公开(公告)号：US08908146B2

公开(公告)日：2014-12-09

申请号：US12867041

申请日：2009-03-09

申请人： Hans Butler

发明人： Hans Butler

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70716 ,  G03F7/70766

摘要： An actuator system is disclosed having a first actuator (XP1) and a second actuator (XP2) configured to control a relative position of optical components of a lithographic apparatus. The first actuator (XP1) is configured to provide a displacement, parallel to an actuation direction, between a mounting point of a first component of the lithographic apparatus and a second component of the lithographic apparatus. The second actuator (XP2) is configured to provide a displacement parallel to the actuation direction between a reference mass (M1) associated with the second actuator (XP2) and the mounting point of the first component of the lithographic apparatus. The second actuator (XP2) may be driven such that the displacement between the second actuator (XP2) and the reference mass (M1) increases the apparent stiffness of the first actuator (XP1).

摘要翻译： 公开了具有第一致动器（XP1）和第二致动器（XP2）的致动器系统，其被配置为控制光刻设备的光学部件的相对位置。 第一致动器（XP1）被配置为在光刻设备的第一部件的安装点和光刻设备的第二部件之间提供平行于致动方向的位移。 第二致动器（XP2）构造成提供平行于与第二致动器（XP2）相关联的参考质量（M1）与光刻设备的第一部件的安装点之间的致动方向的位移。 可以驱动第二致动器（XP2），使得第二致动器（XP2）和参考质量（M1）之间的位移增加第一致动器（XP1）的表观刚度。

公开(公告)号：US08854607B2

公开(公告)日：2014-10-07

申请号：US13275737

申请日：2011-10-18

申请人： Ramidin Izair Kamidi ,  Hans Butler ,  Martijn Houkes ,  Marinus Maria Johannes Van De Wal ,  Jeroen Johan Maarten Van De Wijdeven

发明人： Ramidin Izair Kamidi ,  Hans Butler ,  Martijn Houkes ,  Marinus Maria Johannes Van De Wal ,  Jeroen Johan Maarten Van De Wijdeven

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/62 ,  G05B19/402 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G05B19/402 ,  G05B2219/41017 ,  G05B2219/45028 ,  Y02P90/265

摘要： A controller is provided that controls an actuator system having a plurality of actuators arranged to act on an object. The controller uses a gain balancing matrix to convert a first control signal, representing a set of forces desired to be provided to the center of gravity of the object into a second control signal, representing an equivalent set of forces to be provided by the plurality of actuators. The system is further configured such that a first gain balancing matrix is used at a first frequency band and a second gain balancing matrix is used at a second frequency band.

摘要翻译： 提供了一种控制器，其控制具有布置成作用在物体上的多个致动器的致动器系统。 控制器使用增益平衡矩阵来转换第一控制信号，其表示期望被提供给对象的重心的一组力到第二控制信号中，第一控制信号表示将由多个 执行器。 该系统还被配置为使得在第一频带使用第一增益平衡矩阵，并且在第二频带使用第二增益平衡矩阵。

公开(公告)号：US08493553B2

公开(公告)日：2013-07-23

申请号：US12479145

申请日：2009-06-05

申请人： Hans Butler ,  Martinus Van Duijnhoven ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

发明人： Hans Butler ,  Martinus Van Duijnhoven ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03B27/62 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/709

摘要： A lithographic apparatus including a projection system configured to project a patterned radiation beam onto a target portion of a substrate; a metrology frame supported by a vibration isolation support device; an object movable with respect to the metrology frame; and a displacement determining unit to determine positions, speeds and/or accelerations of the object with respect to the metrology frame and/or the projection system. At least one actuator is provided for applying correcting forces and/or torques on the metrology frame, and a controller is provided which is configured to calculate the correcting forces and/or torques to be applied to the metrology frame based on the determined positions, speeds and/or accelerations of the object in order to compensate for pressure pulses exerted on the metrology frame due to movements of the object with respect to the metrology frame.

摘要翻译： 一种光刻设备，包括投影系统，该投影系统被配置为将图案化的辐射束投影到基板的目标部分上; 由隔振支撑装置支撑的计量框架; 相对于计量框架可移动的物体; 以及位移确定单元，用于确定物体相对于计量框架和/或投影系统的位置，速度和/或加速度。 提供至少一个致动器用于在计量框架上施加校正力和/或扭矩，并且提供控制器，该控制器被配置为基于所确定的位置，速度来计算要施加到计量框架的校正力和/或扭矩 和/或物体的加速度，以便补偿由于物体相对于计量框架的移动而施加在计量框架上的压力脉冲。

公开(公告)号：US20110153265A1

公开(公告)日：2011-06-23

申请号：US12969289

申请日：2010-12-15

申请人： Frank STAALS ,  Hans Butler ,  Gerardus Carolus Johannus Hofmans ,  Hans Van Der Laan ,  Sven Gunnar Krister Magnusson

发明人： Frank STAALS ,  Hans Butler ,  Gerardus Carolus Johannus Hofmans ,  Hans Van Der Laan ,  Sven Gunnar Krister Magnusson

IPC分类号： G01B11/14 ,  G06F15/00

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70666 ,  G03F7/70725 ,  G03F9/7088

摘要： Movements of a lithographic apparatus include dynamic positioning errors on one or more axes which cause corresponding errors which can be measured in the applied pattern. A test method includes operating the apparatus several times while deliberately imposing a relatively large dynamic positioning error at different specific frequencies and axes. Variations in the error in the applied pattern are measured for different frequencies and amplitudes of the injected error across a frequency band of interest for a given axis or axes. Calculation using said measurements and knowledge of the frequencies injected allows analysis of dynamic positioning error variations in frequency bands correlated with each injected error frequency.

摘要翻译： 光刻设备的运动包括在一个或多个轴上的动态定位误差，其产生可以在所施加的图案中测量的相应误差。 测试方法包括多次操作该设备，同时在不同的特定频率和轴处故意施加相对大的动态定位误差。 对于给定的轴或轴，针对感兴趣的频带的注入误差的不同频率和幅度测量所应用模式中的误差的变化。 使用所述测量和所注入的频率的知识的计算允许分析与每个注入的错误频率相关的频带中的动态定位误差变化。

公开(公告)号：US20110001951A1

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：US12920799

申请日：2009-03-02

申请人： Hans Butler

发明人： Hans Butler

IPC分类号： G03B27/54 ,  G05B11/06

CPC分类号： G03F7/70725

摘要： A drive system for controllably driving an electric actuator includes a current sensor system to sense a current conducted by the actuator and a driver to electrically drive the actuator based on an output signal of the current sensor system. The current sensor system includes at least a first and a second %forwardcurrent sensor that have a mutually different sensitivity for the current to be sensed and the drive system includes a current sensor controller to control an extent to which each of the current sensors to determine the output signal of the current sensor system.

摘要翻译： 用于可控地驱动电致动器的驱动系统包括用于感测由致动器传导的电流的电流传感器系统和用于基于当前传感器系统的输出信号电驱动致动器的驱动器。 当前传感器系统包括至少第一和第二％正向电流传感器，其对于要被感测的电流具有相互不同的灵敏度，并且驱动系统包括电流传感器控制器，以控制每个电流传感器确定 输出信号。

公开(公告)号：US07847919B2

公开(公告)日：2010-12-07

申请号：US11730189

申请日：2007-03-29

申请人： Hans Butler

发明人： Hans Butler

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/62 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/70725 ,  G03F7/70775

摘要： An optical component of the lithographic apparatus is moved. A substrate support is moved so as to be synchronous with the motion of the optical component. A momentary position of the optical component is measured. A momentary position of the substrate support is measured at a first sampling rate. The measured momentary position of the optical component is compared with a desired momentary position of the optical component to generate an optical component position error signal in accordance with a difference between the two optical component positions. The measured momentary position of the substrate support is compared with a desired momentary position of the substrate support to generate a substrate support position error signal in accordance with a difference between the two substrate support positions. The momentary position of the optical component is adjusted so as to compensate for the difference between the two substrate support positions.

摘要翻译： 移动光刻设备的光学部件。 移动基板支撑件以与光学部件的运动同步。 测量光学部件的瞬时位置。 以第一采样率测量衬底支撑件的瞬时位置。 将光学部件的测量的瞬时位置与光学部件的期望的瞬时位置进行比较，以根据两个光学部件位置之间的差异产生光学部件位置误差信号。 将基板支撑件的测量的瞬时位置与基板支撑件的期望的瞬时位置进行比较，以根据两个基板支撑位置之间的差异产生基板支撑位置误差信号。 调整光学部件的瞬时位置，以便补偿两个基板支撑位置之间的差异。

公开(公告)号：US20100089712A1

公开(公告)日：2010-04-15

申请号：US12574573

申请日：2009-10-06

申请人： Hans Butler ,  Cornelius Adrianus,Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Cornelius Adrianus,Lambertus De Hoon

IPC分类号： F16F7/10 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  F16F7/1011 ,  G03F7/709

摘要： A projection assembly includes a projection system to project a patterned radiation beam onto a substrate, a damping system to dampen a vibration of the projection system, the damping system including an interface damping mass and an active damping subsystem to dampen a vibration of at least part of the interface damping mass, the interface damping mass connected to the projection system, the active damping subsystem including a sensor to measure a position of the interface damping mass, an electromagnetic actuator to exert a force on the interface damping mass, and a controller to drive the electromagnetic actuator based on a signal provided by the sensor, the active damping subsystem including a reaction mass for the electromagnetic actuator to exert a counterforce upon based on the signal provided by the first sensor.

摘要翻译： 投影组件包括将图案化的辐射束投影到基板上的投影系统，用于抑制投影系统的振动的阻尼系统，阻尼系统包括界面阻尼块和主动阻尼子系统，以阻尼至少部分的振动 接口阻尼块的接口阻尼块，连接到投影系统的界面阻尼块，主动阻尼子系统包括用于测量接口阻尼块的位置的传感器，对接口阻尼块施加力的电磁致动器，以及控制器 基于由传感器提供的信号来驱动电磁致动器，主动阻尼子系统包括用于电磁致动器的反作用质量，以基于由第一传感器提供的信号施加反作用力。

公开(公告)号：US20090195763A1

公开(公告)日：2009-08-06

申请号：US12331870

申请日：2008-12-10

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Peter Paul Hempenius ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van Den Boogaert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Peter Paul Hempenius ,  Youssef Karel Maria De Vos ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Nicolaas Bernardus Roozen ,  Erwin Antonius Henricus Fransiscus Van Den Boogaert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/54

CPC分类号： G10K11/178 ,  G03B27/42 ,  G03F7/709 ,  G10K2210/129

摘要： A lithographic apparatus is arranged to transfer a pattern from a patterning device onto a substrate. The lithographic apparatus includes an acoustical sensor to measure a first acoustic vibration in a sensor measurement area in the lithographic apparatus. An actuator is provided to generate a second acoustic vibration in at least an area of the lithographic apparatus. Further, a control device is provided having a sensor input to receive a sensor signal of the acoustical sensor and an actuator output to provide an actuator drive signal to the actuator. The control device is arranged to drive the actuator so as to let the second acoustic vibration at least partly compensate in the area the first acoustic vibration.

摘要翻译： 光刻设备被布置成将图案从图案形成装置转印到基底上。 光刻设备包括用于测量光刻设备中传感器测量区域中的第一声振动的声学传感器。 提供致动器以在光刻设备的至少一个区域中产生第二声振动。 此外，提供了具有传感器输入以接收声学传感器的传感器信号和致动器输出以向致动器提供致动器驱动信号的控制装置。 控制装置被布置成驱动致动器，以使得第二声振动在该区域中至少部分地补偿第一声振动。

公开(公告)号：US20080308749A1

公开(公告)日：2008-12-18

申请号：US11812090

申请日：2007-06-14

申请人： Hans Butler

发明人： Hans Butler

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70808

摘要： A lithographic apparatus is disclosed having a projection system housing supporting internally one or more lens elements, and a movement damper connected to the projection system housing, the movement damper configured to damp movement of the projection system housing at an eigenfrequency of at least one of the one or more lens elements and/or of the projection system housing.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备，其具有在内部支撑一个或多个透镜元件的投影系统外壳和连接到投影系统外壳的运动阻尼件，所述运动阻尼器构造成以至少一个的本征频率来阻止投影系统壳体的运动 一个或多个透镜元件和/或投影系统外壳。

公开(公告)号：US07348752B1

公开(公告)日：2008-03-25

申请号：US11523736

申请日：2006-09-20

申请人： Hans Butler

发明人： Hans Butler

IPC分类号： H01J37/20

CPC分类号： G03F7/70758 ,  G03F7/70858

摘要： A stage apparatus and a lithographic apparatus comprising such a stage apparatus are described. The stage apparatus includes an electromagnetic motor arranged to displace an object table, an electromagnetic actuator configured to position the object table and a device configured to provide a current to the stage apparatus such that, in use, an effect of a stray field of the electromagnetic motor on the electromagnetic actuator is at least partly compensated by the current.

摘要翻译： 描述了包括这种平台装置的舞台装置和光刻装置。 平台装置包括布置成移动物体台的电磁马达，被配置为定位物体台的电磁致动器和被配置为向舞台装置提供电流的装置，使得在使用中电磁场的杂散场的效果 电磁致动器上的电机至少部分地被电流补偿。