致抗蚀剂层上形成保护涂层，将层结构暴露于水中并进行显影。 使用水不溶性碱溶性材料作为抗蚀剂外涂层材料。

公开(公告)号：US06878501B2

公开(公告)日：2005-04-12

申请号：US09842114

申请日：2001-04-26

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： C08F232/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  C08F10/00 ,  C08F214/18

CPC分类号： C08F232/08 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  C08F222/06 ,  C08F222/40

摘要： Polymers comprising recurring units of cycloolefin having fluorinated alkyl introduced therein are novel and have transparency and alkali solubility. Using the polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained.

摘要翻译： 包含引入其中具有氟化烷基的环烯烃的重复单元的聚合物是新颖的并且具有透明性和碱溶解性。 使用聚合物，获得了具有低的F2准分子激光吸收的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06875556B2

公开(公告)日：2005-04-05

申请号：US10690777

申请日：2003-10-23

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Miyazawa

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Kazuhiko Maeda ,  Haruhiko Komoriya ,  Satoru Miyazawa

IPC分类号： C08F220/26 ,  C08F228/02 ,  C08F232/04 ,  C08F236/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition comprising as the base resin a blend of a fluorinated polymer which is sensitive to high-energy radiation and highly transparent at a wavelength of up to 200 nm and a sulfonate-containing polymer exhibiting a high contrast upon alkali dissolution is improved in transparency and alkali dissolution contrast as well as plasma etching resistance.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物包含作为基础树脂的在高达200nm的波长下对高能量辐射敏感且高度透明的含氟聚合物的共混物和在碱溶解时显示出高对比度的含磺酸盐的聚合物的透明度 和碱溶性对比度以及等离子体耐蚀刻性。

公开(公告)号：US06730451B2

公开(公告)日：2004-05-04

申请号：US09735521

申请日：2000-12-14

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada

IPC分类号： G03F7038

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0395 ,  G03F7/0397 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： Polymers comprising recurring units of an acrylic derivative of fluorinated backbone represented by formula (1) are novel. R1, R2 and R3 are independently H, F, C1-20 alkyl or fluorinated C1-20 alkyl, at least one of R1, R2 and R3 contains fluorine, and R4 is an acid labile group. Using such polymers, resist compositions featuring low absorption of F2 excimer laser light are obtained.

摘要翻译： 包含由式（1）表示的氟化主链的丙烯酸衍生物的重复单元的聚合物是新颖的.R 1，R 2和R 3独立地是H，F，C 1-20烷基或氟化C 1-20烷基 ，R 1，R 2和R 3中的至少一个含有氟，R 4是酸不稳定基团。 使用这种聚合物，获得具有F2准分子激光的低吸收性的抗蚀剂组合物。

公开(公告)号：US06710148B2

公开(公告)日：2004-03-23

申请号：US10068298

申请日：2002-02-08

申请人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Yuji Harada ,  Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yoshio Kawai ,  Masaru Sasago ,  Masayuki Endo ,  Shinji Kishimura ,  Michitaka Ootani ,  Satoru Miyazawa ,  Kentaro Tsutsumi ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： C08F11800

CPC分类号： G03F7/0395 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： A copolymer of an acrylate monomer containing fluorine at &agr;-position with a norbornene derivative is highly transparent to VUV radiation and resistant to dry etching. A resist composition using the resin as a base polymer is sensitive to high-energy radiation below 200 nm, has excellent sensitivity, and is suited for lithographic microprocessing.

摘要翻译： 在α-位含氟的丙烯酸酯单体与降冰片烯衍生物的共聚物对VUV辐射是高度透明的并且耐干蚀刻。 使用树脂作为基础聚合物的抗蚀剂组合物对于低于200nm的高能辐射敏感，具有优异的灵敏度，并且适用于光刻微处理。

公开(公告)号：US06461790B1

公开(公告)日：2002-10-08

申请号：US09658604

申请日：2000-09-08

申请人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada ,  Mutsuo Nakashima ,  Masaru Sasago ,  Shinji Kishimura

发明人： Jun Hatakeyama ,  Jun Watanabe ,  Yuji Harada ,  Mutsuo Nakashima ,  Masaru Sasago ,  Shinji Kishimura

IPC分类号： G03F7039

CPC分类号： G03F7/0046 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106

摘要： Polymers comprising fluorinated vinyl phenol units and having acid labile groups partially introduced are novel. Using such polymers, resist compositions featuring transparency to excimer laser and alkali solubility are obtained.

摘要翻译： 包含氟化乙烯基苯酚单元和部分引入酸不稳定基团的聚合物是新颖的。 使用这种聚合物，获得具有对准分子激光的透明度和碱溶性的抗蚀剂组合物。