公开(公告)号：US20090066970A1

公开(公告)日：2009-03-12

申请号：US12154051

申请日：2008-05-20

申请人： Gerd Scheuring ,  Hans-Artur Boesser ,  Wolfgang Sulik ,  Michael Heiden ,  Walter Steinberg

发明人： Gerd Scheuring ,  Hans-Artur Boesser ,  Wolfgang Sulik ,  Michael Heiden ,  Walter Steinberg

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G01B11/02

摘要： A method and a device for improving the measurement accuracy in the nm range for optical systems are disclosed. The object is provided with a plurality of structures oriented in the X and Y-coordinate direction. The light beam coming from at least one light source defines an optical illumination path.

摘要翻译： 公开了一种用于提高光学系统的nm范围内的测量精度的方法和装置。 该物体具有在X和Y坐标方向上定向的多个结构。 来自至少一个光源的光束限定光学照明路径。

公开(公告)号：US20080192264A1

公开(公告)日：2008-08-14

申请号：US12015437

申请日：2008-01-16

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B9/02027 ,  G01B9/02012 ,  G01B9/02082 ,  G01B11/002 ,  G03F1/84 ,  G03F7/70625

摘要： Device for measuring the position of a structure on an object 30 with at least one laser interferometer system 29 to determine a positional displacement of the object 30 in at least one spatial direction, whereby the object is placed on a stage which is translatable in the X and Y coordinate direction An illumination device is provided, which illuminates the structures to be measured. The structure is imaged on a detector 34 via a high-resolution microscope optics in incident light and/or transmitted light in the near UV spectral range. The illumination device is an excimer laser, a frequency multiplied solid-state or gas laser, or an excimer lamp.

摘要翻译： 用于利用至少一个激光干涉仪系统29测量物体30上的结构的位置的装置，以确定物体30在至少一个空间方向上的位置偏移，由此物体被放置在可在X 和Y坐标方向设置照明装置，其照亮待测量的结构。 该结构通过在近紫外光谱范围内的入射光和/或透射光中的高分辨率显微镜光学器件在检测器34上成像。 照明装置是准分子激光器，倍频固态或气体激光器或准分子灯。

公开(公告)号：US20070046949A1

公开(公告)日：2007-03-01

申请号：US11467410

申请日：2006-08-25

申请人： Michael Heiden ,  Hans-Arthur Boesser

发明人： Michael Heiden ,  Hans-Arthur Boesser

IPC分类号： G01B11/02

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G01B9/02058 ,  G01B11/026 ,  G03F7/70883

摘要： The present invention relates to a reference-beam interferometer for determining the position of a traversable stage, wherein an evacuated tube is inserted into the longer of the two interferometer legs. The tube is closed off by windows, which have a negative coefficient of thermal expansion and which can have a coating for reflecting heat radiation. Moreover, thermal compensation plates are inserted into the shorter of the two beam paths.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于确定可移动台的位置的参考光束干涉仪，其中抽真空管插入到两个干涉仪腿的较长的一侧。 管子由窗户封闭，这些窗户具有负的热膨胀系数，并且可以具有用于反射热辐射的涂层。 此外，热补偿板插入两个光束路径中较短的一个。

公开(公告)号：US20070035850A1

公开(公告)日：2007-02-15

申请号：US11500502

申请日：2006-08-08

申请人： Lambert Danner ,  Michael Heiden

发明人： Lambert Danner ,  Michael Heiden

IPC分类号： G02B21/02

CPC分类号： G02B21/0016 ,  G01B9/04 ,  G01N21/8806 ,  G02B26/06 ,  G03F7/70633

摘要： In the production of semiconductor or other components, the structures are normally manufactured in different planes. In the orientation of these planes relative to each other a displacement or alignment is examined, among other things, and detected as an overlay defect. To reduce a systematic measuring defect a measuring device (10) is provided for measuring the overlay defect. This device has an illuminating device (12), a lens or objective (14) for focusing radiation from the illuminating device (12) onto the object (16) and a tube lens (18) for imaging the radiation onto a sensor unit (20). A compensator (22), in which the wave fronts of the incident radiation are tilted with spectral variation such that the axial transverse chromatic aberration is compensated for, is provided in the path of rays of the measuring device (10).

摘要翻译： 在半导体或其他部件的制造中，通常在不同的平面上制造结构。 在这些平面相对于彼此的方向上，检查位移或对准，并且被检测为覆盖缺陷。 为了减少系统的测量缺陷，提供了用于测量覆盖缺陷的测量装置（10）。 该装置具有照明装置（12），用于将来自照明装置（12）的辐射聚焦到物体（16）上的透镜或物镜（14）和用于将辐射成像到传感器单元（20）上的管透镜 ）。 在测量装置（10）的射线的路径中设置补偿器（22），其中入射辐射的波前沿光谱变化倾斜以使轴向横向色像差被补偿。

公开(公告)号：US08390927B2

公开(公告)日：2013-03-05

申请号：US12154728

申请日：2008-05-27

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G02B27/28

CPC分类号： G02B5/3025 ,  G02B3/0056

摘要： Element for homogenizing the illumination with simultaneous setting of the polarization degree, wherein the element consists of at least two components. The first component is a microlens array, and the second component is a filter for setting the desired polarization.

摘要翻译： 用于通过同时设置偏振度使照明均匀化的元件，其中元件由至少两个部件组成。 第一组件是微透镜阵列，第二组件是用于设置所需偏振的滤光器。

公开(公告)号：US08305587B2

公开(公告)日：2012-11-06

申请号：US12806405

申请日：2010-08-12

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/14

CPC分类号： G01B11/03 ,  G01B11/24

摘要： A metrology tool (1) for measuring the positions of structures (32) on a mask surface (31) is disclosed. On a measuring stage (33) a reflector (36) selective with respect to the wavelength is provided, which essentially reflects light within a first wavelength region emitted from a first illumination device (10), and essentially does not reflect light within a second wavelength region emitted from a second illumination device (20). The reflector (36) selective with respect to the wavelength preferentially is a dichroic mirror. By detecting the light within the first wavelength region reflected by the reflector (36) the position of predefined sections of outer edges (37) of the mask is determined. The light from the second wavelength region is used for determining the coordinates of structures on the mask. Due to the selectivity with respect to the wavelength of the reflector (36) this determination of coordinates is not perturbed by a reflection of the light within the second wavelength region from the reflector (36).

摘要翻译： 公开了一种用于测量掩模表面（31）上的结构（32）的位置的计量工具（1）。 在测量台（33）上，提供了相对于波长选择性的反射器（36），其基本上反射从第一照明装置（10）发射的第一波长区域内的光，并且基本上不反射第二波长内的光 从第二照明装置（20）发射的区域。 相对于波长选择性的反射器（36）优选是二向色镜。 通过检测由反射器（36）反射的第一波长区域内的光，确定掩模的外边缘（37）的预定部分的位置。 来自第二波长区域的光用于确定掩模上的结构的坐标。 由于相对于反射器（36）的波长的选择性，这种坐标的确定不会受到来自反射器（36）的第二波长区域内的光的反射的干扰。

公开(公告)号：US20110090483A1

公开(公告)日：2011-04-21

申请号：US12806405

申请日：2010-08-12

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： G01B11/03 ,  G01J3/00 ,  G01B11/24

CPC分类号： G01B11/03 ,  G01B11/24

摘要： A metrology tool (1) for measuring the positions of structures (32) on a mask surface (31) is disclosed. On a measuring stage (33) a reflector (36) selective with respect to the wavelength is provided, which essentially reflects light within a first wavelength region emitted from a first illumination device (10), and essentially does not reflect light within a second wavelength region emitted from a second illumination device (20). The reflector (36) selective with respect to the wavelength preferentially is a dichroic mirror. By detecting the light within the first wavelength region reflected by the reflector (36) the position of predefined sections of outer edges (37) of the mask is determined. The light from the second wavelength region is used for determining the coordinates of structures on the mask. Due to the selectivity with respect to the wavelength of the reflector (36) this determination of coordinates is not perturbed by a reflection of the light within the second wavelength region from the reflector (36).

摘要翻译： 公开了一种用于测量掩模表面（31）上的结构（32）的位置的计量工具（1）。 在测量台（33）上，提供了相对于波长选择性的反射器（36），其基本上反射从第一照明装置（10）发射的第一波长区域内的光，并且基本上不反射第二波长内的光 从第二照明装置（20）发射的区域。 相对于波长选择性的反射器（36）优选是二向色镜。 通过检测由反射器（36）反射的第一波长区域内的光，确定掩模的外边缘（37）的预定部分的位置。 来自第二波长区域的光用于确定掩模上的结构的坐标。 由于相对于反射器（36）的波长的选择性，这种坐标的确定不会受到来自反射器（36）的第二波长区域内的光的反射的干扰。

公开(公告)号：US07602824B2

公开(公告)日：2009-10-13

申请号：US11400107

申请日：2006-04-06

申请人： Michael Heiden

发明人： Michael Heiden

IPC分类号： H01S3/30 ,  H01S3/10

CPC分类号： H01S3/005 ,  G02F1/37 ,  G03F7/70575

摘要： The present invention broadly comprises a device for supplying light at an illumination wavelength shorter than 300 nm. The device includes a first subassembly, having a light source for delivering light at a wavelength that is at least twice as long as the illumination wavelength; a second subassembly having at least one means for wavelength reduction; and a light guide that guides the light from the light source of the first subassembly into the second subassembly. The present invention also broadly comprises a method for supplying light at an illumination wavelength shorter than 300 nm.

摘要翻译： 本发明广泛地包括用于以短于300nm的照明波长提供光的装置。 该装置包括第一子组件，其具有用于以至少两倍于照明波长的波长传送光的光源; 具有至少一个用于波长减小的装置的第二子组件; 以及将来自第一子组件的光源的光引导到第二子组件中的光导。 本发明还广泛地包括一种在短于300nm的照明波长下提供光的方法。

公开(公告)号：US20090225414A1

公开(公告)日：2009-09-10

申请号：US12083108

申请日：2006-09-24

申请人： Michael Heiden ,  Wolfgang Vollrath

发明人： Michael Heiden ,  Wolfgang Vollrath

IPC分类号： G02B21/10

CPC分类号： G02B21/10

摘要： The invention relates to an objective for a microscope for dark field microscopy having alternating illumination with grazing incidence. A dark field objective is shown having a front lens for receiving light from a sample and having a dark field illumination device for guiding illumination light onto the sample, the dark field illumination device comprising at least one pair of light decoupling elements, which are each situated in pairs around the front lens opposite to the optical axis for counter parallel illumination of the sample.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于暗视野显微镜的显微镜的目标，其具有具有掠入射的交替照明。 暗场物镜被示出具有用于接收来自样品的光的前透镜，并具有用于将照明光引导到样品上的暗场照明装置，该暗场照明装置包括至少一对光去耦元件， 成对地围绕与镜片相反的前透镜，用于样品的平行平行照明。

公开(公告)号：US20090031572A1

公开(公告)日：2009-02-05

申请号：US12220808

申请日：2008-07-29

申请人： Hans-Artur Boesser ,  Michael Heiden ,  Klaus-Dieter Adam

发明人： Hans-Artur Boesser ,  Michael Heiden ,  Klaus-Dieter Adam

IPC分类号： G01B5/008

CPC分类号： G01B11/005 ,  G01B9/02052 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/681

摘要： A coordinate measuring machine (1) for measuring structures (3) on a substrate (2) including a measurement table (20) movable in the X-coordinate direction and in the Y-coordinate direction, a measurement objective (9), at least one laser interferometer (24) for determining the position of the measurement table (20) and the measurement objective (9) wherein the measurement table (20), the measurement objective (9) and the at least one laser interferometer (24) are arranged in a vacuum chamber (50).

摘要翻译： 一种用于在基板（2）上测量结构（3）的坐标测量机（1），包括：在X坐标方向和Y坐标方向上可移动的测量台（20），至少测量目标 一个用于确定测量表（20）和测量目标（9）的位置的激光干涉仪（24），其中测量表（20），测量目标（9）和至少一个激光干涉仪（24）被布置 在真空室（50）中。