公开(公告)号：US4967386A

公开(公告)日：1990-10-30

申请号：US340890

申请日：1989-04-19

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Sadao Shimoyashiro

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Sadao Shimoyashiro

IPC分类号： B23Q41/08 ,  G05B15/02 ,  G05B19/418 ,  G06F17/50 ,  G06F19/00

CPC分类号： G06F17/5009 ,  G05B19/41885 ,  Y02P90/26

摘要： A simulation method includes a step of modifying a model in a simulation process, a step of detecting elements influenced by the model modification, and a step of performing a resimulation process while returning to the earliest one of the influenced elements. According to the disclosed method, a resimulation process associated with the model modificaiton can be realized in a short time without the inconvenience of the prior art in which the resimulation is carried out with a waste of time even for elements which are not influenced by the model modification or elements which need not to be subjected to the resimulation.

摘要翻译： 模拟方法包括在模拟处理中修改模型的步骤，检测受模型修改影响的元素的步骤，以及在返回到最早的受影响元素期间执行重新启动过程的步骤。 根据所公开的方法，可以在短时间内实现与模型修改相关联的重新启动过程，而不会造成即使对于不受模型影响的元素也浪费时间的现有技术的不便， 修改或不需要进行复制的元素。

公开(公告)号：US09505866B2

公开(公告)日：2016-11-29

申请号：US14003153

申请日：2012-03-23

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Takahiro Nakamura ,  Hironori Matsuyama

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Takahiro Nakamura ,  Hironori Matsuyama

IPC分类号： C08L51/04 ,  C08F265/04 ,  C08L51/00

CPC分类号： C08F265/04 ,  C08L51/003 ,  C08L51/04 ,  C08L2205/02 ,  C08F212/08 ,  C08F220/44

摘要： An acrylic rubber graft copolymer is obtained by graft polymerizing a vinyl monomer in the presence of a rubbery polymer including acrylate ester monomer units and polyfunctional monomer units, wherein the total amount of the polyfunctional monomer units in the rubbery polymer is 0.3 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylate ester monomer units, and the polyfunctional monomer units include 30 to 95 mass % of polyfunctional monomer units having two unsaturated bonds and 5 to 70 mass % of polyfunctional monomer units having three unsaturated bonds with respect to 100 mass % of the total of the polyfunctional monomer units. A thermoplastic resin composition includes the acrylic rubber graft copolymer.

摘要翻译： 通过在包含丙烯酸酯单体单元和多官能单体单元的橡胶状聚合物存在下将乙烯基单体接枝聚合而得到丙烯酸系橡胶接枝共聚物，其中，橡胶状聚合物中的多官能单体单元的总量为0.3〜3质量份 相对于100质量份的丙烯酸酯单体单元，多官能单体单元包含30〜95质量％的具有2个不饱和键的多官能单体单元和5〜70质量％的具有3个不饱和键的多官能单体单元相对于 100质量％的多官能单体单元。 热塑性树脂组合物包括丙烯酸橡胶接枝共聚物。

公开(公告)号：US09053924B2

公开(公告)日：2015-06-09

申请号：US12898185

申请日：2010-10-05

申请人： Soichi Kumon ,  Takashi Saio ,  Shinobu Arata ,  Hidehisa Nanai ,  Yoshinori Akamatsu ,  Shigeo Hamaguchi ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Soichi Kumon ,  Takashi Saio ,  Shinobu Arata ,  Hidehisa Nanai ,  Yoshinori Akamatsu ,  Shigeo Hamaguchi ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： H01L21/02 ,  B08B3/00 ,  C11D3/16 ,  C11D7/50 ,  H01L21/00 ,  C09D183/04

CPC分类号： H01L21/02052 ,  B08B3/00 ,  C09D183/04 ,  C11D3/162 ,  C11D7/5022 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02054

摘要： A cleaning agent for a silicon wafer (a first cleaning agent) contains at least a water-based cleaning liquid and a water-repellent cleaning liquid for providing at least a recessed portion of an uneven pattern with water repellency during a cleaning process. The water-based cleaning liquid is a liquid in which a water-repellent compound having a reactive moiety chemically bondable to Si element in the silicon wafer and a hydrophobic group, and an organic solvent including at least an alcoholic solvent are mixed and contained. With this cleaning agent, the cleaning process which tends to induce a pattern collapse can be improved.

摘要翻译： 一种用于硅晶片（第一清洁剂）的清洁剂至少含有一种水基清洗液和一种防水清洗液，用于在清洁过程中至少提供具有防水性的凹凸图案的凹陷部分。 水性清洗液是将具有与硅晶片中的Si元素和疏水性基团化学结合的反应性部分的防水化合物和至少含有醇溶剂的有机溶剂混合并包含的液体。 利用该清洁剂，可以提高倾向于引起图案塌陷的清洁处理。

公开(公告)号：US09020264B2

公开(公告)日：2015-04-28

申请号：US13636810

申请日：2011-11-16

申请人： Kazuhiko Maeda

发明人： Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G06K9/00 ,  G06F17/30

CPC分类号： G06F17/30259

摘要： An image management device clusters acquired images (S201) and generates blocks by grouping the images (S202). Next, the image management device calculates an intra-block importance degree of each cluster in each generated block (S204), calculates cluster importance degrees by accumulating the calculated intra-block importance degrees of each cluster (S205), and calculates an image importance degree based on the calculated cluster importance degrees (S206).

摘要翻译： 图像管理装置对所获取的图像进行聚类（S201），并通过对图像进行分组来生成块（S202）。 接下来，图像管理装置计算每个生成块中的每个簇的块内重要度（S204），通过累积所计算的每个簇的块内重要度来计算聚类重要度（S205），并计算图像重要度 基于所计算的聚类重要度（S206）。

公开(公告)号：US08724961B2

公开(公告)日：2014-05-13

申请号：US12759870

申请日：2010-04-14

申请人： Kazuhiko Maeda

发明人： Kazuhiko Maeda

IPC分类号： H04N9/80

CPC分类号： G11B27/105 ,  G11B27/034 ,  G11B27/34 ,  G11B2220/215 ,  G11B2220/2541 ,  H04N21/4147 ,  H04N21/4826

摘要： A terminal device, upon each receiving of an operation regarding a viewing of a content from a user, stores history information indicating the history thereof. Then upon receiving an instruction for writing a content onto an external recording medium, the terminal device creates preference information based on the history information having been collected therein. The terminal device then writes the content specified by the writing instruction and the created preference information onto the external recording medium.

摘要翻译： 终端设备每当接收到关于从用户观看内容的操作时，存储指示其历史的历史信息。 然后，当接收到用于将内容写入外部记录介质的指令时，终端设备基于其中收集的历史信息来创建偏好信息。 然后，终端设备将由写入指令指定的内容和创建的偏好信息写入外部记录介质。

公开(公告)号：US08686098B2

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：US13375026

申请日：2010-05-20

申请人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Masashi Nagamori ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Masashi Nagamori ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： C08F12/20 ,  C08F216/12 ,  C07C69/34 ,  G03F7/004 ,  G03F7/40

CPC分类号： C07C69/653 ,  C07C69/675 ,  C07C69/732 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/68 ,  C08F220/24 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041

摘要： A fluorine-containing polymer of the present invention contains a repeating unit (a) of the general formula (2) and has a mass-average molecular weight of 1,000 to 1,000,000. This polymer is suitably used in a resist composition for pattern formation by high energy ray radiation of 300 nm or less wavelength or electron beam radiation or a top coat composition for liquid immersion lithography and is characterized as having high water repellency, notably high receding contact angle. In the formula, R1 represents a polymerizable double bond-containing group; R2 represents a fluorine atom or a fluorine-containing alkyl group; R8 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or the like; and W1 represents a single bond, a substituted or unsubstituted methylene group or the like.

摘要翻译： 本发明的含氟聚合物含有通式（2）的重复单元（a），其质均分子量为1,000〜1,000,000。 该聚合物适用于通过300nm或更小波长或电子束辐射的高能量射线辐射或用于液浸光刻的面漆组合物的图案形成用抗蚀剂组合物，其特征在于具有高的拒水性，特别是高后退接触角 。 在该式中，R 1表示含有可聚合双键的基团; R2表示氟原子或含氟烷基; R8表示取代或未取代的烷基等; W1表示单键，取代或未取代的亚甲基等。

公开(公告)号：US08663897B2

公开(公告)日：2014-03-04

申请号：US13121315

申请日：2009-10-08

申请人： Takashi Masubuchi ,  Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

发明人： Takashi Masubuchi ,  Kazunori Mori ,  Yuji Hagiwara ,  Satoru Narizuka ,  Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07C303/32 ,  C07C309/20 ,  C08F220/24 ,  G03F7/039

CPC分类号： C07C303/32 ,  C07C309/12 ,  C07C309/20 ,  C07C381/12 ,  C08F220/24 ,  C08F220/38 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/30 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111 ,  C08F220/28

摘要： According to the present invention, there is provided a polymerizable fluorine-containing sulfonic acid onium salt of the following general formula (2) and a resin obtained by polymerization thereof. It is possible by the use of this sulfonate resin of the present invention to provide a resist composition with high resolution, board depth of focus tolerance (DOF), small line edge roughness (LER) and high sensitivity. In the formula, Z represents a substituted or unsubstituted C1-C6 straight or branched alkylene group, or a divalent moiety in which substituted or unsubstituted C1-C6 straight or branched alkylene groups are bonded in series to a divalent group obtained by elimination of two hydrogen atoms from an alicyclic or aromatic hydrocarbon; R represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-C3 alkyl or fluorine-containing alkyl group; and Q+ represents a sulfonium cation or an iodonium cation.

摘要翻译： 根据本发明，提供了以下通式（2）的可聚合的含氟磺酸鎓盐和通过其聚合获得的树脂。 通过使用本发明的磺酸树脂可以提供具有高分辨率，板聚焦偏差（DOF），小线边缘粗糙度（LER）和高灵敏度的抗蚀剂组合物。 在该式中，Z表示取代或未取代的C1-C6直链或支链亚烷基或其中取代或未取代的C1-C6直链或支链亚烷基与通过除去两个氢而获得的二价基团串联结合的二价部分 来自脂环族或芳族烃的原子; R表示氢原子，卤素原子或C1-C3烷基或含氟烷基; Q +表示锍阳离子或碘鎓阳离子。

公开(公告)号：US20130345362A1

公开(公告)日：2013-12-26

申请号：US14003153

申请日：2012-03-23

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Takahiro Nakamura ,  Hironori Matsuyama

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Takahiro Nakamura ,  Hironori Matsuyama

IPC分类号： C08F265/04 ,  C08L51/04

CPC分类号： C08F265/04 ,  C08L51/003 ,  C08L51/04 ,  C08L2205/02 ,  C08F212/08 ,  C08F220/44

摘要： [Object] To provide acrylic rubber graft copolymers capable of giving thermoplastic resin compositions exhibiting excellent impact resistance, rigidity and appearance, and to provide thermoplastic resin compositions including the acrylic rubber graft copolymers.[Solution] An acrylic rubber graft copolymer is obtained by graft polymerizing a vinyl monomer in the presence of a rubbery polymer including acrylate ester monomer units and polyfunctional monomer units, wherein the total amount of the polyfunctional monomer units in the rubbery polymer is 0.3 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the acrylate ester monomer units, and the polyfunctional monomer units include 30 to 95 mass % of polyfunctional monomer units having two unsaturated bonds and 5 to 70 mass % of polyfunctional monomer units having three unsaturated bonds with respect to 100 mass % of the total of the polyfunctional monomer units. A thermoplastic resin composition includes the acrylic rubber graft copolymer.

摘要翻译： 提供能够提供耐冲击性，刚性和外观优异的热塑性树脂组合物的丙烯酸橡胶接枝共聚物，以及提供包含丙烯酸橡胶接枝共聚物的热塑性树脂组合物。 [溶液]丙烯酸橡胶接枝共聚物通过在包含丙烯酸酯单体单元和多官能单体单元的橡胶状聚合物存在下将乙烯基单体接枝聚合而获得，其中橡胶状聚合物中多官能单体单元的总量为0.3〜3 相对于100质量份丙烯酸酯单体单元为质量份，多官能单体单元包含30〜95质量％的具有2个不饱和键的多官能单体单元和5〜70质量％的具有3个不饱和键的多官能单体单元 相对于多官能单体单元的100质量％。 热塑性树脂组合物包括丙烯酸橡胶接枝共聚物。

公开(公告)号：US20130010154A1

公开(公告)日：2013-01-10

申请号：US13636810

申请日：2011-11-16

申请人： Kazuhiko Maeda

发明人： Kazuhiko Maeda

IPC分类号： G06K9/46 ,  H04N5/225

CPC分类号： G06F17/30259

摘要： An image management device clusters acquired images (S201) and generates blocks by grouping the images (S202). Next, the image management device calculates an intra-block importance degree of each cluster in each generated block (S204), calculates cluster importance degrees by accumulating the calculated intra-block importance degrees of each cluster (S205), and calculates an image importance degree based on the calculated cluster importance degrees (S206).

摘要翻译： 图像管理装置对所获取的图像进行聚类（S201），并通过对图像进行分组来生成块（S202）。 接下来，图像管理装置计算每个生成块中的每个簇的块内重要度（S204），通过累积所计算的每个簇的块内重要度来计算聚类重要度（S205），并计算图像重要度 基于所计算的聚类重要度（S206）。

公开(公告)号：US08283106B2

公开(公告)日：2012-10-09

申请号：US12740780

申请日：2008-10-31

申请人： Kazuhiko Maeda ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka

发明人： Kazuhiko Maeda ,  Yoshimi Isono ,  Satoru Narizuka

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/30 ,  C07C271/24 ,  C07C309/15

CPC分类号： C07C309/59 ,  C07C309/12 ,  C07C381/12 ,  C07C2601/14 ,  C07C2603/74 ,  C07D207/46 ,  C09D133/14 ,  C09D133/16 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397

摘要： Disclosed is a fluorinated sulfonic acid salt or fluorinated sulfonic acid group-containing compound having a structure represented by the following general formula (A). In the formula, n indicates an integer of 1 to 10; R indicates a substituted or unsubstituted C1-C20 linear, branched or cyclic alkyl group, a substituted or unsubstituted C1-C20 linear, branched or cyclic alkenyl group, a substituted or unsubstituted C6-C15 aryl group, or a C4-C15 heteroaryl group; and a indicates 1 or 0. A photoacid generator containing the above fluorinated sulfonic acid salt or fluorinated sulfonic acid group-containing compound shows high sensitivity to an ArF excimer laser or the like, presents no concerns about human body accumulation, can generate an acid (photoacid) of sufficiently high acidity, and exhibits high solubility in a resist solvent and good compatibility with a resist resin.

摘要翻译： 公开了具有由以下通式（A）表示的结构的氟化磺酸盐或含氟磺酸基化合物。 在该式中，n表示1〜10的整数， R表示取代或未取代的C1-C20直链，支链或环状烷基，取代或未取代的C1-C20直链，支链或环状烯基，取代或未取代的C6-C15芳基或C4-C15杂芳基; a表示1或0.含有上述含氟磺酸盐或含氟磺酸基的化合物的光酸产生剂对ArF准分子激光等具有高灵敏度，不关于人体积累，可产生酸（ 光酸），并且在抗蚀剂溶剂中表现出高溶解性和与抗蚀剂树脂的良好相容性。